蒸镀数据处理装置、有机el器件的制造装置以及制造方法
【专利摘要】本发明提供一种能够对在输送着的基材上连续形成的有机EL元件确认各结构层的蒸镀状况的蒸镀数据处理装置、有机EL器件的制造装置以及制造方法。蒸镀数据处理装置具有：读取装置，其用于读取构成各有机EL元件的多个结构层中的、至少两个以上的结构层；处理部，其进行将利用该读取装置读取到的、位于上述基材的长度方向的相同位置的各结构层的数据作为规定的有机EL元件的数据集中起来的处理。
【专利说明】蒸镀数据处理装置、有机EL器件的制造装置以及制造方法
[0001] 本申请主张日本特愿2012-52975号和日本特愿2013-30034号的优先权，通过引 用而将这些编入本申请说明书的记载。
【技术领域】
[0002] 本发明涉及用于对形成于基材的有机EL(电致发光）元件的蒸镀数据进行处理的 蒸镀数据处理装置。另外，本发明涉及用于制造有机EL器件的有机EL器件的制造装置，进 一步涉及有机EL器件的制造方法。
【背景技术】
[0003] 以往，作为有机EL器件的制造方法，公知有卷对卷工艺。该卷对卷工艺是这样的 工艺：连续地放出被卷取成了卷状的带状的基材并输送，而且，多个蒸镀源朝向输送着的基 材喷出气化材料，并使喷出来的气化材料蒸镀在基材的蒸镀面，由此，在基材上形成有机EL 元件的结构层，之后，将基材卷取成卷状（参照专利文献1)。
[0004] 专利文献1 :日本特开2008-287996号公报
【发明内容】
[0005] 发明要解决的问是页
[0006] 然而，在专利文献1的制造装置、制造方法中，因为多个蒸镀源连续喷出气化材 料，各结构层连续被层叠，所以无法完全掌握各结构层的蒸镀状况。因此，对于连续地形成 于输送着的基材上的有机EL元件，有想要确认规定的有机EL元件的各结构层的蒸镀状况 的要求。
[0007] 于是，本发明鉴于这样的情况，其课题在于，提供一种能够对连续地形成于输送着 的基材的有机EL元件确认各结构层的蒸镀状况的蒸镀数据处理装置、有机EL器件的制造 装置以及制造方法。
[0008] 用于解决问题的方案
[0009] 本发明的蒸镀数据处理装置是一种对通过在被输送的带状的基材上蒸镀气化材 料而沿上述基材的长度方向并列形成的多个有机EL元件的蒸镀数据进行处理的蒸镀数据 处理装置，其特征在于，该蒸镀数据处理装置具有：读取装置，其用于读取构成上述各有机 EL元件的多个结构层中的、至少2个以上的结构层；处理部，其进行将利用该读取装置读取 到的、位于上述基材的长度方向的相同位置的各结构层的数据作为规定的有机EL元件的 数据集中起来的处理。
[0010] 另外，本发明的有机EL器件的制造装置具有：输送装置，其用于输送上述基材；多 个蒸镀源，其用于将气化材料喷到被输送的上述基材上，通过将自上述各蒸镀源喷出来的 气化材料蒸镀到上述基材上，而形成由多个结构层构成的上述有机EL元件，其特征在于， 该有机EL器件的制造装置具有上述的蒸镀数据处理装置。
[0011] 另外，在本发明的有机EL器件的制造装置中，也可以是，该有机EL器件的制造装 置具有遮蔽装置，该遮蔽装置具有用于遮蔽上述基材的遮蔽构件，为了在上述基材的、作为 形成结构层的位置的结构层形成位置蒸镀气化材料，上述遮蔽构件具有使上述基材的上述 结构层形成位置暴露的第1开放部，为了形成成为上述读取装置读取结构层的契机的读取 契机部，进而为了在上述基材的、作为形成上述读取契机部的位置的契机部形成位置蒸镀 气化材料，上述遮蔽装置具有使上述基材的上述契机部形成位置暴露的第2开放部，上述 读取装置基于对上述读取契机部的检测来读取结构层。
[0012] 另外，在本发明的有机EL器件的制造装置中，也可以是，上述处理装置具有：蒸镀 控制部，其用于控制上述各蒸镀源喷出气化材料的情况；蒸镀检查部，其基于由上述读取装 置读取到的结构层的数据来检查该结构层的蒸镀状态，上述蒸镀控制部基于上述蒸镀检查 部的检查结果，使上述各蒸镀源停止喷出气化材料。
[0013] 另外，本发明的有机EL器件的制造方法的特征在于，利用上述的有机EL器件的制 造装置来制造有机EL器件。
【专利附图】
【附图说明】
[0014] 图1表示本发明的一实施方式的有机EL器件的制造装置的整体俯视图。
[0015] 图2表示该实施方式的有机EL器件的制造装置的主要部件俯视图。
[0016] 图3表示作为该实施方式的有机EL器件的制造装置的主要部件图的、规定的遮蔽 构件位于遮蔽位置的状态的俯视图。
[0017] 图4表示作为该实施方式的有机EL器件的制造装置的主要部件图的、规定的遮蔽 构件位于遮蔽位置的状态的纵剖视图。
[0018] 图5表示作为该实施方式的有机EL器件的制造装置的主要部件图的、规定的遮蔽 构件位于遮蔽位置的状态的侧面展开图。
[0019] 图6表示作为该实施方式的有机EL器件的制造装置的主要部件图的、规定的遮蔽 构件位于遮蔽解除位置的状态的俯视图。
[0020] 图7表示作为该实施方式的有机EL器件的制造装置的主要部件图的、规定的遮蔽 构件位于遮蔽解除位置的状态的纵剖视图。
[0021] 图8表示该实施方式的有机EL器件的制造装置的系统概要图。
[0022] 图9表示利用该实施方式的有机EL器件的制造装置制造出来的有机EL器件的主 要部件俯视图。
[0023] 图10表示该有机EL器件的、图9中的X-X线的放大剖视图。
[0024] 图11表示利用本发明的其他的实施方式的有机EL器件的制造装置制造出来的有 机EL器件的放大纵剖视图。
[0025] 图12表示本发明的其他的实施方式的有机EL器件的制造装置的主要部件侧面展 开图。
[0026] 图13表示利用该实施方式的有机EL器件的制造装置制造出来的有机EL器件的 主要部件俯视图。
【具体实施方式】
[0027] 以下，参照图1?图10,说明本发明的有机EL器件的制造装置的一实施方式。
[0028] 本实施方式的有机EL器件的制造装置（以下也简称为"制造装置"）100具有：真 空室1，其内部是真空；输送装置2,其以使带状的基材81通过真空室1的内部的方式沿长 度方向输送带状的基材81 ;蒸镀装置3,其将气化材料喷到作为被输送的基材81的一侧的 面的蒸镀面811 ;读取装置4,其用于读取构成各有机EL元件80的结构层；遮蔽装置5,其 用于遮蔽基材81 ;处理部6,其用于处理由读取装置4读取到的数据。
[0029] 另外，制造装置100具有用于处理沿基材81的长度方向并列地形成的多个有机EL 元件80的蒸镀数据的蒸镀数据处理装置（以下也简称为"处理装置"）101。处理装置101 由读取装置4、处理部6、例如像键盘、鼠标这样的用于输入各种数据的输入部71以及例如 像显示装置、打印机这样的用于输出被处理过的数据的输出部72构成。
[0030] 真空室1具有3个真空腔室11和为了使各真空腔室11的内部成为真空而与各真 空腔室11连接的真空发生装置（例如，真空泵）12。而且，各真空腔室11将各装置2、3、4、 5收容在内部。
[0031] 输送装置2具有：基材供给部21，其将被卷成了卷状的带状的基材81放出并进行 供给；多个支承辊22、23,其通过将基材81挂在外周部来支承基材81 ;基材回收部24,其将 基材81卷取成卷状并进行回收。另外，自始至终，基材81以蒸镀面811朝向侧方的状态被 输送。
[0032] 在多个支承辊22、23中设置有：第1筒辊?第3筒辊22,其在基材81被蒸镀装置 3蒸镀时支承基材81 ;多个输送辊23,其配置在基材供给部21、各筒辊22以及基材回收部 24之间。而且，多个支承辊22、23将基材81架起来。
[0033] 蒸镀装置3具有：第1蒸镀部31，其使气化材料朝向支承于第1筒辊22的基材81 蒸镀；第2蒸镀部32,其使气化材料朝向支承于第2筒辊22的基材81蒸镀；第3蒸镀部 33,其使气化材料朝向支承于第3筒辊22的基材81蒸镀。此外，各蒸镀部31?33是配置 在各筒辊22的侧方的横向蒸镀部。
[0034] 第1蒸镀部31具有通过使气化材料气化并喷出、而在基材81的蒸镀面811上形 成阳极层82(参照图10)的阳极层蒸镀源311。即，第1蒸镀部31形成构成阳极层82的、 一层的阳极层结构层。
[0035] 第2蒸镀部32具有：空穴注入层蒸镀源321，其通过使气化材料气化并喷出，而在 基材81的蒸镀面811上形成空穴注入层831 (参照图10);空穴输送层蒸镀源322,其配置 在比空穴注入层蒸镀源321靠下游的位置，通过使气化材料气化并喷出，而形成空穴输送 层832 (参照图10);发光层蒸镀源323,其配置在比空穴输送层蒸镀源322靠下游的位置， 通过使气化材料气化并喷出，而形成发光层833 (参照图10)。
[0036] 另外，第2蒸镀部32具有：电子输送层蒸镀源324,其配置在比发光层蒸镀源323 靠下游的位置，通过使气化材料气化并喷出，而形成电子输送层834 (参照图10);电子注入 层蒸镀源325,其配置在比电子输送层蒸镀源324靠下游的位置，通过使气化材料气化并喷 出，而形成电子注入层835 (参照图10)。即，第2蒸镀部32形成构成有机EL层83 (参照图 10)的、五层的有机EL层结构层。
[0037] 第3蒸镀部33具有通过使气化材料气化并喷出、而在基材81的蒸镀面811上形 成第1阴极层结构层?第3阴极层结构层841?843 (参照图10)的第1阴极层蒸镀源? 第3阴极层蒸镀源331?333。即，第3蒸镀部33形成构成阴极层84的、三层层叠体的阴 极层结构层。
[0038] 各蒸镀源311、321?325、331?333构成为，利用加热部（未图示和未标附图标 记）对收容于内部的材料进行加热而使其气化，而且，使气化了的材料（气化材料）从喷出 部的开口向基材81的蒸镀面811喷出。而且，各蒸镀源311、321?325、331?333为了横 向喷出气化材料，以喷出部的开口配置在侧部并且与基材81的蒸镀面811相对的方式配 置。
[0039] 另外，各蒸镀源311、321?325、331?333配置在靠近基材81的位置。具体而言， 各蒸镀源311、321?325、331?333配置在各蒸镀源311、321?325、331?333的喷出部 的开口与基材81之间的距离（最短距离）为10mm以下的位置。
[0040] 读取装置4具有用于读取基材81的蒸镀面811的规定区域的多个读取器41。另 夕卜，各读取器41分别配置于各蒸镀源311、321?325、331?333的下游侧。由此，读取装 置4利用各读取器41读取有机EL元件80的被各蒸镀源311、321?325、331?333蒸镀 而成的各结构层82、831?835、841?843的蒸镀状态（例如，蒸镀区域、蒸镀厚度等）。
[0041] 而且，各读取器41配置于各筒辊22的侧方，并且以与基材81的蒸镀面811相对 的方式配置。而且，各读取器41配置在靠近基材81的位置。此外，在本实施方式中，各读 取器41使用C⑶摄像机。
[0042] 如图2?图7所示，遮蔽装置5具有：多个遮蔽构件51，其用于遮蔽基材81 ;多个 切换机构52,其通过使各遮蔽构件51旋转移动，来切换各遮蔽构件51的位置。此外，在图 2中示出在第1筒辊22中设置的全部（六个）遮蔽构件51，但在图3?图7中，只图示特 定（1个）的遮蔽构件51。
[0043] 另外，在图2?图7中，图示在第1筒辊22设置的各遮蔽构件51和各切换机构 52,但在第2筒辊22和第3筒辊22设置的各遮蔽构件51和各切换机构52也是大致相同 的结构。此外，在本实施方式中，在第2筒辊22设置的各遮蔽构件51和各切换机构52分 别是10个。在第3筒辊23设置的各遮蔽构件51和各切换机构52分别是6个。
[0044] 各遮蔽构件51具有：遮蔽部511，其用于遮蔽基材81 ;第1开放部512,其为了使 气化材料蒸镀到基材81的规定位置（以下也称为"结构层形成位置"）而使结构层形成位 置暴露出来。另外，各遮蔽构件51具有与切换机构52相连的基部513。
[0045] 而且，各遮蔽构件51利用各切换机构52在遮蔽位置和遮蔽解除位置之间切换，遮 蔽位置是指遮蔽部511配置在蒸镀源311和基材81之间而将基材81遮蔽的位置，遮蔽解除 位置是指使遮蔽部511从蒸镀源311和基材81之间退避而解除对基材81的遮蔽的位置。 在本实施方式中，各遮蔽构件51使用所谓的翻转式遮蔽板。
[0046] 各遮蔽部511形成为带状（具体而言是矩形形状）并且形成为板状，而第1开放 部512在遮蔽部511的内部形成为矩形形状。另外，遮蔽部511在位于遮蔽位置的状态下， 与基材81分开地配置。例如，遮蔽部511与基材81之间的分开间隔优选1mm以下。
[0047] 另外，在遮蔽装置5中，各遮蔽构件51沿着筒辊22的周向并列，并且，位于遮蔽位 置的各遮蔽部511间彼此分开地配置，由此，形成有第2开放部5a。而且，遮蔽装置5借助 第2开放部5a使基材81的规定位置（以下也称为"契机部形成位置"）暴露出来。由此， 能将气化材料蒸镀在基材81的契机部形成位置，从而形成作为读取装置4读取结构层82、 831?835、841?843的契机的读取契机部85 (参照图10)。
[0048] 各切换机构52具有以与筒辊22 -体旋转的方式固定于筒辊22的主体部521。另 夕卜，各切换机构52具有：第1旋转体522,其以绕着与筒辊22的驱动轴221平行的轴旋转 的方式支承于主体部521 ;第2旋转体523,其以绕沿着与第1旋转体522的轴正交的方向 配置的轴旋转的方式支承于主体部521，并且受到第1旋转体522的驱动。
[0049] 而且，各切换机构52具有：第1连杆体524,其一端部与第1旋转体522的轴连结； 第2连杆体525,其一端部与第2旋转体523的轴连结并且另一端部与遮蔽构件51的基部 513连结。而且，各切换机构52具有：凸轮从动件526,其以能够旋转的方式安装于第1连 杆体524的另一端部；凸轮527,其与凸轮从动件526滑动接触。
[0050] 在各第1旋转体522和各第2旋转体523的内部，分别设置有磁性体。由此，各第 2旋转体523的磁性体自各第1旋转体522的磁性体受到磁力，因此，各第2旋转体523伴 随各第1旋转体522的旋转而旋转。此外，各第1旋转体522和各第2旋转体523分开配 置。
[0051] 凸轮527构成为圆板状。而且，凸轮527与用于驱动筒辊22的驱动轴221同心状 地配置。然而，凸轮527并不与驱动轴221和筒辊22 -体旋转，而被固定于真空腔室11。
[0052] 凸轮527具有：第1区域527a，其用于将遮蔽部511保持在遮蔽解除位置；第2区 域527b，其用于使遮蔽部511从遮蔽解除位置向遮蔽位置移动；第3区域527c，其用于将遮 蔽部511保持在遮蔽位置；第4区域527d，其用于使遮蔽部511从遮蔽位置向遮蔽解除位 置移动。
[0053] 而且，各切换机构52通过使遮蔽构件51以筒辊22的外周部的切线方向（与筒辊 22的驱动轴221正交的方向）为中心旋转，而使遮蔽部511与基材81接近、分开。此外，在 各切换机构52上设置有施力构件（未图7^和未标附图标记），以维持凸轮从动件526与凸 轮527的各区域（第1区域527a?第4区域527d)接触了的状态的方式进行施力。
[0054] 另外，在第1筒辊22中，筒辊22每旋转1圈时，以使遮蔽部511位于遮蔽位置和 遮蔽解除位置各1次的方式进行切换。为了读取装置4读取所有的结构层82、831?835、 841?843的蒸镀状况，各筒辊22每旋转1圈时，以使遮蔽部511位于遮蔽位置和遮蔽解除 位置分别与配置于筒辊22的蒸镀源311、321?325、341?343的数量相当的次数的方式 进行切换。
[0055] 具体而言，在第2筒辊22中，筒辊22每旋转1圈时，以使遮蔽部511位于遮蔽位 置和遮蔽解除位置各5次的方式进行切换。另外，在第3筒辊22中，第3筒辊22每旋转1 圈时，以使遮蔽部511位于遮蔽位置和遮蔽解除位置各3次的方式进行切换。而且，在遮蔽 部511位于遮蔽解除位置时，读取器41读取基材81的蒸镀面811。
[0056] 如图8所示，处理部6具有：输送控制部61，其用于控制输送装置2 ;蒸镀控制部 62,其用于控制蒸镀装置3 ;读取控制部63,其用于控制读取装置4。另外，处理部6具有： 蒸镀检查部64,其基于读取装置4读取到的数据检查蒸镀状况；集中处理部65,其用于将由 读取装置4读取到的数据集中起来。
[0057] 蒸镀控制部62用于控制各蒸镀源311、321?325、331?333喷出气化材料的情 况。而且，蒸镀控制部62基于蒸镀检查部64的检查结果使各蒸镀源311、321?325、331? 333停止喷出气化材料。具体而言，在蒸镀检查部64判断为规定的结构层形成位置的阳 极层82出现异常的情况下，使配置于阳极层蒸镀源311的下游侧的各蒸镀源321?325、 331?333停止向该结构层形成位置喷出气化材料。
[0058] 读取控制部63基于对基材81的读取契机部85进行检测的情况控制各读取器41， 以使各读取器41读取基材81的蒸镀面811。具体而言，为了在合适的位置读取结构层，读 取控制部63以这样的方式控制各读取器41 :在读取器41检测到读取契机部85后经过规 定时间时，使读取器41读取基材81的蒸镀面811。
[0059] 蒸镀检查部64具有：信息存储部641，其存储用于进行检查的蒸镀数据的信息；结 果判定部642,其用于比较信息存储部641的信息与利用读取装置4读取到的结构层的蒸 镀数据（例如，蒸镀区域、基于蒸镀浓度的蒸镀厚度等），并判定蒸镀状况是正常还是异常。 而且，蒸镀检查部64在判定为规定的结构层形成位置的蒸镀产生异常时，将该结构层形成 位置的信息送到蒸镀控制部62。
[0060] 集中处理部65进行将利用读取装置4读取到的、位于基材81的长度方向的相同 位置、即在相同的结构层形成位置的各结构层82、831?835、841?843的数据作为1个 有机EL元件80的数据集中起来的处理。由此，分别将各有机EL元件80的各结构层82、 831?835、841?843的数据汇总起来。
[0061] 本实施方式的有机EL器件的制造装置100是如上述那样形成，接着，参照图9和 图10说明利用本实施方式的有机EL器件的制造装置100制造出来的有机EL器件8的结 构。
[0062] 有机EL器件8具有：基材81 ;由一层构成的阳极层82 ;作为五层的层叠体的有机 EL层83 ;作为三层的层叠体的阴极层84。另外，有机EL器件8具有成为读取沿基材81的 长度方向并列地形成的多个有机EL元件80的各结构层82、831?835、841?843的契机 的读取契机部85。
[0063] 此外，基材81的各尺寸（宽度、厚度、长度）能够根据形成于基材81的有机EL元 件80的大小、制造装置100的结构等适当地设定，而并不特别限定。另外，各层82?84的 厚度通常设计为几 nm?几十nm左右，能够根据所使用的结构层形成材料、发光特性等进行 适当地设计，而不特别限定。
[0064] 作为基材81的形成材料，使用输送时不产生损伤那样具有挠性的材料。作为这样 的材料，例如能举出不锈钢、铜、铝或者钛这样的金属材料、薄膜玻璃这样的非金属无机材 料、作为聚酰亚胺树脂、聚酯树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯树脂或者 聚酰胺树脂这样的热固化性树脂、热塑性树脂的合成树脂材料。
[0065] 作为阳极层82的形成材料，能够举出金、银、铝等。此外，虽然本实施方式的阳极 层82采用了由1个阳极层结构层构成的结构，但并不限于该结构。例如，阳极层只要由1 个以上的阳极层结构层形成即可。
[0066] 有机EL层83是由5个有机EL层结构层构成的五层的层叠体。而且，5个有机EL 层结构层是从阳极层82侧依次为空穴注入层831、空穴输送层832、发光层833、电子输送层 834以及电子注入层835。
[0067] 作为空穴注入层831的形成材料，例如能够举出铜酞菁（CuPc)、4,4' -双 [N-4- (N，N-二-间甲苯基氨基）苯基]-N-苯基氨基联苯（DNTH))、HAT-CN等。
[0068] 作为空穴输送层832的形成材料，例如能够举出4, 4' -二[N-(l-萘基）N-苯基 氨基]-联苯（a-NPD)、N，N' -二苯基-Ν，Ν' -二（3-甲基苯基）-1，Γ -联苯_4,4' -二胺 (TTO)等。
[0069] 作为发光层833的形成材料，例如能够举出掺杂了三（8-羟基喹啉）铝（Alq3)、铱 络合物（Ir(ppy)3)的4,4' -N，N' -二咔唑联苯（CBP)等。
[0070] 作为电子注入层834的形成材料，例如能够举出氟化锂（LiF)、氟化铯（CsF)、氧化 锂（Li 20)等。
[0071] 作为电子输送层835的形成材料，例如能够举出三（8-羟基喹啉）铝（Alq3)、 二（2-甲基-8-羟基喹啉）-4-苯基苯酚-铝（BAlq)、0XD-7(1，3_二[5_(对叔丁基苯 基） -1，3,4-11惡二唑_2_基])苯、氣化裡（LiF)等。
[0072] 此外，本实施方式的有机EL层83采用由5个有机EL层结构层构成的结构，但并 不限于该结构。例如，有机EL层83只要由1个以上的有机EL层结构层形成即可。具体而 言，有机EL层83只要至少具有发光层833,就不特别限定其层结构。
[0073] 作为阴极层84的形成材料，能够举出含有镁（Mg)、银（Ag)等的合金、氟化锂 (LiF)等。而且，在本实施方式中，第1阴极层结构层是LiF层，第2阴极层形成层是Mg层， 第3阴极层结构层是Ag层。此外，本实施方式的阴极层84采用由3个阴极层结构层构成 的结构，但并不限于该结构。例如，阴极层只要由1个以上的阴极层结构层形成即可。
[0074] 读取契机部85配置在沿基材81的长度方向并列的多个有机EL元件80之间。而 且，读取契机部85以在基材81的长度方向上宽度比有机EL元件80宽度小的方式形成。
[0075] 如上所述，采用本实施方式的有机EL器件的制造装置100,读取装置4读取构成沿 基材81的长度方向并列形成的各有机EL元件80的、多个结构层82、831?835、841?843 的全部数据。而且，处理部6进行将由读取装置4读取到的、位于基材81的长度方向的相 同位置的各结构层82、831?835、841?843的数据作为规定的有机EL元件80的数据集 中起来的处理。
[0076] 由此，能够容易确认每个有机EL元件80的各结构层82、831?835、841?843的 数据。因此，能够对在输送着的基材81上连续形成的有机EL元件80确认规定的有机EL 元件80的各结构层82、831?835、841?843的蒸镀状况。
[0077] 另外，采用本实施方式的有机EL器件的制造装置100,在遮蔽装置5上设置有用于 遮蔽基材81的遮蔽构件51。而且，在遮蔽构件51上设置有第1开放部512,因此，使基材 81的、作为形成结构层的位置的结构层形成位置暴露出来。由此，在基材81的结构层形成 位置蒸镀气化材料，能够形成所希望的结构层82、831?835、841?843。
[0078] 另外，采用本实施方式的有机EL器件的制造装置100,在遮蔽装置5上，在遮蔽部 511之间的间隙设置有第2开放部5a，因此，能够使作为形成读取装置4读取结构层82、 831?835、841?843的契机的读取契机部85的位置的、基材81的契机部形成位置暴露出 来。
[0079] 由此，因为在基材81的契机部形成位置蒸镀气化材料，能够形成读取契机部85。 而且，读取装置4基于对读取契机部85进行检测的情况而读取结构层82、831?835、841? 843的数据，因此，各读取器41正确地识别结构层82、831?835、841?843的位置并读取 结构层82、831?835、841?843的数据。
[0080] 另外，采用本实施方式的有机EL器件的制造装置100,蒸镀检查部64基于由读取 装置4读取到的结构层82、831?835、841?843的数据，检查该结构层82、831?835、 841?843的蒸镀状态。而且，控制各蒸镀源311、321?325、331?333喷出气化材料的蒸 镀控制部62基于蒸镀检查部64的检查结果，使各蒸镀源311、321?325、331?333停止 喷出气化材料。
[0081] 由此，蒸镀检查部64在判断为规定的结构层82、831?835、841?843出现异常的 情况下，停止下游侧的蒸镀源321?325、331?333向该结构层82、831?835、841?842 的位置喷出气化材料，由此，能够实现提高气化材料的材料利用率（日文：材料歩合）。
[0082] 另外，采用本实施方式的有机EL器件的制造装置100,在蒸镀时，在基材81未产生 错位的情况下，遮蔽装置5的转动速度和支承辊（筒辊）22的旋转速度相等，进行气化材料 的蒸镀。与此相对，在产生基材81的错位的情况下，读出该错位，并且与该错位相应地改变 遮蔽装置5的转动速度，由此，能够修正该错位带来的影响。
[0083] 另外，本发明的蒸镀数据处理装置、有机EL器件的制造装置以及制造方法并不限 于上述的实施方式，能够在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种变更是理所当然的。另 夕卜，任意选择下述的各种的变更例的结构、方法等，采用上述的实施方式的结构、方法等也 是理所当然的。
[0084] 例如，在本发明的各装置和制造方法中，在第1蒸镀部31的下游具有边缘覆盖蒸 镀部，在第3蒸镀部33的下游具有密封层蒸镀部。由此，如图11所示，在所制造出的有机 EL器件8上，为了防止阳极层82和阴极层84接触，也可以形成用于覆盖阳极层82的周围 的边缘覆盖86,为了防止各层82?84与空气接触，可以形成用于覆盖各层82?84的密封 层87。
[0085] 作为该边缘覆盖86的形成材料，能够举出氧化硅（SiOx)、三氧化钥（M〇0 3)、五氧化 二钥;（v；A)等。
[0086] 作为该密封层87的形成材料，能够举出三氧化钥（M〇03)、氮氧化硅（SiN0 x)、碳氧 化硅（SiOC)等。此外，作为SiOx，例如能够举出5102等，作为SiN0 x，例如能够举出SiNO等。
[0087] 另外，在上述实施方式的各装置100、101和制造方法中，说明了由各遮蔽部511之 间的间隙形成第2开放部5a的结构，但并不限于该结构。例如，如图12所示，可以是在各 遮蔽构件51上设置第2开放部514的结构。此外，在图12中，表示各遮蔽构件51位于遮 蔽位置的状态。
[0088] 而且，如图12所示，可以是第2开放部514在每个遮蔽构件51上是不同的形状的 结构。如图13所示，采用该结构，读取契机部85在6个遮蔽部511 (511a?511f)的每个遮 蔽部上形成为不同形状，因此，在蒸镀检查部64判定为规定的结构层82、831?835、841? 843的蒸镀状况发生异常的情况下，能够指定使异常发生的遮蔽构件51 (511a?51 If)。
[0089] 另外，在上述实施方式的各装置100U01和制造方法中，说明了通过使气化材料 蒸镀到基材81上、而形成读取契机部85的结构，但并不限于该结构。例如，也可以是，在从 基材供给部21所供给的基材81上事先粘贴标签等。
[0090] 另外，在上述实施方式的各装置100、101和制造方法中，说明了遮蔽部511旋转的 翻转式遮蔽板的结构，但并不限于该结构。例如，既可以是，遮蔽装置5通过使遮蔽部511 沿规定方向滑动、而在遮蔽位置和遮蔽解除位置之间切换遮蔽部511的结构，另外，也可以 是，遮蔽装置5与基材81面对面紧密接触并且与基材81 -体地被输送的带状的阴影掩模 的结构。
[0091] 另外，在上述实施方式的各装置100、101和制造方法中，说明了读取装置4是读取 所有的结构层82、831?835、841?843的结构，但并不限于该结构。例如，读取装置4可 以是读取至少2个以上的结构层的结构。
[0092] 附图标记说明
[0093] 1、真空室；2、输送装置；3、蒸镀装置；4、读取装置；5、遮蔽装置；5a、第2开放部； 6、处理部；8、有机EL器件；11、真空腔室；12、真空发生装置；21、基材供给部；22、支承辊 (筒辊）；23、支承辊（输送辊）；24、基材回收部；31，32,33、蒸镀部；41、读取器；51、遮蔽构 件；52、切换机构；61、输送控制部；62、蒸镀控制部；63、读取控制部；64、蒸镀检查部；65、 集中处理部；71、输入部；72、输出部；80、有机EL元件；81、基材；82、阳极层；83、有机EL 层；84、阴极层；85、读取契机部；86、边缘覆盖；87、密封层；100、有机EL器件的制造装置； 101、蒸镀数据处理装置；221、驱动轴；311，321，322,323,324,325,331，332,333、蒸镀源； 511、遮蔽部；512、第1开放部；513、基部；514、第2开放部；521、主体部；522、第1旋转体； 523、第2旋转体；524、第1连杆体；525、第2连杆体；526、凸轮从动件；527、凸轮；527a、第1 区域；527b、第2区域；527c、第3区域；527d、第4区域；641、信息存储部；642、结果判定部； 811、蒸镀面；831、空穴注入层；832、空穴输送层；833、发光层；834、电子输送层；835、电子 注入层；841，842,843、阴极层结构层。
【权利要求】
1. 一种蒸镀数据处理装置，其对通过在被输送的带状的基材上蒸镀气化材料而沿上述 基材的长度方向并列形成的多个有机EL元件的蒸镀数据进行处理，其特征在于， 该蒸镀数据处理装置具有： 读取装置，其用于读取构成上述各有机EL元件的多个结构层中的、至少2个以上的结 构层；处理部，其进行将利用该读取装置读取到的、位于上述基材的长度方向的相同位置的 各结构层的数据作为规定的有机EL元件的数据集中起来的处理。
2. -种有机EL器件的制造装置，其具有：输送装置，其用于输送上述基材；多个蒸镀 源，其用于将气化材料喷到被输送的上述基材上，通过将自上述各蒸镀源喷出来的气化材 料蒸镀到上述基材上，而形成由多个结构层构成的上述有机EL元件，其特征在于， 该有机EL器件的制造装置具有权利要求1所述的蒸镀数据处理装置。
3. 根据权利要求2所述的有机EL器件的制造装置，其特征在于， 该有机EL器件的制造装置具有遮蔽装置，该遮蔽装置具有用于遮蔽上述基材的遮蔽 构件， 为了在上述基材的、作为形成结构层的位置的结构层形成位置蒸镀气化材料，上述遮 蔽构件具有使上述基材的上述结构层形成位置暴露的第1开放部， 为了形成成为上述读取装置读取结构层的契机的读取契机部，进而为了在上述基材 的、作为形成上述读取契机部的位置的契机部形成位置蒸镀气化材料，上述遮蔽装置具有 使上述基材的上述契机部形成位置暴露的第2开放部， 上述读取装置基于对上述读取契机部的检测来读取结构层。
4. 根据权利要求2或3所述的有机EL器件的制造装置，其特征在于， 上述处理装置具有：蒸镀控制部，其用于控制上述各蒸镀源喷出气化材料的情况；蒸 镀检查部，其基于由上述读取装置读取到的结构层的数据来检查该结构层的蒸镀状态， 上述蒸镀控制部基于上述蒸镀检查部的检查结果，使上述各蒸镀源停止喷出气化材 料。
5. -种有机EL器件的制造方法，其特征在于， 利用权利要求2?4中任一项所述的有机EL器件的制造装置来制造有机EL器件。
【文档编号】H05B33/12GK104160784SQ201380013335
【公开日】2014年11月19日 申请日期:2013年3月5日 优先权日:2012年3月9日
【发明者】垣内良平, 山本悟, 山野隆义 申请人:日东电工株式会社