一种铝基板加工工艺的制作方法

文档序号:8094043阅读:594来源:国知局
一种铝基板加工工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种铝基板加工工艺,其具体步骤如下:开料:表面除油;阳极氧化;清洗烘干;涂偶联剂;烘干;叠板压合;剪边;一次钻孔;印湿膜;一次预烘;一次曝光;一次显影;蚀刻;去膜;印阻焊白油;二次预烘;二次曝光;二次显影;二次钻孔;在超声波清洗机中用酸性清洗液清洗经过二次钻孔的基板,清洗40-50秒后,取出后,水洗,然后过冷风,再过81-85℃的热风烘干,然后在线路面用热压辊贴中粘度保护膜;数控钻铣外形、检验出货。本发明具有工艺成熟、成品使用寿命长等优点。
【专利说明】一种铝基板加工工艺

【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种铝基板加工工艺,应用于铝基板的加工制造领域。

【背景技术】
[0002] 随着电子技术的发展和进步,电子产品向轻、薄、小、个性化、高可靠性、多功能化 已成为必然趋势,铝基板顺应此趋势而诞生,但是现有的铝基板产品加工工艺比较简单而 且不成熟,造成生产出的铝基板的导热系数、耐压值和热阻值等均不是很好,使用寿命也就 随之变短。


【发明内容】

[0003] 为解决现有技术方案的缺陷,本发明公开了一种成品寿命长、工艺成熟的铝基板 加工工艺。
[0004] 本发明公开了一种铝基板加工工艺,其具体步骤如下: 步骤1 :开料:将大尺寸的原料板利用开料机剪切成333*505 mm特定尺寸的铝材; 步骤2 :表面除油:在温度为25°C的条件下用浓度为15% -25%的NaOH的水溶液浸 泡铝材20分钟; 步骤3 :阳极氧化:将除油后的铝材放在浓度为25% -30%的H2S04水溶液中,在温 度为22-24°C、电流密度为2-5A/dm2的条件下进行25分钟的阳极氧化; 步骤4 :清洗烘干:用清水清洗阳极氧化后的铝材,再放在烘干机上烘干,烘干温度为 85-95。。; 步骤5:涂偶联剂:用环氧基偶联剂KH-550涂覆在铝材的一面; 步骤6 :烘干:将涂覆完偶联剂的铝材置于烘箱中烘烤15分钟,温度为170°C ; 步骤7:叠板压合:利用铝基板真空压合机在压力为6-12Kg/ cm2、温度为185-188°C 的条件下按照铜箔、绝缘层、铝材的顺序进行压合; 步骤8:剪边:按照步骤1的尺寸,用开料机将压合后的压板材边缘部分去除; 步骤9 :一次钻孔:用定位销进行定位,利用数控钻床进行外围工具孔钻孔,孔径为 2mm ; 步骤10 :印湿膜:用丝网印刷的方法,在二次刷板后的覆铜板表面铜箔上均匀涂覆一 层感光湿膜; 步骤11:一次预烘:将印好湿膜的覆铜板放置在烘箱中烘烤,烘烤温度75°C,时间为 25分钟; 步骤12:-次曝光:将预先光绘好的线路底片覆盖在预烘后的覆铜板上,用8KW紫外 曝光机曝光,能量设定值为350毫焦; 步骤13: -次显影:将一次曝光后的覆铜板经过显影机显影,其中,显影液 1.5%-2. 5%无水碳酸钠,温度为29-31°C,时间为1分钟,喷淋压力为l-5Kg/cm2; 步骤14 :蚀刻:用酸性氯化铜蚀刻液将没有被湿膜覆盖的铜层腐蚀掉,保留需要的线 路铜箔,其中蚀刻液中铜含量为60-160g/l,酸量为2-3N,氧化还原电位为500mv,温度为 50-52。。; 步骤15 :去膜:用浓度为4%的氢氧化钠溶液将蚀刻后的线路表面湿膜清除干净; 步骤16 :印阻焊白油:用丝网印刷的方法,在线路基板表面均匀涂覆一层感光阻焊白 油; 步骤17:二次预烘:将印好阻焊白油的的线路基板放置在烘箱中烘烤,烘烤温度 75°C,时间为25分钟; 步骤18 :二次曝光:将预先光绘好的阻焊底片,覆盖在二次预烘后的线路基板上,用 8KW紫外曝光机曝光,能量设定值为950毫焦; 步骤19:二次显影:将二次曝光后的线路基板经过显影机显影,显影液1.5%-2. 5% 无水碳酸钠,温度为29-31°C,时间为1分钟,喷淋压力为l-5Kg/c m2 ; 步骤20 :二次钻孔:用定位销钉加真空吸盘联合定位后,用数控钻床完成板内钻孔加 工; 步骤21 :在超声波清洗机中用酸性清洗液清洗经过二次钻孔的基板,清洗40-50秒后, 取出后,水洗,然后过冷风,再过81-85°C的热风烘干,然后在线路面用热压辊贴中粘度保 护膜; 步骤22 :数控钻铣外形、检验出货。
[0005] 本发明所述的铝基板加工工艺步骤详细周密,而且每一步功能都不重合,工艺比 较成熟,同时通过在步骤9的一次钻孔和步骤20的二次钻孔之间增加了步骤10-19,而不是 一次钻孔后直接进行二次钻孔,加工出的铝基板成品导热系数、耐压值和热阻值均比较好, 这也就直接延长了铝基板的使用寿命。

【具体实施方式】
[0006] 本发明公开了一种铝基板加工工艺,其具体步骤如下: 步骤1 :开料:将大尺寸的原料板利用开料机剪切成333*505 mm特定尺寸的铝材; 步骤2 :表面除油:在温度为25°C的条件下用浓度为15% -25%的NaOH的水溶液浸 泡铝材20分钟; 步骤3 :阳极氧化:将除油后的铝材放在浓度为25% -30%的H2S04水溶液中,在温 度为22-24°C、电流密度为2-5A/dm2的条件下进行25分钟的阳极氧化; 步骤4 :清洗烘干:用清水清洗阳极氧化后的铝材,再放在烘干机上烘干,烘干温度为 85-95。。; 步骤5:涂偶联剂:用环氧基偶联剂KH-550涂覆在铝材的一面; 步骤6 :烘干:将涂覆完偶联剂的铝材置于烘箱中烘烤15分钟,温度为170°C ; 步骤7:叠板压合:利用铝基板真空压合机在压力为6-12Kg/ cm2、温度为185-188°C 的条件下按照铜箔、绝缘层、铝材的顺序进行压合; 步骤8:剪边:按照步骤1的尺寸,用开料机将压合后的压板材边缘部分去除; 步骤9 :一次钻孔:用定位销进行定位,利用数控钻床进行外围工具孔钻孔,孔径为 2mm ; 步骤10 :印湿膜:用丝网印刷的方法,在二次刷板后的覆铜板表面铜箔上均匀涂覆一 层感光湿膜; 步骤11:一次预烘:将印好湿膜的覆铜板放置在烘箱中烘烤,烘烤温度75°C,时间为 25分钟; 步骤12:-次曝光:将预先光绘好的线路底片覆盖在预烘后的覆铜板上,用8KW紫外 曝光机曝光,能量设定值为350毫焦; 步骤13: -次显影:将一次曝光后的覆铜板经过显影机显影,其中,显影液 1. 5% -2. 5%无水碳酸钠,温度为29-31°C,时间为1分钟,喷淋压力为l-5Kg/c m2 步骤14 :蚀刻:用酸性氯化铜蚀刻液将没有被湿膜覆盖的铜层腐蚀掉,保留需要的线 路铜箔,其中蚀刻液中铜含量为60-160g/l,酸量为2-3N,氧化还原电位为500mv,温度为 50-52。。; 步骤15 :去膜:用浓度为4%的氢氧化钠溶液将蚀刻后的线路表面湿膜清除干净; 步骤16 :印阻焊白油:用丝网印刷的方法,在线路基板表面均匀涂覆一层感光阻焊白 油; 步骤17:二次预烘:将印好阻焊白油的的线路基板放置在烘箱中烘烤,烘烤温度 75°C,时间为25分钟; 步骤18 :二次曝光:将预先光绘好的阻焊底片,覆盖在二次预烘后的线路基板上,用 8KW紫外曝光机曝光,能量设定值为950毫焦; 步骤19:二次显影:将二次曝光后的线路基板经过显影机显影,显影液1.5%-2. 5% 无水碳酸钠,温度为29-31°C,时间为1分钟,喷淋压力为l-5Kg/c m2 ; 步骤20 :二次钻孔:用定位销钉加真空吸盘联合定位后,用数控钻床完成板内钻孔加 工; 步骤21 :在超声波清洗机中用酸性清洗液清洗经过二次钻孔的基板,清洗40-50秒后, 取出后,水洗,然后过冷风,再过81-85°C的热风烘干,然后在线路面用热压辊贴中粘度保 护膜; 步骤22 :数控钻铣外形、检验出货。
[〇〇〇7] 实施例1 本发明公开了一种铝基板加工工艺,其具体步骤如下: 步骤1 :开料:将大尺寸的原料板利用开料机剪切成333*505 mm特定尺寸的铝材; 步骤2:表面除油:在温度为25°C的条件下用浓度为25%的NaOH的水溶液浸泡铝材 20分钟; 步骤3:阳极氧化:将除油后的铝材放在浓度为25%的H2S04水溶液中,在温度为 24°C、电流密度为5A/dm2的条件下进行25分钟的阳极氧化; 步骤4 :清洗烘干:用清水清洗阳极氧化后的铝材,再放在烘干机上烘干,烘干温度为 90 °C ; 步骤5:涂偶联剂:用环氧基偶联剂KH-550涂覆在铝材的一面; 步骤6 :烘干:将涂覆完偶联剂的铝材置于烘箱中烘烤15分钟,温度为170°C ; 步骤7 :叠板压合:利用铝基板真空压合机在压力为12Kg/ cm2、温度为185°C的条件 下按照铜箔、绝缘层、铝材的顺序进行压合; 步骤8:剪边:按照步骤1的尺寸,用开料机将压合后的压板材边缘部分去除;
【权利要求】
1. 一种铝基板加工工艺,其特征在于:其具体步骤如下: 步骤1 :开料:将大尺寸的原料板利用开料机剪切成333*505 mm特定尺寸的铝材; 步骤2 :表面除油:在温度为25°C的条件下用浓度为15% -25%的NaOH的水溶液浸 泡铝材20分钟; 步骤3 :阳极氧化:将除油后的铝材放在浓度为25% -30%的H2S04水溶液中,在温 度为22-24°C、电流密度为2-5A/dm2的条件下进行25分钟的阳极氧化; 步骤4 :清洗烘干:用清水清洗阳极氧化后的铝材,再放在烘干机上烘干,烘干温度为 85-95。。; 步骤5:涂偶联剂:用环氧基偶联剂KH-550涂覆在铝材的一面; 步骤6 :烘干:将涂覆完偶联剂的铝材置于烘箱中烘烤15分钟,温度为170°C ; 步骤7:叠板压合:利用铝基板真空压合机在压力为6-12Kg/ cm2、温度为185-188°C 的条件下按照铜箔、绝缘层、铝材的顺序进行压合; 步骤8:剪边:按照步骤1的尺寸,用开料机将压合后的压板材边缘部分去除; 步骤9 :一次钻孔:用定位销进行定位,利用数控钻床进行外围工具孔钻孔,孔径为 2mm ; 步骤10 :印湿膜:用丝网印刷的方法,在二次刷板后的覆铜板表面铜箔上均匀涂覆一 层感光湿膜; 步骤11:一次预烘:将印好湿膜的覆铜板放置在烘箱中烘烤,烘烤温度75°C,时间为 25分钟; 步骤12:-次曝光:将预先光绘好的线路底片覆盖在预烘后的覆铜板上,用8KW紫外 曝光机曝光,能量设定值为350毫焦; 步骤13 : -次显影:将一次曝光后的覆铜板经过显影机显影,其中,显影液 1. 5% -2. 5%无水碳酸钠,温度为29-31°C,时间为1分钟,喷淋压力为l-5Kg/c m2 ; 步骤14 :蚀刻:用酸性氯化铜蚀刻液将没有被湿膜覆盖的铜层腐蚀掉,保留需要的线 路铜箔,其中蚀刻液中铜含量为60-160g/l,酸量为2-3N,氧化还原电位为500mv,温度为 50-52。。; 步骤15 :去膜:用浓度为4%的氢氧化钠溶液将蚀刻后的线路表面湿膜清除干净; 步骤16 :印阻焊白油:用丝网印刷的方法,在线路基板表面均匀涂覆一层感光阻焊白 油; 步骤17:二次预烘:将印好阻焊白油的的线路基板放置在烘箱中烘烤,烘烤温度 75°C,时间为25分钟; 步骤18 :二次曝光:将预先光绘好的阻焊底片,覆盖在二次预烘后的线路基板上,用 8KW紫外曝光机曝光,能量设定值为950毫焦; 步骤19:二次显影:将二次曝光后的线路基板经过显影机显影,显影液1.5%-2. 5% 无水碳酸钠,温度为29-31°C,时间为1分钟,喷淋压力为l-5Kg/c m2 ; 步骤20 :二次钻孔:用定位销钉加真空吸盘联合定位后,用数控钻床完成板内钻孔加 工; 步骤21 :在超声波清洗机中用酸性清洗液清洗经过二次钻孔的基板,清洗40-50秒后, 取出后,水洗,然后过冷风,再过81-85°C的热风烘干,然后在线路面用热压辊贴中粘度保 护膜; 步骤22 :数控钻铣外形、检验出货。
【文档编号】H05K3/00GK104105348SQ201410265434
【公开日】2014年10月15日 申请日期:2014年6月16日 优先权日:2014年6月16日
【发明者】张龙 申请人:张龙
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