一种专用超轻光学离型膜结构的制作方法

文档序号:10992675阅读:582来源:国知局
一种专用超轻光学离型膜结构的制作方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种专用超轻光学离型膜结构,属于离型膜技术领域,包括基材层和离型剂层,还包括防静电层、底涂层和硅油层,所述的防静电层、基材层、离型剂层、底涂层和硅油层自上而下依次贴合,所述的离型剂层的上表面设有若干个凸台状凹凸结构。本实用新型的有益效果为:结构简单,具有低雾度和高透光率、表面光洁度高、厚度公差小等出色的光学性能,剥离力为且离型力稳定、离型平整。
【专利说明】
一种专用超轻光学离型膜结构
技术领域
[0001]本实用新型涉及离型膜技术领域,尤其涉及一种专用超轻光学离型膜结构。
【背景技术】
[0002]光学级产品所用的高端离型膜需要在千级或万级无尘车间生产,对涂布设备要求精确度高,对环保认证严格,进入门槛较高。应用于屏内的OCA光学胶对离型膜的要求比传统离型膜更为苛刻,它不仅需要其表面平整度高,而且要保证其初始离型力与老化离型力差别不大、膜面公差小、残余接着力大等诸多要求。
[0003]中国公开专利,公开号:CN205219956 U,曾公开了一种OCA光学离型膜,其特征在于,在基材层的一侧涂覆防静电层,底涂层涂覆在基材层的另一侧,所述底涂层的另一侧涂覆有硅油层。该离型膜离型力稳定,且离型非常平整,但是,这种离型膜厚度大,剥离力高且透光率不佳。

【发明内容】

[0004]本实用新型提供了一种专用超轻光学离型膜结构,结构简单,具有低雾度和高透光率、表面光洁度高、厚度公差小等出色的光学性能,剥离力为且离型力稳定、离型平整。
[0005]为解决上述技术问题,本实用新型提供了一种专用超轻光学离型膜结构,包括基材层和离型剂层,其特征在于,还包括防静电层、底涂层和硅油层,所述的防静电层、基材层、离型剂层、底涂层和硅油层自上而下依次贴合,所述的离型剂层的上表面均匀设有凹凸结构;所述的防静电层由聚苯撑乙烯、粘合剂树脂和防粘连剂组成,其通过在线涂布方式与基材层的上表面复合,涂布液的稀释剂选择去离子水。
[0006]作为本实用新型的一个优选的技术方案,所述的基材层为PET光学级聚酯薄膜,其厚度为10_15μπι。
[0007]作为本实用新型的一个优选的技术方案,所述的离型剂层为聚硅氧烷、甲基甲氧基硅氧烷、第二类过渡金属和甲苯做成的离型剂层,其剥离力在l_5g。
[0008]作为本实用新型的一个优选的技术方案,所述的离型剂层、底涂层和硅油层的涂布方式为凹辊涂布,固化方式为热固化、光固化或光热混合固化。
[0009]本申请实施例中提供的一个或多个技术方案,至少具有如下技术效果或优点:
[0010]结构简单,具有低雾度和高透光率、表面光洁度高、厚度公差小等出色的光学性能,剥离力为且离型力稳定、离型平整。
【附图说明】
[0011]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0012]图1是本申请实施例的结构示意图。
[0013]图1中,1、防静电层,2、基材层,3、离型剂层,4、底涂层,5、硅油层。
【具体实施方式】
[0014]本实用新型提供了一种专用超轻光学离型膜结构,结构简单,具有低雾度和高透光率、表面光洁度高、厚度公差小等出色的光学性能,剥离力为且离型力稳定、离型平整。
[0015]为了更好的理解上述技术方案,下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。
[0016]如图1所示,本实施例所述的一种专用超轻光学离型膜结构,包括基材层2和离型剂层3,其特征在于,还包括防静电层1、底涂层4和硅油层5,所述的防静电层1、基材层2、离型剂层3、底涂层4和硅油层5自上而下依次贴合。
[0017]其中,在实际应用中,所述的防静电层I为聚苯撑乙烯、粘合剂树脂和防粘连剂组成,其通过在线涂布方式与基材层2的上表面复合,涂布液的稀释剂选择去离子水,该防静电层I加工工艺稳定,具有优异的透明性和良好的附着性,表面电阻小于108Ω cm。
[0018]其中,在实际应用中,所述的基材层2为PET光学级聚酯薄膜,其厚度为10_15μπι,透光率高且厚度小。
[0019]其中,在实际应用中,所述的离型剂层3为聚硅氧烷、甲基甲氧基硅氧烷、第二类过渡金属和甲苯做成的离型剂层,其剥离力在l_5g,形成的离型层残余接着力高,初始离型力平稳且膜面公差范围小。
[0020]其中,在实际应用中,所述的离型剂层3的上表面均匀设有凹凸结构,可提高与基材层2的附着力,该结构可以是波峰状结构或凸点状结构或其他凹凸结构。
[0021]其中,在实际应用中,所述的离型剂层3、底涂层4和硅油层5的涂布方式为凹辊涂布,固化方式为热固化、光固化或光热混合固化,采用该种方式操作控制方便,且涂布固化效果好,各个涂层表面平整度高。
[0022]以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制,虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本实用新型,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
【主权项】
1.一种专用超轻光学离型膜结构,包括基材层(2)和离型剂层(3),其特征在于,还包括防静电层(I)、底涂层(4)和硅油层(5),所述的防静电层(I)、基材层(2)、离型剂层(3)、底涂层(4)和硅油层(5)自上而下依次贴合,所述的离型剂层(3)的上表面均匀设有凹凸结构;所述防静电层(I)由聚苯撑乙烯、粘合剂树脂和防粘连剂组成,其通过在线涂布方式与基材层(2)的上表面复合,涂布液的稀释剂为去离子水。2.根据权利要求1所述的一种专用超轻光学离型膜结构,其特征在于,所述的基材层(2)为PET光学级聚酯薄膜,其厚度为10-15μπι。3.根据权利要求1所述的一种专用超轻光学离型膜结构,其特征在于,所述的离型剂层(3)为聚硅氧烷、甲基甲氧基硅氧烷、第二类过渡金属和甲苯做成的离型剂层,其剥离力在l-5g04.根据权利要求1所述的一种专用超轻光学离型膜结构,其特征在于,所述的离型剂层(3)、底涂层(4)和硅油层(5)的涂布方式为凹辊涂布,固化方式为热固化、光固化或光热混合固化。
【文档编号】B32B27/30GK205685902SQ201620530141
【公开日】2016年11月16日
【申请日】2016年6月3日 公开号201620530141.9, CN 201620530141, CN 205685902 U, CN 205685902U, CN-U-205685902, CN201620530141, CN201620530141.9, CN205685902 U, CN205685902U
【发明人】白有洵
【申请人】深圳泰得思科技有限公司
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1