技术总结
本发明公开了一种用于磁共振成像的纳米Gd‑MOFs的制备方法。该纳米Gd‑MOFs的制备方法包括如下步骤：(1)将金属盐、配体与终止剂溶于溶剂后混合，得到混合溶液；(2)将得到的混合溶液室温搅拌后，置于水浴中搅拌反应，然后放于烘箱中静置，经过离心、清洗后，用溶剂分散保存，得到油相分散的Gd‑MOFs；(3)取一定量步骤(2)得到的Gd‑MOFs离心去除溶剂后，使用含有三乙胺的乙醇溶液改性，最后分散在水中，得到用于磁共振成像纳米Gd‑MOFs。与现有技术相比，本发明制备工艺简单，反应条件温和。本发明制备的纳米Gd‑MOFs粒径在45~60nm之间，呈现类球形，粒度分布均匀，更适合细胞吞噬；在超高场强11.7T测得横向驰豫率r2为96.8mM‑1•s‑1，磁豫率高；克服了纳米Gd‑MOFs细胞毒性高的缺点；在Gd浓度为0.4mmol/L以下时，细胞密堆积T2加权成像效果明显。
技术研发人员：梁文懂;周磊;张海禄
受保护的技术使用者：武汉科技大学
文档号码：201710088589
技术研发日：2017.02.20
技术公布日：2017.06.13