技术总结
本实用新型公开了一种静电干法循环施釉装置，包括分釉箱，涉及陶瓷制品生产设备领域，其包括高压静电筒、空压机、脉冲控制仪、循环回收设备、工作台、传输带、防护罩以及托架，所述分釉箱外壁与所述高压静电筒外壁设置支撑杆，所述支撑杆另一端设置伸缩架；所述进气管上设置电磁阀，所述脉冲控制仪通过导线与电磁阀连接；所述防护罩包括两组相对称的由外门、内门、滑轨组成的罩门以及罩壁；所述循环回收设备与所述防护罩内部连接，所述循环回收设备内设置静电消除器。本实用新型提供了一种可根据施釉工作状态进行调整的静电干法循环施釉装置，保障静电干法施釉过程的密闭性，可有效防止釉粉泄漏，同时避免循环回收的釉粉带有静电。
技术研发人员：陈星辉;陈新文;姚春生;陈洪水;况桂林
受保护的技术使用者：江西金阳陶瓷有限公司
技术研发日：2017.12.26
技术公布日：2018.09.25