专利名称：减压干燥装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种将抗蚀剂液等涂敷液涂敷在用于液晶显示器(LCD)等的基板上之后，在减压状态下对该涂敷液实施干燥处理的减压干燥装置。
背景技术：
在制造液晶显示器(LCD)时，为了在LCD用的玻璃制基板(以下简称为LCD基板)上形成电极图案，采用光刻(photolithography)技术。利用光刻法形成图案时，按照如下顺序进行首先，在玻璃制的LCD基板上涂敷抗蚀剂液，形成抗蚀剂膜，接着，以与电路图案对应的方式将抗蚀剂膜曝光，然后，对其进行显影处理。
在光刻技术中，为了使抗蚀剂液干燥，将涂敷有抗蚀剂液的LCD基板搬入加热装置并进行预烘焙处理，但是，在加热装置中，为了避免LCD基板与加热板直接接触，通常通过在加热板上突出设置的销将LCD基板配置在加热板上。因此，存在销的痕迹被转印到抗蚀剂膜上的问题。因此，为了防止这样的转印，已提出在减压状态下将涂敷在基板上的抗蚀剂液干燥到某种程度，然后，利用加热装置进行干燥，以避免急剧的干燥的技术(例如参照专利文献1)。
进行这种减压干燥处理的装置可使用具备由上部腔室和下部腔室构成的腔室、设置在腔室内用于载置LCD基板的载置台、和对腔室内进行排气以减压的减压机构的装置(例如参照专利文献2、3)。在该减压干燥装置中，在将上部腔室和下部腔室密合的状态下实施减压干燥处理，在搬入搬出LCD基板时，利用起重机等使上部腔室上升，打开腔室，然后再利用适当的驱动机构使载置台上升。
另外，在该减压干燥装置中，利用致动器(actuator)或机械手抓住后，将处理前的LCD基板搬送到载置台上，并且将处理后的LCD基板搬离载置台，所以，通过由在载置台上突出设置的销支撑LCD基板的端部，将该基板载置在载置台上，使得利用致动器或机械手抓住LCD基板变得容易。
专利文献1日本特开2000-106341号公报专利文献2日本特开2000-181079号公报专利文献3日本特开2004-241702号公报可是，LCD基板向大型化发展，最近，以至于出现了边长2m的巨大基板，与此相伴，上述减压干燥装置也显著大型化。因此，在上述减压干燥装置中，在搬入搬出LCD基板时，必须使重量非常大的上部腔室上升，存在安全上的问题。另外，使这样重量非常大的上部腔室上升时，上部腔室在升降动作时产生的振动变大，该振动传递给配置在上述减压干燥装置附近的涂敷抗蚀剂液的涂敷装置，有可能导致抗蚀剂液的膜厚不均匀。
而且，LCD基板大型化时，难以仅通过设置在其端部的销支撑LCD基板，所以，需要在LCD基板的中央部位也设置销。因此，结果，这些销的痕迹转印到抗蚀剂膜上的可能性增大，减压干燥处理本身也就没有了意义。
发明内容
本发明鉴于上述情况而做出，目的是提供一种即使基板为大型、安全性也优异，并能抑制振动的产生，且能可靠地防止涂敷在基板上的涂敷液发生转印的减压干燥装置。
为了解决上述问题，本发明提供一种减压干燥装置，该减压干燥装置在将涂敷液涂敷在基板上之后，在减压状态下对该涂敷液实施干燥处理，其特征在于，具备在侧壁部具有搬入基板的搬入口和搬出基板的搬出口，将从上述搬入口搬入的基板以大致水平状态收容的腔室；对上述腔室的上述搬入口和搬出口进行开关的门部件；在由上述门部件关闭上述搬入口和搬出口的状态下，对上述腔室内进行减压的减压机构；大致水平地搬送基板，将上述基板从上述搬入口搬入到上述腔室内，并且，在利用上述减压机构进行减压干燥处理后，大致水平地搬送上述基板，将上述基板从上述搬出口搬出到上述腔室外的搬送机构；和在上述腔室内，不是局部地支撑基板、而是能够均匀地支撑基板的基板支撑部件。此外，还包括搬入口与搬出口为同一开口的情况。
在本发明中，优选上述搬送机构具备在上述腔室内搬送基板的内侧搬送部；在上述腔室外，将基板从上述搬入口搬入，并搬送到上述内侧搬送部的搬入侧搬送部；和在上述腔室外，将从上述内侧搬送部搬送的基板从上述搬出口搬出的搬出侧搬送部，上述内侧搬送部具有以能够在基板搬送方向上旋转的方式设置的多个滑轮(pulley)部件和搭挂在这些滑轮部件上的带(belt)，随着上述滑轮部件的旋转，上述带运转，由此对基板进行带搬送，上述带在支撑基板的状态下停止，起上述基板支撑部件的作用。在此情况下，优选还具备对运转中的上述带进行清理的清理机构。
或者，在本发明中，优选上述搬送机构具备在上述腔室内搬送基板的内侧搬送部；在上述腔室外，将基板从上述搬入口搬入，并搬送到上述内侧搬送部的搬入侧搬送部；和在上述腔室外，将从上述内侧搬送部搬送的基板从上述搬出口搬出的搬出侧搬送部，上述内侧搬送部具有以能够在基板搬送方向上旋转的方式设置的多个内侧辊子部件，利用这些内侧辊子部件的旋转，对基板进行辊子搬送，多个上述内侧辊子部件的一部分或全部正反交替地旋转，起到使基板摇动并均匀地支撑基板的上述基板支撑部件的作用。在此情况下，优选上述内侧辊子部件形成为与基板的大致整个宽度接触，或者优选上述内侧辊子部件形成为在宽度方向上隔开间隔的多个位置上与基板接触，并且，构成为相邻的内侧辊子部件彼此与基板接触的宽度方向位置不同。
另外，在该情况下，优选上述搬入侧搬送部具有以能够在基板搬送方向上旋转的方式设置的多个外侧辊子部件，利用这些外侧辊子部件的旋转，对基板进行辊子搬送，至少将上述基板从上述搬入口搬入，直到到达上述内侧搬送部，上述内侧搬送部对由上述搬入侧搬送部送达的基板进行搬送，直到将上述基板完全收容在上述腔室内。优选上述搬入侧搬送部以与在基板上涂敷上述涂敷液的涂敷装置接近的方式设置，利用上述外侧辊子部件的旋转，接收从上述涂敷装置大致水平地搬送而到达的基板，并对其进行辊子搬送。
另外，在该情况下，优选上述内侧搬送部对收容在上述腔室内的基板进行搬送，至少使该基板通过上述搬出口，直到到达上述搬入侧搬送部，上述搬出侧搬送部具有以能够在基板搬送方向上旋转的方式设置的多个外侧辊子部件，利用上述外侧辊子部件的旋转，对由上述内侧搬送部送达的基板进行辊子搬送，至少将该基板从上述搬出口搬出，直到使其完全露出到上述腔室外。
另外，在本发明中，优选上述门部件沿着上述腔室的上述侧壁部移动，对上述搬入口和搬出口进行开关。
如上所述，根据本发明，由于构成为在腔室的侧壁部设置搬入口和搬出口，并利用搬送机构使基板大致水平地移动，从搬入口和搬出口进行搬入搬出，所以，能将搬入口和搬出口的高度设定为比基板厚度稍大的极小的高度。因此，与以往的减压干燥装置中实现开关腔室作用的上腔室相比，能使对腔室的搬入口和搬出口进行开关的门部件大幅轻量化。而且，如上述那样将基板大致水平地搬送，不需要像以往的减压干燥装置中设置的载置台那样使基板的搬送机构升降。因此，即使基板大型化，也能充分确保装置的安全性，并且能抑制由门部件的开关动作和搬送机构的搬送动作引起的振动。而且，由于基板支撑部件在腔室内均匀地支撑基板，所以，不论基板尺寸是多大，都能可靠地防止涂敷在基板上的涂敷液发生转印。
图1为在LCD基板上形成抗蚀剂膜、以及对曝光处理后的抗蚀剂膜进行显影处理的抗蚀剂涂敷-显影处理系统的平面示意图。
图2为表示抗蚀剂涂敷单元的平面图。
图3为表示作为抗蚀剂涂敷单元的构成要素的本发明的减压干燥装置的平面图。
图4为表示减压干燥装置的正视图。
图5为表示构成减压干燥装置的内侧搬送部的主要部分的图。
图6为表示本发明的其它实施方式的减压干燥装置的平面图。
图7为表示其它实施方式的减压干燥装置的正视图。
符号说明6腔室7搬送机构7a、7d 内侧搬送部7b 搬入侧搬送部7c 搬出侧搬送部23a 抗蚀剂涂敷装置23b、23c 减压干燥装置61 搬入口62 搬出口63、64 门部件66 排气管67 排气装置70a、70b 滑轮部件71 带(基板支撑部件)76a、76b 外侧辊子部件79 内侧辊子部件(基板支撑部件)83、84 局部排气管GLCD基板具体实施方式
下面，参照附图，具体说明本发明的实施方式。
图1为在LCD基板上形成抗蚀剂膜、以及对曝光处理后的抗蚀剂膜进行显影处理的抗蚀剂涂敷-显影处理系统的平面示意图。
抗蚀剂涂敷-显影处理系统100具备载置用于收容多块LCD基板G的盒(cassette)C的盒站(cassette station)1、对LCD基板G进行包括抗蚀剂涂敷和显影的一系列处理的处理站2、和在与曝光装置4之间转移LCD基板G的接口站(interface station)3，盒站1和接口站3分别配置在处理站2的两侧。此外，在图1中，以抗蚀剂涂敷-显影处理系统100的长边方向为X方向，以在平面内与X方向正交的方向为Y方向。
盒站1具备能将盒C在Y方向并列载置的载置台9和在与处理站2之间搬入搬出LCD基板G的搬送装置11，在载置台9和外部之间搬送盒C。搬送装置11中设置的搬送臂11a能够在沿着作为盒C排列方向的Y方向设置的搬送路径10上移动，在盒C和处理站2之间搬入搬出LCD基板G。
处理站2具有基本上沿X方向伸展的、用于搬送LCD基板G的平行的两列搬送线路A、B。在搬送线路A上，从盒站1侧向接口站3侧，依次排列有擦洗清洗单元(SCR)21、第一热处理单元部26、抗蚀剂涂敷单元23、和第二热处理单元部27。
在搬送线路B上，从接口站3侧向盒站1侧，依次排列有第二热处理单元部27、显影单元(DEV)24、i线UV照射单元(i-UV)25、和第三热处理单元部28。在擦洗清洗单元21之上的一部分上，设置有受激准分子UV照射单元(e-UV)22。此外，设置受激准分子UV照射单元22是为了在擦洗清洗之前除去LCD基板G的有机物，设置i线UV照射单元25是为了进行显影的脱色处理。
在擦洗清洗单元21中，一边以大致水平的姿态搬送LCD基板G，一边进行清洗处理和干燥处理。在显影单元24中，一边以大致水平的姿态搬送LCD基板G，一边依次进行显影液涂敷、漂洗、和干燥处理。在该擦洗清洗单元21和显影单元24中，LCD基板G的搬送通过例如辊子搬送或带搬送来进行，LCD基板G的搬入口和搬出口设置在相对的短边上。另外，向i线UV照射单元25搬送LCD基板G通过与显影单元24的搬送机构相同的机构连续进行。
如后文详细说明所述，抗蚀剂涂敷单元23包括一边以大致水平的姿态搬送LCD基板G，一边供给抗蚀剂液以形成涂敷膜的抗蚀剂涂敷装置(CT)23a；和将LCD基板G暴露在减压气氛下，使在LCD基板G上形成的涂敷膜中含有的挥发成分蒸发、并使涂敷膜干燥的减压干燥装置(VD)23b。
第一热处理单元部26具有由对LCD基板G实施热处理的热处理单元叠层构成的两个热处理单元块(TB)31、32，热处理单元块31设置在擦洗清洗单元21侧，热处理单元块32设置在抗蚀剂涂敷单元23侧。在这两个热处理单元块31、32之间，设置有第一搬送装置33。
热处理单元块31具有转移LCD基板G的传递单元(pass unit)、对LCD基板G进行脱水烘焙处理的两个脱水烘焙单元、和对LCD基板G实施疏水化处理的粘附单元(adhesion unit)从下至上依次叠层的结构。另外，热处理单元块32具有转移LCD基板G的传递单元、对LCD基板G进行冷却的两个冷却单元、对LCD基板G实施疏水化处理的粘附单元从下至上依次叠层的结构。
第一搬送装置33通过传递单元接收来自擦洗清洗单元21的LCD基板G、在上述热处理单元之间搬入搬出LCD基板G、以及通过传递单元将LCD基板G向抗蚀剂涂敷单元23转移。
第一搬送装置33能够上下移动、前后移动、旋转运动，能够访问热处理单元块31、32中的任一单元。
第二热处理单元部27具有由对LCD基板G实施热处理的热处理单元叠层构成的两个热处理单元块(TB)34、35，热处理单元块34设置在抗蚀剂涂敷单元23侧，热处理单元块35设置在显影单元24侧。并且，在这两个热处理单元块34、35之间，设置有第二搬送装置36。
热处理单元块34是转移LCD基板G的传递单元、对LCD基板G进行预烘焙处理的三个预烘焙单元从下至上依次叠层的结构。另外，热处理单元块35是转移LCD基板G的传递单元、对LCD基板G进行冷却的冷却单元、对LCD基板G进行预烘焙处理的两个预烘焙单元从下至上依次叠层的结构。
第二搬送装置36通过传递单元接收来自抗蚀剂涂敷单元23的LCD基板G、在上述热处理单元之间搬入搬出LCD基板G、通过传递单元将LCD基板G向显影单元24转移、以及相对于后述的作为接口站3的基板转移部的扩展-冷却台(extension-cooling stage)(EXT-COL)44转移和接收LCD基板G。此外，第二搬送装置36具有与第一搬送装置33相同的结构，能够访问热处理单元块34、35中的任一单元。
第三热处理单元部28具有由对LCD基板G实施热处理的热处理单元叠层构成的两个热处理单元块(TB)37、38，热处理单元块37设置在显影单元24侧，热处理单元块38设置在盒站1侧。并且，在这两个热处理单元块37、38之间，设有第三搬送装置39。
热处理单元块37具有转移LCD基板G的传递单元、和对LCD基板G进行后烘焙处理的三个后烘焙单元从下至上依次叠层的结构。另外，热处理单元块38具有对LCD基板G进行后烘焙处理的后烘焙单元、转移和冷却LCD基板G的传递-冷却单元、以及两个后烘焙单元从下至上依次叠层的结构。
第三搬送装置39通过传递单元接收来自i线UV照射单元25的LCD基板G、在上述热处理单元之间搬入搬出LCD基板G、以及通过传递-冷却单元将LCD基板G向盒站1转移。此外，第三搬送装置39也具有与第一搬送装置33相同的结构，能够访问热处理单元块37、38中的任一单元。
在处理站2中，以如以上那样构成两列搬送线路A、B、并且基本上按照处理顺序的方式，配置有各处理单元和搬送装置。在搬送线路A、B之间设置有空间40，在该空间40中能够往复运动地设置有梭(shuttle)41。梭41构成为能够保持LCD基板G，并在搬送线路A、B之间转移LCD基板G。由第一～第三搬送装置33、36、39进行LCD基板G相对于梭41的转移。
接口站3具有在处理站2和曝光装置4之间搬入搬出LCD基板G的搬送装置42、配置缓冲盒(buffer cassette)的缓冲台(buffer stage)(BUF)43、和作为具备冷却功能的基板转移部的扩展-冷却台44，标记器(TITLER)和周边曝光装置(EE)上下叠层形成的外部装置块45，与搬送装置42相邻设置。搬送装置42具有搬送臂42a，利用该搬送臂42a在处理站2和曝光装置4之间搬入搬出LCD基板G。
在这样构成的抗蚀剂涂敷-显影处理系统100中，首先，利用搬送装置11，将盒站1的载置台9上配置的盒C内的LCD基板G直接搬入处理站2的受激准分子UV照射单元22，进行擦洗(scrub)前处理。接着，利用搬送装置11将LCD基板G搬入擦洗清洗单元21，进行擦洗清洗。在擦洗清洗处理后，例如利用辊子搬送将LCD基板G搬出到属于第一热处理单元部26的热处理单元块31的传递单元中。
首先，将配置在热处理单元块31的传递单元中的LCD基板G搬送到热处理单元块31的脱水烘焙单元进行加热处理。接着，将LCD基板G搬送到热处理单元块32的冷却单元进行冷却后，为了提高抗蚀剂的附着性，将基板搬送至热处理单元块31的粘附单元和热处理单元块32的粘附单元中的任一粘附单元中，在该粘附单元中利用HMDS进行疏水化处理。其后，将LCD基板G搬送到冷却单元进行冷却，再搬送到热处理单元块32的传递单元中。进行这一系列处理时，LCD基板G的搬送处理全部利用第一搬送装置33进行。
配置在热处理单元块32的传递单元中的LCD基板G，由设置在该传递单元中的例如辊子搬送机构等基板搬送机构，搬入到抗蚀剂涂敷单元23内。如后述详细说明所述，在抗蚀剂涂敷装置23a中，一边以水平姿态搬送LCD基板G，一边供给抗蚀剂液以形成涂敷膜，其后，在减压干燥装置23b中对涂敷膜实施减压干燥处理。然后，利用后述的搬送机构7的搬出侧搬送部7c以及设置在减压干燥装置(VD)23b上的基板搬送臂等，将LCD基板G从抗蚀剂涂敷单元23搬送并转移到属于第二热处理单元部27的热处理单元块34的传递单元。
利用第二搬送装置36，将配置在热处理单元块34的传递单元中的LCD基板G搬送到热处理单元块34的预烘焙单元和热处理单元块35的预烘焙单元中的任一个中进行预烘焙处理，然后将该基板搬送到热处理单元块35的冷却单元中，冷却到规定温度。然后，利用第二搬送装置36，将LCD基板G搬送到热处理单元块35的传递单元。
然后，利用第二搬送装置36将LCD基板G搬送至接口站3的扩展-冷却台44，根据需要，利用接口站3的搬送装置42，将基板搬送到外部装置块45的周边曝光装置(EE)中进行曝光处理，以除去抗蚀剂膜的外周部(不需要的部分)。接下来，利用搬送装置42将LCD基板G搬送到曝光装置4中，按照规定图案，对LCD基板G上的抗蚀剂膜进行曝光处理。此外，有时将LCD基板G暂时收容在缓冲台43上的缓冲盒内，然后搬送到曝光装置4中。
曝光结束后，利用接口站3的搬送装置42将LCD基板G搬入到外部装置块45的上层的标记器(TITLER)中，在LCD基板G上记录规定的信息后，将该基板载置在扩展-冷却台44上。然后，利用第二搬送装置36，将LCD基板G从扩展-冷却台44搬送到属于第二热处理单元部27的热处理单元块35的传递单元中。
被搬送到热处理单元块35的传递单元中的LCD基板G，由从该传递单元延长到显影单元24的搬送机构、例如辊子搬送，搬入到显影单元24中。在显影单元24中，例如在以水平姿态搬送过程中的LCD基板G的表面上装满显影液，将暂时停止搬送的LCD基板倾斜规定的角度，使表面上的显影液流下，在该状态下，向表面上供给漂洗液以冲洗显影液。然后，将LCD基板G恢复到水平姿态，再次开始搬送，向LCD基板G吹送干燥用氮气或空气，使LCD基板干燥。
显影处理结束后，利用连续的搬送机构、例如辊子搬送，将LCD基板G从显影单元24搬送到i线UV照射单元25中进行脱色处理。然后，利用i线UV照射单元25内的辊子搬送机构，将LCD基板G搬出到属于第三热处理单元部28的热处理单元块37的传递单元中。
利用第三搬送装置39，将配置在热处理单元块37的传递单元中的LCD基板G搬送到热处理单元块37的后烘焙单元和热处理单元块38的后烘焙单元中的任一个中进行后烘焙处理，然后，将该基板搬送到热处理单元块38的传递-冷却单元中并冷却到规定温度后，利用盒站1的搬送装置11，将该基板收容在配置于盒站1中的规定的盒C内。
接着，详细说明抗蚀剂涂敷单元23。图2为表示抗蚀剂涂敷单元23的平面图，图3为表示作为抗蚀剂涂敷单元23的构成要素的本发明的减压干燥装置23b的平面图，图4为该减压干燥装置的正视图。
如图2所示，抗蚀剂涂敷装置23a包括用于支撑LCD基板G的台(stage)12；在台12上沿X方向搬送LCD基板G的基板搬送机构13；向在台12上进行搬送的LCD基板G的表面供给抗蚀剂液的抗蚀剂喷嘴14；和用于清洗抗蚀剂喷嘴14的喷嘴清洗单元15。
在台12上设置有用于向上方喷射规定气体的多个气体喷射口16，利用从气体喷射口16喷射的气体，使LCD基板G从台12的表面浮起一定高度。
基板搬送机构13包括以夹住台12并沿X方向延伸的方式配置的导轨(guide)52a、52b；能够沿着导轨52a、52b往复移动的滑动件(slider)50；和设置在该滑动件50上、保持LCD基板G的一部分的吸附垫等基板保持部件(未图示)。在利用基板保持部件保持由于从气体喷射口16喷射的气体而浮起的LCD基板G的状态下，滑动件50沿导轨52a、52b移动，由此基板搬送机构13构成为能在X方向搬送，基板保持部件构成为能够控制LCD基板G的保持和解除保持。
抗蚀剂喷嘴14配置在台12的上方，向下方、沿Y方向呈长的大致带状地喷出抗蚀剂液。抗蚀剂喷嘴14能够与保持该抗蚀剂喷嘴14的支柱部件54一起沿X方向移动，并且能够上下升降，并能够在向LCD基板G供给抗蚀剂液的位置与在喷嘴清洗单元15中进行清洗处理等的各位置之间移动。
喷嘴清洗单元15由支柱部件55保持，配置在台12的上方。喷嘴清洗单元15包括在向LCD基板G供给抗蚀剂液之前，预先使抗蚀剂液从抗蚀剂喷嘴14喷出的虚拟分配(dummy dispense)部57；用于将抗蚀剂喷出口保持在溶剂的蒸汽氛围中以使抗蚀剂喷嘴14的抗蚀剂喷出口不干燥的喷嘴总线(nozzle bus)58；和用于将抗蚀剂喷嘴14的抗蚀剂喷出口附近附着的抗蚀剂除去的喷嘴清洗机构59。
如图3、图4所示，减压干燥装置23b包括能够收容LCD基板G的腔室6；和将LCD基板G搬入到腔室6内以及将LCD基板G搬出到腔室6外的搬送机构7。
腔室6形成为薄型的箱状，能够将LCD基板G以大致水平的状态收容，在X方向上相对的侧面部，分别具有LCD基板G能够通过的沿Y方向延伸的狭缝状或长方形状的搬入口61和搬出口62。另外，在腔室6的在X方向上相对的侧面部，分别设置有对搬入口61、搬出口62进行开关的门部件63、64。门部件63、64分别与搬入口61和搬出口62对应，具有沿Y方向延伸的带状或长方形状，沿着腔室6的侧面部移动，例如通过升降，对搬入口61和搬出口62进行开关(参照图4的假想线)。如果使这样的带状的门部件63、64沿着具有搬入口61和搬出口62的腔室6的侧面部升降，则能将腔室6的开关动作所需要的空间控制得较小，所以，与以往的具有上下腔室的减压干燥装置相比，能够实现装置本身的实质的省空间化。此外，腔室6的上面部69能拆卸，以便于维护。
在腔室6的底面部，具有规定间隔地设置有多个与该腔室6内连通的排气管66，排气管66与排气装置67连接。于是，在利用门部件63、64将搬入口61和搬出口62关闭从而将腔室6内密封的状态下，使排气装置67运转，由此能够将腔室1内减压到规定值。排气管66和排气装置67对腔室6内进行减压，构成用于使收容在腔室6内的LCD基板G的抗蚀剂液干燥的减压机构。
搬送机构7将LCD基板G大致水平地搬送，将该基板从搬入口61搬入到腔室6内，并从搬出口62搬出到腔室6外。搬送机构7包括在腔室6内搬送LCD基板G的内侧搬送部7a；在腔室6外，将LCD基板G从搬入口61搬入并搬送到内侧搬送部7a的搬入侧搬送部7b；和在腔室6外，将从内侧搬送部7a搬送的LCD基板G从搬出口62搬出的搬出侧搬送部7c。
内侧搬送部7a具有在腔室6内在X方向上大致水平地隔开间隔的多个，在此为分别设置在搬入口61侧端部和搬出口62侧端部的大致圆柱状的滑轮部件70a、70b；和搭挂在这些滑轮部件70a、70b上的带71。滑轮部件70a、70b分别形成为沿Y方向延伸，由腔室6的在例如Y方向上相对的侧面部能够旋转地支撑，使得带71的上表面位于搬入口61和搬出口62的高度范围内。滑轮部件70a、70b中的至少任一方、例如滑轮部件70b的旋转轴与电动机等驱动源72连接，通过使驱动源72驱动，滑轮部件70b驱动旋转，带71运转，同时滑轮部件70a从动旋转，将带71上载置的LCD基板G沿X方向搬送。此外，在此，将驱动源72设置在腔室6的Y方向侧面部的外侧，将旋转轴与腔室6的Y方向侧面部之间的间隙以不妨碍滑轮部件70b的旋转的方式用密封部件80密封。
带71由聚氨酯类材料或特富龙(Teflon)(注册商标)类材料形成为环形，具有与LCD基板G的Y方向的宽度大致相等的宽度。由此，构成为带71在载置有LCD基板G时，与LCD基板G的Y方向的大致整个宽度接触。另外，滑轮部件70a、70b之间的间隔设定为大于LCD基板G的X方向的长度，由此，构成为在利用减压机构进行减压干燥处理时，带71与LCD基板G的背面大致整面地接触。
滑轮部件70a、70b分别在Y方向两端部具有向直径方向外侧突出的粗径部73，带71配置在滑轮部件70a、70b的粗径部73、73之间，在Y方向被定位。由此防止带71在运行中出现蛇行。
在腔室6内，除了滑轮部件70a、70b，在搬入口61和搬出口62侧还分别设置有大致圆柱状的引导用辊子部件74a、74b，引导用辊子部件74a、74b的上端为与带71的上表面大致相同高度或比带71的上表面稍高的高度，由腔室6的例如在Y方向上相对的侧面部能够旋转地支撑。引导用辊子部件74a用于将后述的搬入侧搬送部7b上的LCD基板G可靠地引导到带71上，引导用辊子部件74b用于将带71上的LCD基板G可靠地引导到后述的搬出侧搬送部7c上。
在带71内的空隙中，以与带71不接触的方式，在例如Y方向上相对的侧面部上，安装设置有填充该空隙的填充材料65。由此，腔室6内的容积变小，能够利用减压机构迅速降低腔室6内的压力。
此外，LCD基板G为大型基板时，或滑轮部件70a、70b之间的间隔较大时，优选在滑轮部件70a、70b之间，设置一个或多个用于防止带71弯曲的辅助用辊子部件75，以支撑带71。另外，作用在滑轮部件70a、70b上的带71的张力较大时，优选如图5所示(图5为表示构成减压干燥装置的内侧搬送部的主要部分的图)，设置分别与滑轮部件70a的X方向前侧部和滑轮部件70b的X方向后侧部接触的接触部件81，以防止滑轮部件70a、70b的变形。接触部件81例如以不妨碍滑轮部件70a、70b的旋转的方式具有辊子机构而构成，安装在腔室6内的Y方向上相对的侧面部。
搬入侧搬送部7b和搬出侧搬送部7c分别具有以夹住具有搬入口61和搬出口62的侧面部、与内侧搬送部7a相对的方式设置在腔室6外，在X方向上大致水平地隔开间隔设置的多个、例如两个大致圆柱状的外侧辊子部件76a、76b。外侧辊子部件76a、76b分别由支撑部件(未图示)能够旋转地支撑，使得它们的上端与带71的上表面在大致同一高度上、并且与由抗蚀剂涂敷装置23a的滑动件50搬送来的LCD基板G的背面在大致同一高度。在此，外侧辊子部件76a、76b中的任一方或两方的旋转轴与电动机等驱动源(未图示)连接，通过使驱动源驱动，旋转轴旋转，从而沿X方向搬送LCD基板G。由此，能够在不需要致动器型或机械手型等复杂的搬送机构的情况下，从抗蚀剂涂敷装置23a接收LCD基板G。在抗蚀剂涂敷装置是像本实施方式的抗蚀剂涂敷装置23a那样使LCD基板G大致水平地直线状地移动的所谓平流式时，特别有效。
外侧辊子部件76a、76b分别具有细直径的旋转轴77和沿Y方向隔开间隔在该旋转轴77上设置的多个粗直径的接触部78，当LCD基板G通过时，接触部78与LCD基板G接触，支撑该LCD基板G。另外，在相邻的外侧辊子部件76a和外侧辊子部件76b中，接触部78在Y方向上的位置不同，由此，因LCD基板G与接触部78接触而对抗蚀剂膜产生的影响被分散，可防止接触部78的痕迹被转印到抗蚀剂膜上。另外，引导用辊子部件74a、74b也与外侧辊子部件76a同样具有细直径的旋转轴和沿Y方向隔开间隔在该旋转轴上设置的多个粗直径的接触部，引导用辊子部件74a、74b与外侧辊子部件76b的接触部的Y方向位置不同。此外，引导用辊子部件74a、74b、外侧辊子部件76a、76b也可以像辅助用辊子部件75那样，形成与LCD基板G在Y方向上的大致整个宽度接触的形状。
在腔室6内的滑轮部件70a和引导用辊子部件74a之间，以及滑轮部件70b和引导用辊子部件74b之间，分别以沿Y方向延伸的方式设置有向上方供给氮气的氮气供给部82。氮气供给部82用于通过向减压后的腔室6内供给氮气，迅速提高腔室6内的压力，并且抑制LCD基板G的抗蚀剂膜与外部的空气接触。另外，为了排出附着在带71上的尘埃等，在腔室6内的Y方向的侧面部，以穿过带71内并沿Y方向延伸的方式设置有局部排气管83，该局部排气管83与排气装置(未图示)连接。在此，可以将局部排气管设置在带71的背面侧(符号83的位置)，也可以将其设置在带71的表面侧(例如参照图4的符号84的位置)。在这种情况下，作为针对颗粒的对策，优选构成为在局部排气管84中配备电离器、从而能够除去带71表面的电荷，优选将局部排气管84和电离器控制为在带71运转时工作、在带71停止时停止。局部排气管83(和84)和与局部排气管83(和84)连接的排气装置构成对带71进行清理的清理机构。
下面，对如上述那样构成的抗蚀剂涂敷单元23中的LCD基板G的处理工艺进行说明。首先，使滑动件50在台12的热处理单元块32的侧端部呈待机状态，在台12中，各部分成为能使LCD基板G浮起到规定高度的状态。接着，利用设在热处理单元块32上的辊子搬送机构，将LCD基板G搬入到台12上并转移至滑动件50。由此，使LCD基板G在台12上以大致水平的姿态保持浮起。
然后，使滑动件50以规定的速度向减压干燥装置23b一侧滑动。由此，将LCD基板G向减压干燥装置23b一侧浮起搬送，在通过抗蚀剂喷嘴14之下时，从抗蚀剂喷嘴14向表面供给抗蚀剂液，以形成抗蚀剂膜。利用滑动件50将形成有抗蚀剂膜的LCD基板G搬送至台12的减压干燥装置23b侧端部，更具体地说，搬送至由搬入侧搬送部7b的驱动源旋转驱动的外侧辊子部件76a或76b上，在此解除滑动件50对基板的保持。
通过解除滑动件50对基板的保持，将LCD基板G载置到搬入侧搬送部7b的外侧辊子部件76a或76b上。在此，通过使搬入侧搬送部7b的外侧辊子部件76a或76b旋转驱动，将LCD基板G从抗蚀剂涂敷装置23a转移至搬入侧搬送部7b，至少将该基板从搬入口61搬入并搬送到内侧搬送部7a的带71上。此时，使滑轮部件70b旋转驱动以使带71运转，由此，将到达带71上的LCD基板G从搬入侧搬送部7b转移至内侧搬送部7a，在带71上搬送，从而收容在腔室6内。LCD基板G被收容在腔室6内、并几乎整个面被载置在带71上后，停止带71的运转，利用门部件63、64将搬入口61和搬出口62关闭，从而将腔室6内密封。
然后，使排气装置67运转，将腔室6内减压到规定值。由此，在LCD基板G的表面上形成的抗蚀剂膜干燥。在本实施方式中，在减压干燥处理时，带71与LCD基板G的几乎整个表面接触，均匀地支撑该基板，而且，能够在不使用致动器型或机械手型等那样的抓住后进行搬送的搬送机构的情况下，将LCD基板G从抗蚀剂涂敷装置转移至减压干燥装置，不需要像以往的减压干燥装置那样用顶料销(lift pin)等支撑LCD基板G，所以，不必担心由顶料销等引起的局部的转印痕迹附着在抗蚀剂膜上。即，在减压干燥处理时，带71作为不是局部地支撑而是均匀地支撑LCD基板G的基板支撑部件发挥作用。
使排气装置67运转规定时间以使抗蚀剂膜干燥后，停止排气装置67的运转。接着，利用氮气供给部82向腔室6内供给氮气，并且使门部件63、64退避，以打开搬入口61和搬出口62，对腔室6内进行升压。然后，通过再次使带71运转，至少使LCD基板G通过搬出口62，并将其搬送到由搬出侧搬送部7c的驱动源旋转驱动的外侧辊子部件76a或76b上。
此时，通过使搬出侧搬送部7c的外侧辊子部件76a或76b旋转驱动，将LCD基板G由内侧搬送部7a转移至搬出侧搬送部7c。将该基板从搬出口62搬出，在外侧辊子部件76a、76b上进行搬送，直到完全露出到腔室6外，然后，将该基板转移至热处理单元块34的传递单元。
在本实施方式中，由于构成为在腔室6的侧壁部分别设置搬入口61和搬出口62、利用搬送机构7大致水平地移动LCD基板G并从搬入口61和搬出口62进行搬入搬出，所以，能够将搬入口61和搬出口62的高度设定为比基板厚度稍大的极小的高度。即，能够将搬入口61和搬出口62形成为狭缝状。因此，与以往的减压干燥装置中起开关腔室的作用的上腔室相比，能使对腔室6的搬入口61和搬出口62进行开关的门部件63、64大幅轻量化。而且，由于搬送机构7对LCD基板G大致水平地进行带搬送或辊子搬送，不需要象以往的减压干燥装置中设置的载置台那样使基板的搬送机构升降。因此，即使基板大型化，也能充分确保装置的安全性，并且能抑制由门部件63、64的开关动作和搬送机构7的搬送动作引起的振动。
此外，搬入侧搬送部7b和搬出侧搬送部7c与内侧搬送部7a同样，可以由具有滑轮部件和带的带搬送机构构成。
接着，说明本发明的其它实施方式的减压干燥装置。图6为表示本发明的其它实施方式的减压干燥装置的平面图，图7为其正视图。
在减压干燥装置23c中，对减压干燥装置23b的内侧搬送部7a进行了改变，与减压干燥装置23b相同的部位被赋予相同的符号，并省略说明。减压干燥装置23c的内侧搬送部7d具有在X方向上设置的多个大致圆柱状的内侧辊子部件79。内侧辊子部件79例如分别由腔室6的在Y方向上相对的侧面部能够旋转地支撑，使得其上端与搬入侧搬送部7b和搬出侧搬送部7c的上端为大致相同高度。
多个内侧辊子部件79中的一部分或全部的旋转轴与电动机等驱动源72连接，通过使驱动源72驱动而旋转，由此，将LCD基板G在内侧辊子部件79上沿X方向搬送。在此，内侧辊子部件79的一部分或全部构成为能够利用交流电动机等驱动源72自由地正反旋转。此外，内侧辊子部件79分别形成为与LCD基板G的Y方向的几乎整个宽度接触，与外侧辊子部件76a、76b同样地形成为在Y方向上隔开间隔的多个位置上与LCD基板G接触，并且可以构成为相邻的内侧辊子部件79彼此与LCD基板G接触的Y方向位置不同。
在内侧搬送部7d的下侧，防止因排气装置67的运转而使直接的吸引力作用在LCD基板G上的板状或碟状的盘(pan)68，安装设置在例如腔室6的Y方向上相对的侧面部上。
下面，说明如上述那样构成的减压干燥装置23c的内侧搬送部7d中对LCD基板G进行处理的工艺。首先，在从抗蚀剂涂敷装置23a转移并由搬入侧搬送部7b搬送的LCD基板G到达与驱动源72连接的内侧辊子部件79上时，利用驱动源72使内侧辊子部件79旋转驱动，由此，将LCD基板G从搬入侧搬送部7b转移至内侧搬送部7d，在多个内侧辊子部件79上搬送，从而完全搬入到腔室6内。接着，停止内侧辊子部件79的旋转，利用门部件63、64关闭搬入口61和搬出口62，将腔室6内密封。
然后，使排气装置67运转，将腔室6内减压到规定值，并使在LCD基板G的表面上形成的抗蚀剂膜干燥。此时，利用驱动源72使多个内侧辊子部件79中的一部分或全部正反交替地旋转，LCD基板G一边摇动一边由多个内侧辊子部件79支撑。即，在减压干燥处理时，多个内侧辊子部件79作为不是局部地支撑而是均匀地支撑LCD基板G的基板支撑部件发挥作用。由此，可防止由内侧辊子部件79引起的转印痕迹附着在LCD基板G的抗蚀剂膜上。
使排气装置67运转规定时间以使抗蚀剂膜干燥后，停止排气装置67的运转。接着，利用氮气供给部82向腔室6内供给氮气，并且使门部件63、64退避，以打开搬入口61和搬出口62，对腔室6内进行升压。然后，通过再次使内侧辊子部件79运转，至少使LCD基板G通过搬出口62，并将其搬送到由搬出侧搬送部7c的驱动源旋转驱动的外侧辊子部件76a或76b上。
产业上的可利用性根据本发明，特别适用于基板为大型的情况，但不限于LCD基板，能够广泛地适用于在其它基板、例如LCD基板的滤色基板或半导体晶片等上涂敷的涂敷液的减压干燥处理。
权利要求
1.一种减压干燥装置，用于在将涂敷液涂敷在基板上之后，在减压状态下对该涂敷液实施干燥处理，其特征在于，具备在侧壁部具有搬入基板的搬入口和搬出基板的搬出口，将从所述搬入口搬入的基板以大致水平状态收容的腔室；对所述腔室的所述搬入口和搬出口进行开关的门部件；在由所述门部件关闭所述搬入口和搬出口的状态下，对所述腔室内进行减压的减压机构；大致水平地搬送基板，将所述基板从所述搬入口搬入到所述腔室内，并且，在利用所述减压机构进行减压干燥处理后，大致水平地搬送所述基板，将所述基板从所述搬出口搬出到所述腔室外的搬送机构；和在所述腔室内，不是局部地支撑基板、而是能够均匀地支撑基板的基板支撑部件。
2.如权利要求1所述的减压干燥装置，其特征在于所述搬送机构具备在所述腔室内搬送基板的内侧搬送部；在所述腔室外，将基板从所述搬入口搬入，并搬送到所述内侧搬送部的搬入侧搬送部；和在所述腔室外，将从所述内侧搬送部搬送的基板从所述搬出口搬出的搬出侧搬送部，所述内侧搬送部具有以能够在基板搬送方向上旋转的方式设置的多个滑轮部件和搭挂在所述滑轮部件上的带，随着所述滑轮部件的旋转，所述带运转，由此对基板进行带搬送，所述带在支撑基板的状态下停止，起所述基板支撑部件的作用。
3.如权利要求2所述的减压干燥装置，其特征在于还具备对运转中的所述带进行清理的清理机构。
4.如权利要求1所述的减压干燥装置，其特征在于所述搬送机构具备在所述腔室内搬送基板的内侧搬送部；在所述腔室外，将基板从所述搬入口搬入，并搬送到所述内侧搬送部的搬入侧搬送部；和在所述腔室外，将从所述内侧搬送部搬送的基板从所述搬出口搬出的搬出侧搬送部，所述内侧搬送部具有以能够在基板搬送方向上旋转的方式设置的多个内侧辊子部件，利用这些内侧辊子部件的旋转，对基板进行辊子搬送，多个所述内侧辊子部件的一部分或全部正反交替地旋转，起到使基板摇动并均匀地支撑基板的所述基板支撑部件的作用。
5.如权利要求4所述的减压干燥装置，其特征在于所述内侧辊子部件形成为与基板的大致整个宽度接触。
6.如权利要求4所述的减压干燥装置，其特征在于所述内侧辊子部件形成为在宽度方向上隔开间隔的多个位置上与基板接触，并且，构成为相邻的内侧辊子部件彼此与基板接触的宽度方向位置不同。
7.如权利要求2～6中任一项所述的减压干燥装置，其特征在于所述搬入侧搬送部具有以能够在基板搬送方向上旋转的方式设置的多个外侧辊子部件，利用这些外侧辊子部件的旋转，对基板进行辊子搬送，至少将所述基板从所述搬入口搬入，直到到达所述内侧搬送部，所述内侧搬送部对由所述搬入侧搬送部送达的基板进行搬送，直到将所述基板完全收容在所述腔室内。
8.如权利要求7所述的减压干燥装置，其特征在于所述搬入侧搬送部以与在基板上涂敷所述涂敷液的涂敷装置接近的方式设置，利用所述外侧辊子部件的旋转，接收从所述涂敷装置大致水平地搬送而到达的基板，并对其进行辊子搬送。
9.如权利要求2～6中任一项所述的减压干燥装置，其特征在于所述内侧搬送部对收容在所述腔室内的基板进行搬送，至少使该基板通过所述搬出口，直到到达所述搬入侧搬送部，所述搬出侧搬送部具有以能够在基板搬送方向上旋转的方式设置的多个外侧辊子部件，利用所述外侧辊子部件的旋转，对由所述内侧搬送部送达的基板进行辊子搬送，至少将该基板从所述搬出口搬出，直到使其完全露出到所述腔室外。
10.如权利要求1～6中任一项所述的减压干燥装置，其特征在于所述门部件沿着所述腔室的所述侧壁部移动，对所述搬入口和搬出口进行开关。
全文摘要
本发明提供一种减压干燥装置，即使基板为大型、安全性也优异，并能抑制振动的产生，且能可靠地防止涂敷在基板上的涂敷液发生转印。该减压干燥装置具备在侧壁部具有搬入基板的搬入口和搬出基板的搬出口，将从搬入口搬入的基板以大致水平状态收容的腔室；对搬入口和搬出口进行开关的门部件；在利用门部件关闭搬入口和搬出口的状态下，对腔室内进行减压的减压机构；大致水平地搬送基板，将其从搬入口搬入到腔室内，并且，在利用减压机构进行减压干燥处理后，大致水平地搬送该基板，将其从搬出口搬出到腔室之外的搬送机构；和在腔室内，不是局部地支撑、而是能够均匀地支撑基板的带。
文档编号G03F7/16GK1913101SQ200610115720
公开日2007年2月14日 申请日期2006年8月11日 优先权日2005年8月11日
发明者坂本贵浩, 坂井光广, 八寻俊一 申请人:东京毅力科创株式会社