一种阵列基板和显示装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供了一种阵列基板和显示装置，所述阵列基板包括：基板，所述基板具有显示区域、测试区域以及连接所述测试区域与所述显示区域的连线区域；形成在所述显示区域内的信号线，并延伸至所述连线区域中；在所述信号线之上形成有绝缘层，并在所述连线区域内具有过孔，暴露至少部分所述信号线；在所述绝缘层之上形成有导电膜层，通过所述过孔与所述信号线电连接，实现测试区域导电膜层与显示区域信号线的连接，从而进行阵列基板的测试，随着显示区域的制程去除导电膜层，防止残留的导电膜层对panel显示效果的影响。
【专利说明】一种阵列基板和显示装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及显示领域，特别涉及一种阵列基板和显示装置。
【背景技术】
[0002]液晶显示器(LCD,Liquid Crystal Display)具有体积小、重量轻、功耗低、福射低及制造成本低等特点，已被广泛应用于各种电子设备中，如显示器、电视、手机、数码相机等数字电子设备。其中，TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)是一种主要的平板显示装置(FPD, Flat Panel Display)。
[0003]薄膜晶体管液晶显示器的显示面板通常包括阵列基板、彩色滤光片基板以及填充于阵列基板和彩色滤光片基板之间的液晶层。在阵列基板的制造过程中，需要进行阵列基板的测试，通过检测阵列基板上栅极线或数据线的断开和打开，或者阵列基板上的电路是否有缺陷来测试阵列基板是否有缺陷，防止在形成显示面板之后才发现阵列基板存在异
堂
巾O
[0004]阵列基板测试区域位于阵列基板的边缘区域，通过金属线与显示区域内的电路相连接，在进行阵列基板的测试之后该测试区域已经失效，后续进行切割工艺形成单个液晶屏(panel)时,将金属线切断,但是在panel边缘可能会残留有金属线,直到制程结束也无法去除；金属线残留在单个液晶屏的台阶处，易导入静电，2-3kv即会造成静电击伤从而使得panel出现显示异常；并且金属线延至panel玻璃边缘，高温高湿测试时易被腐蚀，从而导致水汽进入panel内部引起不良。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，本实用新型提供一种阵列基板，包括:
[0006]基板，所述基板具有显示区域、测试区域以及连接所述测试区域与所述显示区域的连线区域；
[0007]信号线，形成在所述基板上所述显示区域内，并延伸至所述连线区域中；
[0008]绝缘层，形成在所述信号线之上，所述绝缘层还包括过孔，所述过孔暴露至少部分位于所述连线区域内的所述信号线；
[0009]导电膜层，形成在所述绝缘层之上，通过所述过孔与所述信号线电连接。
[0010]同时，本实用新型还提供一种显示装置，包括上述的阵列基板。
[0011]与现有技术相比，本实用新型提供的阵列基板，显示区域中形成的信号线延伸至连线区域中，形成于连线区域与测试区域中的导电膜层在连线区域通过过孔与信号线电连接，实现测试区域与显示区域信号线的连接，从而进行阵列基板的测试，并且导电膜层在显示区域中为像素电极或者公共电极，随着显示区域像素电极或公共电极的制作去除连线区域与测试区域上的导电膜层，防止残留的导电膜层对panel显示效果的影响。
【专利附图】
【附图说明】[0012]图1为本实用新型实施例一中阵列基板的结构示意图；
[0013]图2为本实用新型实施例二中阵列基板的结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的阵列基板和显示装置作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
[0015]本实用新型的核心思想在于，在显示区域中形成的信号线延伸至连线区域中，形成于连线区域与测试区域中的导电膜层在连线区域通过过孔与信号线电连接，实现测试区域与显示区域信号线的连接，从而进行阵列基板的测试，同时导电膜层在显示区域中为像素电极或者公共电极，随着显示区域像素电极或公用电极的制作去除连线区域与测试区域上的导电膜层，防止残留的导电膜层对panel显示效果的影响。
[0016]【实施例一】
[0017]图1为本实用新型实施例一中阵列基板的结构示意图，如图1所示，本实用新型提供一种阵列基板，包括:
[0018]基板10，所述基板10具有显示区域1、测试区域3以及连接所述测试区域3与所述显示区域I的连线区域2 ;信号线11，形成在所述基板10上所述显示区域I内，并延伸至所述连线区域2中；绝缘层，形成在所述信号线11之上，并在所述连线区域2内具有过孔，暴露至少部分所述信号线11 ;导电膜层12，形成在所述绝缘层之上，通过所述过孔与所述信号线11电连接。图1中未明确示出绝缘层，所述绝缘层的作用在于隔离所述导电膜层12与所述信号线11。
[0019]所述导电膜层12为透明导电`膜层，本实施例中，优选为ITO膜层，所述显示区域I内也形成有ITO膜层，所述连线区域2上的ITO膜层与所述显示区域I上的ITO膜层相互绝缘，所述连线区域2上的ITO膜层与所述测试区域3上的ITO膜层相连接，由此可以实现测试区域与信号线的连接。本实施例中，所述显示区域I上形成的ITO膜层为像素电极。所述过孔上的导电膜层12上形成有保护层13，所述保护层13的材质为光刻胶。
[0020]需要说明的是，本实施例所提供的阵列基板只是在阵列基板的制造过程的某一步骤中形成的结构，用于阵列基板的测试，因此保护层13是在阵列基板的制作过程中使用的光刻胶，在此起到保护作用，在其他实施例中，如果仅用来进行阵列基板的测试，也可以使用其他材料的保护层。在阵列基板的测试完成后继续进行其余的工艺制程，直至完成显示区I上的电路以及去掉连线区域2上的导电膜层，避免对后续形成的液晶屏造成影响。
[0021]【实施例二】
[0022]图2为本实用新型实施例二中阵列基板的结构示意图，如图2所示，本实用新型提供一种阵列基板，包括:
[0023]基板20，所述基板20具有显示区域1、测试区域3以及连接所述测试区域2与所述显示区域I的连线区域2 ;信号线21，形成在所述基板20上所述显示区域I内，并延伸至所述连线区域2中；绝缘层，形成在所述信号线21之上，并在所述连线区域2内具有过孔，暴露至少部分所述信号线21 ;导电膜层22，形成在所述绝缘层之上，通过所述过孔与所述信号线21电连接。图2中未明确示出绝缘层，所述绝缘层的作用在于隔离所述导电膜层22与所述信号线21。
[0024]所述导电膜层22为透明导电膜层本实施例中，优选为ITO膜层，所述显示区域I内也形成有ITO膜层，所述连线区域2上的ITO膜层与所述显示区域I上的ITO膜层相互绝缘，所述连线区域2上的ITO膜层与所述测试区域3上的ITO膜层相连接，由此可以实现测试区域与信号线的连接。本实施例中，所述显示区域I上形成的ITO膜层为公共电极。
[0025]同样的，本实施例所提供的阵列基板也是在阵列基板的制造过程的某一步骤中形成的结构，用于阵列基板的测试，测试完成后继续进行其余的工艺制程，直至完成显示区I上的电路以及去掉连线区域2上的导电膜层，避免对后续形成的液晶屏造成影响。
[0026]本实用新型还提供一种显示装置，包括上述的阵列基板。
[0027]综上所述，本实用新型提供的阵列基板，显示区域中形成的信号线延伸至连线区域中，形成于连线区域与测试区域中的导电膜层在连线区域通过过孔与信号线电连接，实现测试区域与显示区域信号线的连接，从而进行阵列基板的测试，并且导电膜层在显示区域中为像素电极或者公共电极，随着显示区域像素电极或公共电极的制作去除连线区域与测试区域上的导电膜层，防止残留的导电膜层对panel显示效果及信赖性的影响。
[0028]上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。
【权利要求】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括:基板，所述基板具有显示区域、测试区域以及连接所述测试区域与所述显示区域的连线区域；信号线，形成在所述基板上所述显示区域内，并延伸至所述连线区域中；绝缘层，形成在所述信号线之上，所述绝缘层还包括过孔，所述过孔暴露至少部分位于所述连线区域内的所述信号线；导电膜层，形成在所述绝缘层之上，通过所述过孔与所述信号线电连接。
2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述导电膜层为透明导电膜层。
3.如权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述透明导电膜层包括位于显示区域内的透明导电膜层。
4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述连线区域内的透明导电膜层与所述显示区域内的透明导电膜层相互绝缘。
5.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域内形成的透明导电膜层为像素电极。
6.如权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述显示区域内形成的透明导电膜层为公共电极。
7.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述过孔上的所述导电膜层上形成有保护层。
8.如权利要求7所述的阵列基板，其特征在于，所述保护层的材质为光刻胶。
9.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1?8中任意一项所述的阵列基板。
【文档编号】G02F1/1362GK203673192SQ201320863684
【公开日】2014年6月25日 申请日期:2013年12月25日 优先权日:2013年12月25日
【发明者】赖国昌 申请人:厦门天马微电子有限公司, 天马微电子股份有限公司