一种新型的掩模清洗方法与流程

文档序号:12593744阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种新型的掩模清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:

S1、使用臭氧和去离子水的混合液进行清洗;

S2、使用SC-1清洗液进行掩模清洗;

S3、使用去离子水再次清洗,以去除残留铵根离子;

S4、最后使用氮气和异丙醇将掩模上残留去离子水吹净吹干即可。

2.根据权利要求1所述的一种新型的掩模清洗方法,其特征在于,步骤S1中,控制臭氧浓度为40~60PPM,混合液温度为20~40℃。

3.根据权利要求1所述的一种新型的掩模清洗方法,其特征在于,步骤S2中,使用SC-1清洗液进行掩模清洗的同时配合超声波进行震荡。

4.根据权利要求1所述的一种新型的掩模清洗方法,其特征在于,步骤S2中,SC-1清洗液的成分以质量份数计包括氢氧化铵1份;双氧水5份;去离子水20份。

5.根据权利要求1所述的一种新型的掩模清洗方法,其特征在于,步骤S4中,将氮气加热摄氏170度,配合异丙醇将掩模上残留去离子水吹净吹干。

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