一种掩膜版清洁装置的制作方法

文档序号:12360614阅读:285来源:国知局
一种掩膜版清洁装置的制作方法

本发明涉及掩膜版维护保养技术领域,尤其涉及一种掩膜版清洁装置。



背景技术:

TFT-LCD(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶体管-液晶显示器)作为一种平板显示装置,因其具有体积小、功耗低、无辐射以及制作成本相对较低等特点,而越来越多地被应用于高性能显示领域当中。

薄膜晶体管-液晶显示器由阵列基板和彩膜基板对盒构成。在阵列基板和彩膜基板的工艺制程中,例如制作TFT的源极、漏极等均需要通过曝光刻蚀等构图工艺具体实现,光线透过掩膜版上预设的透光图案对置于掩膜版下方的基板上的待加工薄膜层进行刻蚀曝光,以在基板上形成特定的图案。

掩膜版具有构图图案,随着屏幕PPI(Pixels Per Inch,每英寸内拥有的像素数目)的增多,掩膜版上的构图图案区域精细化,在此情况下,当掩膜版的构图图案内一旦掉落和附着灰尘或其他细小微粒时,会使得掩膜版的品质容易受到影响,甚至导致通过掩膜版进行构图工艺制程的基板由于图案出错而返修或报废。

如图1所示,掩膜版01在不使用时通常放置于四周设置有支撑架03的支撑板02上,以使得掩膜版01的掩膜图案悬空不与任何表面接触,降低碰撞损伤的可能性,并在掩膜版01上方加设盖板04,盖板04与支撑板02组成密封空间以减少掩膜版04受到外界灰尘或微粒污染的可能性。

掩膜版01在使用前需要打开盖板04做清洁度检查,通过气枪吹落去除掩膜版01表面灰尘或微粒后,重新盖上盖板04密封,由推车运送至工作台后,由移动机械手将整个支撑板02和盖板04组成的密闭盒体抓取并放入曝光机内的密闭空间中,根据曝光机中设定的程序在曝光机内取出掩膜版01并使用进行掩膜曝光。

由于掩膜版01下表面与支撑板02之间的空间较小,气枪无法去除支撑板02上沉积的灰尘或微粒,在曝光机内的密闭空间中拿取掩膜版01时,可能导致沉积在支撑板02上的灰尘或微粒在气流的带动下落在掩膜版01上,从而影响到待加工基板的掩膜曝光图案的精确性。



技术实现要素:

本发明的实施例提供一种掩膜版清洁装置,能够去除掩膜版和支撑板上的灰尘或其他细小微粒。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

本发明实施例的一方面提供一种掩膜版清洁装置,用于对待清洁掩膜版以及放置待清洁掩膜版的支撑板进行清洁,包括相对设置的第一面板和第二面板,第一面板与第二面板之间具有间隙,用于将待清洁掩膜版设置于第一面板与第二面板之间,且将第二面板设置于待清洁掩膜版与支撑板之间进行清洁操作;在第一面板靠近第二面板的一侧设置有多个出气口;至少在第二面板背离第一面板的一侧设置有多个出气口;在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口相连接的气源。

优选的,在第二面板背离第一面板的一侧以及第二面板靠近第一面板的一侧均设置有多个出气口。

进一步的,本发明的掩膜版清洁装置还包括限位部,限位部为条状,限位部的固定端固定连接在掩膜版清洁装置上,限位端设置在第二面板靠近支撑板的一侧,用于在的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与支撑板侧面相抵靠。

进一步的,本发明的掩膜版清洁装置还包括固定部,固定部与限位部的限位端相连且与限位部相互垂直,固定部的上表面与支撑板的下表面位于同一水平面上,固定部用于在的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与支撑板的下表面卡接固定。

优选的,限位部和固定部为一体结构。

优选的,第二面板靠近支撑板的一面设置有辅助运动件,辅助运动件用于在将掩膜版清洁装置放入清洁工位时,减小第二面板与支撑板之间相对移动的摩擦阻力。

进一步的,辅助运动件包括多个滚动件。

进一步的,滚动件包括滚动轴以及穿插在滚动轴上的滚柱,滚动轴的中心线与第二面板的下表面平行且与第二面板放入清洁工位的运动方向垂直。

优选的,滚动件包括安装槽和设置在安装槽内的滚珠,安装槽的开口尺寸小于滚珠的直径。

进一步的,当支撑板靠近待清洁掩膜版的一侧设置有与掩膜版清洁装置放入清洁工位的方向平行的轨道时,辅助运动件包括设置在第二面板靠近支撑板一侧的与轨道位置对应的滑块;或者,当支撑板靠近待清洁掩膜版的一侧设置有滑块时,辅助运动件包括设置在第二面板靠近支撑板一侧的与滑块位置对应的轨道,轨道的方向与掩膜版清洁装置放入清洁工位的方向平行。

本发明提供一种掩膜版清洁装置,用于对待清洁掩膜版以及放置待清洁掩膜版的支撑板进行清洁,包括相对设置的第一面板和第二面板,第一面板与第二面板之间具有间隙,用于将待清洁掩膜版设置于第一面板与第二面板之间,且将第二面板设置于清洁掩膜版与支撑板之间进行清洁操作;在第一面板靠近第二面板的一侧设置有多个出气口;至少在第二面板背离第一面板的一侧设置有多个出气口;在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口相连接的气源。清洁操作时,待清洁的掩膜版位于第一面板下方,第一面板靠近第二面板的一侧设置的多个出气口向待清洁的掩膜版的上表面吹送气体以去除待清洁的掩膜版的上表面的灰尘或微粒。同时,支撑板位于第二面板的下方,在第二面板背离第一面板的一侧设置的多个出气口向支撑板的上表面吹送气体,以去除支撑板的上表面的灰尘或微粒,提高掩膜版的表面清洁度,提升掩膜版的品质,提高制作的基板的良品率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明提供的一种掩膜版的存放状态图;

图2为本发明提供的一种掩膜版清洁装置的结构示意图;

图3为本发明提供的一种掩膜版清洁装置在第二面板的上表面也设置有出气口的结构示意图;

图4为本发明提供的一种掩膜版清洁装置设置有限位部的结构示意图;

图5为本发明提供的一种掩膜版清洁装置设置有固定部的结构示意图;

图6为本发明提供的一种掩膜版清洁装置设置有辅助运动件的结构示意图;

图7为本发明提供的一种掩膜版清洁装置的辅助运动件为滑块的俯视图;

图8为本发明提供的一种掩膜版清洁装置的俯视图;

图9为图8中第二面板的仰视图;

图10为本发明提供的另一种掩膜版清洁装置的俯视图;

图11为图10中第二面板的仰视图。

附图标记:

01-掩膜版;011-透明基板;012-掩膜图案;013-透明薄膜层;02-支撑板;03-支撑架;04盖板;11-第一面板;12-第二面板;13-气源;131-第一控制阀;132-第二控制阀;14-限位部;15-固定部;16-辅助运动件;161-滚动件;1611-滚动轴;1612-滚柱;1613-安装槽;1614-滚珠;162-轨道;163-滑块;a-第一面板与第二面板之间的间隙;b-出气口;L-两侧支撑架的间距;W-第二面板的宽度。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种掩膜版清洁装置,如图2所示,用于对待清洁的掩膜版01以及放置掩膜版01的支撑板02进行清洁,包括相对设置的第一面板11和第二面板12,第一面板11与第二面板12之间具有间隙a,使用本发明的掩膜版清洁装置对待清洁的掩膜版01以及放置掩膜版01的支撑板02进行清洁操作之前,首先将掩膜版清洁装置沿待清洁的掩膜版01的一侧缓慢插入,将待清洁的掩膜版01设置于第一面板11与第二面板12之间,且将第二面板12设置于待清洁的掩膜版01与支撑板02之间,然后进行清洁操作;在第一面板11靠近第二面板12的一侧设置有多个出气口b;至少在第二面板12背离第一面板11的一侧设置有多个出气口b;在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口b相连接的气源13。

需要说明的是,第一,第一面板11与第二面板12之间具有的间隙a,用于本发明的掩膜版清洁装置在清洁工位时,第一面板11位于待清洁的掩膜版01的上表面之上,与待清洁的掩膜版01的上表面保持一定的距离,同时,第二面板12插入待清洁的掩膜版01和支撑板02之间且第二面板12的上表面和下表面分别与待清洁的掩膜版01下表面以及支撑板02的上表面之间保持一定的距离,以使得第一面板和第二面板12上设置的多个出气口b与待清洁位置之间具有能够保证气体流动的空间。使第一面板11与第二面板12之间保持间隙a的距离,至少可以通过以下两种方式实现。例如,如图2所示,通过连接件将第一面板11与第二面板12相连接,或者,如图4所示,也可以是第一面板11与第二面板12为连为一体的U型结构。

第二,至少在第二面板12背离第一面板11的一侧设置有多个出气口b指的是,可以为如图2所示,仅在第二面板12背离第一面板11的一侧设置有多个出气口b,用于向支撑板02吹送气体,此外,还包括在第二面板12背离第一面板11的一侧设置有多个出气口b的同时,在第二面板12的其他侧面也设置有出气口b,例如,如图3所示,在第二面板12靠近第一面板11的一侧也设置有多个出气口b,能够在第二面板12背离第一面板11的一侧的多个出气口b向支撑板02上表面吹送气体除尘的同时,向掩膜版01的下表面吹送气体除尘,以提高清洁效率,又例如,在第二面板12的左、右侧面设置有多个出气口b,用于向外吹送气体,以引导第二面板12靠近第一面板11以及背离第一面板11的侧面上的出气口b吹出的气体向第二面板12以外的区域流动,避免由于气流涡旋的作用,将吹起的灰尘或微粒再次落入掩膜版01和支撑板02的表面。

此外,在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口b相连接的气源13,本发明中对于气源13的设置位置和数量不做具体限制,气源13可以设置为一个,如图2所示,通过管道分别向第一面板11的多个出气口b和第二面板12的多个出气口b输送气体,也可以为第一面板11和第二面板12分别与气源13连接。

在本发明的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“左”、“右”“水平”等指示的方位或位置关系为基于掩膜版01在支撑板02上放置的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。

本发明提供一种掩膜版清洁装置,用于对待清洁掩膜版以及放置待清洁掩膜版的支撑板进行清洁,包括相对设置的第一面板和第二面板,第一面板与第二面板之间具有间隙,用于将待清洁掩膜版设置于第一面板与第二面板之间,且将第二面板设置于清洁掩膜版与支撑板之间进行清洁操作;在第一面板靠近第二面板的一侧设置有多个出气口;至少在第二面板背离第一面板的一侧设置有多个出气口;在掩膜版清洁装置上还设置有与出气口相连接的气源。清洁操作时,待清洁的掩膜版位于第一面板下方,第一面板靠近第二面板的一侧设置的多个出气口向待清洁的掩膜版的上表面吹送气体以去除待清洁的掩膜版的上表面的灰尘或微粒。同时,支撑板位于第二面板的下方,在第二面板背离第一面板的一侧设置的多个出气口向支撑板的上表面吹送气体,以去除支撑板的上表面的灰尘或微粒,提高掩膜版的表面清洁度,提升掩膜版的品质,提高制作的基板的良品率。

随着显示技术领域的不断发展,显示面板根据不同的客户需求也越来越多样化,对于PPI(Pixels Per Inch,每英寸内拥有的像素数目)较高的显示面板的制作,就需要使用构图图案为纳米级的精细掩膜版。对于此类构图图案精细的掩膜版01,如图2所示,其构图图案形成于掩膜图案012上,为了保护掩膜图案012,通常将掩膜图案012贴附于透明基板011的下表面,避免灰尘或微粒从上方掉落入掩膜图案012内部,而且由于透明基板011通常为具有一定厚度的硬质板,能够有效的保护掩膜图案012的上表面不受到碰撞或因外力造成损伤,为了保护掩膜图案012的下表面,避免与空气接触发生氧化或造成腐蚀损害,在贴附后的掩膜图案012下表面贴附透明薄膜层013,透明薄膜层013同时也能够防止灰尘或微粒由掩膜图案012的下表面掉落入掩膜图案012内部。

将本发明的在第二面板12靠近第一面板11的一侧以及背离第一面板11的一侧均设置有多个出气孔b的结构应用于对构图图案精细的掩膜版01进行清洁工作时,由于设置于掩膜图案012下表面上的透明薄膜层013的层厚较薄,通过第二面板12靠近第一面板11的一侧设置的出气口b向精细的掩膜版01下表面吹气的气流速度较大,可能会将透明薄膜层013吹破,从而导致掩膜图案012的下表面直接与外界空气接触,造成掩膜图案012腐蚀或使灰尘或微粒进入掩膜图案012内部,导致掩膜版01污染无法使用;或者由于其流的作用使掩膜图案012在透明基板011上发生位置的移动甚至脱落。

当使用上述在第二面板12靠近第一面板11的一侧以及背离第一面板11的一侧均设置有多个出气口的掩膜版清洁装置结构对精细化的掩膜版01进行清洁操作时,优选的,如图3所示,第二面板12靠近第一面板11的一侧的多个出气口b的进气位置处设置有第一控制阀131,控制由第二面板12靠近第一面板11的一侧也设置有多个出气口b输出气体的流速;第二面板12背离第一面板11的一侧的多个出气口b的进气位置处设置有第二控制阀132,控制由第二面板12背离第一面板11的一侧的多个出气口b输出气体的流速。

这样一来,如图3所示,当第二面板12靠近第一面板11的一侧也设置有多个出气口b时,能够通过第一控制阀131单独控制吹向掩膜版01下表面的气流流速,将向掩膜版01下表面吹送的气流流速调整的较小,避免吹破设置于掩膜图案012下表面上的透明薄膜层013,或者使掩膜图案012在气流的吹动下在透明基板01上出现位置的移动偏移甚至因贴附不牢固而掉落。第二控制阀132设置为正常的能够吹除灰尘或微粒的气流速度,一方面对掩膜版01以及支撑板02进行清洁,另一方面也能够避免气流过大时,由于气流的涡旋作用使得气流向上翻卷,对掩膜版01下表面的用于保护掩膜图案012的透明薄膜层013造成破损。此外,向第一面板11靠近第二面板12一侧设置的多个出气口b的进气位置处也可以设置相应的控制阀(图中未示出),且图中气源13未示出,设置于三个不同表面的多个出气口b可以共用一个气源13,也可以分别单独连接气源13,此处不做具体限定。

进一步的,本发明中所述的第一面板11以及第二面板12上的多个出气口b均为均匀分布,例如,可以为如图9所示的呈矩阵形式分布,以提高本发明的掩膜版清洁装置向掩膜版01以及支撑板02的表面吹送气体的均匀性,提高灰尘或微粒的去除效果,本发明中出气口b的形状不做具体限定,可以为如图9所示的圆形,也可以为其他形状。

进一步的,如图4所示,本发明的掩膜版清洁装置还包括限位部14,限位部14为条状,限位部14的固定端固定连接在掩膜版清洁装置上,限位端设置在第二面板12靠近支撑板02的一侧,用于在的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与支撑板02侧面相抵靠。

需要说明的是,设置限位部14用于在掩膜版清洁装置放入清洁工位时,对掩膜版清洁装置的放入位置进行限定,避免放入位置过于深入而导致第一面板11和第二面板12的连接位置与掩膜版01发生碰撞,导致掩膜版01损坏。

如图4所示,限位部14的固定端可以设置在第二面板12的下表面上,或者也可以设置在第一面板11和第二面板12的连接位置,此处不做具体限定,限位部14的限位端向下伸出,伸出的长度至少保证超出支撑板02上表面以下。这样一来,在掩膜版清洁装置向清洁工位内放入时,限位部14也逐渐向支撑板02的侧面靠近,直至移动到限位部14与支撑板02的侧面相抵靠的位置,即达到预定的清洁工位,此时掩膜版清洁装置受到限位部14与支撑板02相抵的力不能再继续向前移动,避免放入位置过深而于掩膜版01发生碰撞。

如图4所示,由于第一面板11下表面上的多个出气口b以及第二面板12下表面上的多个出气口b均为向下吹送气体(如图4中箭头所示的方向),出气口b吹出的气体冲击在掩膜版01上表面和支撑板02的上表面并向后反射,气流反射的作用力会推动第一面板11和第二面板12向上移动,由于掩膜版01与支撑板02之间的间距较小,第二面板12向上移动的范围稍大就可能会碰撞损坏掩膜版01下表面的掩膜图案012。

在此基础上,进一步的,如图5所示,本发明的掩膜版清洁装置还包括固定部15,固定部15与限位部14的限位端相连且与限位部14相互垂直,固定部15的上表面与支撑板02的下表面位于同一水平面上,固定部15用于在的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与支撑板02的下表面卡接固定。

由于掩膜版01以及放置掩膜版01的支撑板02在使用前放置在如图5所示的人工叉车上并由人工叉车推送至工作位置,当需要使用本发明的掩膜版清洁装置进行清洁时,将叉车底部的滚轮刹住,并将掩膜版清洁装置放入清洁工位进行清洁操作即可,由于支撑板02设置在叉车上,支撑板02与地面之间有一定的距离空间,因此能够实现将固定部15放入支撑板02下表面并与支撑板02的下表面卡接固定。

这样一来,在掩膜版清洁装置向清洁工位内放入时,设置在限位部14限位端上的固定部15即逐渐伸入支撑板02的下表面并与支撑板02的下表面卡接。在掩膜版清洁装置对掩膜版01和支撑板02进行清洁时,由于固定部15与支撑板02的下表面卡接固定,使得第一面板11和第二面板12的位置固定,气流反射的作用力无法推动第二面板12向上移动,对掩膜版02下表面的掩膜图案012起到保护的作用。

此外,由于固定部15需要承受气流反射推动第一面板11和第二面板12向上移动的力,因此,根据气流反射推动力的大小,固定部15可以为条状或板状,固定部15伸入支撑板02下表面的距离也可以根据气流反射推动力的大小具体设置,若气流流速较大,气流反射推动力也较大,则将固定部15设置为板状,且伸入支撑板02下表面的距离设置的较长,以保证固定的稳定性。

为了节省成本,优选的,如图6所示,限位部14和固定部15为一体结构。

此外,固定部15也可以单独设置在掩膜版清洁装置的其他侧面,不设置在限位部14的限位端之下,本发明对此不做具体限定。

在将本发明的掩膜版清洁装置放入清洁工位时,若直接将第二面板12插入掩膜版01和支撑板02之间,由于掩膜版01和支撑板02之间的空隙较小,人工很难控制插入的平稳性,插入时稍有不慎极可能碰撞到掩膜版01下表面的掩膜图案012,而将第二面板12放置在支撑板02上逐渐推入清洁工位,能够避免碰撞掩膜图案012,但是第二面板12的下表面与支撑板02的上表面之间摩擦阻力较大,反复使用会增加第二面板12和支撑板02的表面磨损。

为了解决上述问题优选的,如图6所示,第二面板12靠近支撑板02的一面设置有辅助运动件16,辅助运动件16用于在将掩膜版清洁装置放入清洁工位时,减小第二面板12与支撑板02之间相对移动的摩擦阻力。

以下对辅助运动件16的形状、设置位置以及工作过程进行具体的说明。

例如,如图7所示(图7为本发明的掩膜版清洁装置的俯视图,其中,为了便于显示清楚,第一面板11和掩膜版01未示出),当支撑板02靠近待清洁的掩膜版01的一侧设置有与掩膜版清洁装置放入清洁工位的方向平行的轨道162时,辅助运动件16包括设置在第二面板12靠近支撑板02一侧的与轨道162位置对应的滑块163。

这样一来,如图7所示,设置在第二面板12靠近支撑板02一侧的滑块163放入掩膜版01对应位置的轨道162,当掩膜版清洁装置沿图中箭头所示的方向放入清洁工位时,滑块163在轨道162内滑动,减小了第二面板12与支撑板02之间相对移动的摩擦阻力。

或者,当支撑板02靠近待清洁的掩膜版01的一侧设置有滑块163时,辅助运动件16包括设置在第二面板12靠近支撑板02一侧的与滑块163位置对应的轨道162,轨道162的方向与掩膜版清洁装置放入清洁工位的方向平行。

以上已经对滑块163与轨道162之间的相对移动方式做了具体的介绍,此处不再赘述。

其中,轨道162以及与轨道162对应的滑块163的设置数量在本发明中不做具体限制,至少为如图7中所示的两组,能够支撑第二面板12的稳定移动即可。

又例如,如图6所示,辅助运动件16为多个滚动件161。

这样一来,将第二面板12放置在支撑板02上后,将掩膜版清洁装置逐渐推入清洁工位的过程中,多个滚动件161在支撑板02上滚动,将滑动摩擦转变为滚动摩擦,减小了第二面板12与支撑板02之间相对移动的摩擦阻力,降低了第二面板12和支撑板02的表面磨损损耗。

本发明中对于第一面板11和第二面板12与掩膜版01之间的尺寸关系未作限定,以下通过具体举例对掩膜版清洁装置的清洁工作方式进行说明。

例如,本示例中为第二面板12的尺寸略小于支撑板02上的两支撑架03间距,第一面板11与掩膜版01尺寸相同。

如图8所示(图8为本发明的掩膜版清洁装置的俯视图,其中,为了便于显示清楚,第一面板11未示出),本示例中的,第二面板12的宽度W为小于两支撑架03间距L的尽可能大的尺寸,使得能够第二面板12放入两支撑架03之间并移动至清洁工位即可,第一面板11(图中未示出)的宽度与掩膜版01的宽度相同。

由于第一面板11与掩膜版01大小相同,第二面板12的宽度也为能够放入两支撑架03之间的最大宽度,因此,当本示例的掩膜版清洁装置放入清洁工位后即可不再移动,第一面板11下表面的多个出气口b能够对整个掩膜版01的上表面均匀吹送气体,去除整个掩膜版01的上表面的灰尘或微粒。因为通常支撑架03均为沿掩膜版01的边缘放置对掩膜版01提供支撑,所以第二面板12下表面的多个出气口b吹出的气流也可以认为能够覆盖整个支撑板02的上表面,以去除整个支撑板02的上表面的灰尘或微粒。

在出气口b吹出气体对掩膜版01及支撑板02进行清洁的过程中,在掩膜版01周围会产生气流流动,第一面板11与掩膜版01大小相同还能够对清洁过程中的掩膜版01上表面起到保护作用,避免由于气流流动将周边空气中的灰尘或微粒掉落至掩膜版01的上表面,导致掩膜版01表面的二次污染。

如图9所示(图9为图8中第二面板12的仰视图),位于第二面板12靠近支撑板02的一面的滚动件161包括滚动轴1611以及穿插在滚动轴1611上的滚柱1612,滚动轴1611的中心线与第二面板12的下表面平行且与第二面板12放入清洁工位的运动方向(如图7中箭头所示的方向)垂直。

这样一来,在将掩膜版清洁装置放入清洁工位的过程中,首先将第二面板12放入两支撑架03之间,并调整第二面板12的运动方向与装置放入清洁工位的运动方向相同。然后推动掩膜版清洁装置向清洁工位内移动,滚柱1612在滚动轴1611上滑动,滚柱1612与支撑板02之间为滚动摩擦。

清洁完成后,将本示例的掩膜版清洁装置沿放入清洁工位的反方向退出,迅速盖合盖板04,将掩膜版01密封入支撑板02与盖板04组成的封闭盒体内,避免再次污染。

又例如,本示例中为第二面板12的宽度为掩膜版01宽度的1/5~1/4,第一面板11与第二面板12尺寸相同。

如图10所示(图10为本发明的掩膜版清洁装置的俯视图,其中,为了便于显示清楚,第一面板11和掩膜版01未示出),本示例中的,第一面板11(图中未示出)与第二面板12的大小相同,第一面板11的宽度W约为掩膜版01宽度的1/5~1/4,这样一来,能够方便的将第二面板12放入掩膜版01与支撑板02之间,然后推动掩膜版清洁装置向内移动至清洁工位的位置。

由于第一面板11与第二面板12的宽度W仅为掩膜版01宽度的1/5~1/4,在向掩膜版01和支撑板02表面吹送气流清除灰尘和微粒时,不能覆盖整个掩膜版01和支撑板02表面。因此,当本示例的掩膜版清洁装置在清洁工位进行清洁操作时,需要推动第一面板11与第二面板12沿宽度方向水平往复移动,以循环的对整个掩膜版01和支撑板02表面的灰尘和微粒进行吹除。

此外,本示例的掩膜版清洁装置由于第一面板11与第二面板12的宽度较小,节省了材料成本,且装置自身重量减轻,使用时移动方便。

对于本示例的掩膜版清洁装置,由于在清洁操作时需要第一面板11与第二面板12沿宽度方向水平往复移动,因此,如图11所示(图11为图10中第二面板12的仰视图),本示例中设置在第二面板12下表面的滚动件161包括安装槽1613和设置在安装槽1613内的滚珠1614,安装槽1613的开口尺寸小于滚珠1614的直径。

这样一来,由于滚珠1614在安装槽1613内能够沿任意方向滚动,在将掩膜版清洁装置放入清洁工位的过程中,滚珠1614在安装槽1613内沿装置放入清洁工位的运动方向滚动。在清洁工位对掩膜版01及支撑板02进行清洁操作时,推动装置沿第一面板11与第二面板12的宽度方向水平往复移动。安装槽1613的开口尺寸小于滚珠1614的直径,能够保证滚珠1614始终在安装槽1613内滚动,不会脱出。

由于本示例的掩膜版清洁装置中的其他连接关系及工作方式在上一示例中已经进行了详细的描述,此处不再赘述。

以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

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