1.一种掩膜版清洁装置，用于对待清洁掩膜版以及放置所述待清洁掩膜版的支撑板进行清洁，其特征在于，包括相对设置的第一面板和第二面板，所述第一面板与所述第二面板之间具有间隙，用于将待清洁掩膜版设置于所述第一面板与所述第二面板之间，且将所述第二面板设置于所述待清洁掩膜版与所述支撑板之间进行清洁操作；
在所述第一面板靠近所述第二面板的一侧设置有多个出气口；
至少在所述第二面板背离所述第一面板的一侧设置有多个出气口；
在所述掩膜版清洁装置上还设置有与所述出气口相连接的气源。
2.根据权利要求1所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，在所述第二面板背离所述第一面板的一侧以及所述第二面板靠近所述第一面板的一侧均设置有多个出气口。
3.根据权利要求1所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，还包括限位部，所述限位部为条状，所述限位部的固定端固定连接在所述掩膜版清洁装置上，限位端设置在所述第二面板靠近所述支撑板的一侧，用于在所述的掩膜版清洁装置放入清洁工位后与所述支撑板侧面相抵靠。
4.根据权利要求3所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，还包括固定部，所述固定部与所述限位部的限位端相连且与所述限位部相互垂直，所述固定部的上表面与所述支撑板的下表面位于同一水平面上，所述固定部用于在所述的掩膜版清洁装置放入所述清洁工位后与所述支撑板的下表面卡接固定。
5.根据权利要求4所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，所述限位部和所述固定部为一体结构。
6.根据权利要求1所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，所述第二面板靠近所述支撑板的一面设置有辅助运动件，所述辅助运动件用于在将所述掩膜版清洁装置放入清洁工位时，减小所述第二面板与所述支撑板之间相对移动的摩擦阻力。
7.根据权利要求6所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，所述辅助运动件包括多个滚动件。
8.根据权利要求7所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，所述滚动件包括滚动轴以及穿插在所述滚动轴上的滚柱，所述滚动轴的中心线与所述第二面板的下表面平行且与所述第二面板放入所述清洁工位的运动方向垂直。
9.根据权利要求7所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，所述滚动件包括安装槽和设置在所述安装槽内的滚珠，所述安装槽的开口尺寸小于所述滚珠的直径。
10.根据权利要求6所述的掩膜版清洁装置，其特征在于，当所述支撑板靠近所述待清洁掩膜版的一侧设置有与所述掩膜版清洁装置放入所述清洁工位的方向平行的轨道时，所述辅助运动件包括设置在所述第二面板靠近所述支撑板一侧的与所述轨道位置对应的滑块；
或者，当所述支撑板靠近所述待清洁掩膜版的一侧设置有滑块时，所述辅助运动件包括设置在所述第二面板靠近所述支撑板一侧的与所述滑块位置对应的轨道，所述轨道的方向与所述掩膜版清洁装置放入所述清洁工位的方向平行。