光学膜片组及防止黏片的方法与流程

本发明涉及一种塑化膜片及其制作方法。特别涉及一种光学膜片组及其制作方法。

背景技术：

具高绝缘性的塑化膜片，因具有累积静电的性质，在与其他不会泄漏静电的物体摩擦或剥离时会产生静电，不仅空气中的污物、灰尘等容易附着，更会使两彼此接触的二膜片相互黏着。

当欲进行液晶面板的组装工艺时，一般以真空吸嘴吸取单一枚光学膜片，以进行后段组装或加工处理。由于相互堆栈的光学膜片之间存在静电，导致光学膜片之间相互吸引黏片，无法一次拮取单一枚光学膜片，而中断组装工艺，影响液晶面板的产能及良率。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种先进的光学膜片组及防止黏片方法，以解决现有技术所面临的问题。

根据本说明书的一实施例是提供一种光学膜片组，包括第一光学膜片以及第二光学膜片，第一光学膜片与第二光学膜片分别包括第一表面以及位于第一表面的相反一侧的第二表面。其中，第一表面具有第一粗糙度，第二表面具有第二粗糙度；第一光学膜片与第二光学膜片互相叠合时，第一光学膜片的第一表面与第二光学膜片的第二表面间具有一最大拉力。且第一粗糙度和第二粗糙度的数值总与最大拉力的数值乘积实质小于1000。

根据本说明书的另一实施例是提供一种防止光学膜片黏片的方法，包括下述步骤：首先，提供至少二个光学膜片，使每一个光学膜片包括第一表面以及位于第一表面的相反一侧的第二表面；并且使第一表面具有第一粗糙度，使第二表面具有第二粗糙度。接着堆栈这些光学膜片，使光学膜片的一者的第一表面与另一者的第二表面接触。其中，第一粗糙度和第二粗糙度的数值总与第一表面和第二表面间的最大拉力的数值乘积实质小于1000。

根据上述，本说明书的实施例提出一种光学膜片组及防止其黏片的方法，藉由使光学膜片位于相反两侧的表面具有不同的粗糙度，并且符合二表面粗糙度数值总合与二者之间最大拉力的数值乘积小于1000的条件。来降低相互堆栈时的至少二光学膜片因静电而发生黏片的机会，以解决现有技术因光学膜片黏片导致组装工艺产能及良率不佳的问题。

以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1A根据本说明书的一实施例所绘示的一种光学膜片的结构透视图；

图1B是沿着图1A的切线S所绘示的光学膜片的结构剖视图；

图1C根据本说明书的另一实施例所绘示的光学膜片的结构剖视图；以及

图2根据本说明书的一实施例绘示附数个相互堆栈的光学膜片的结构透视图。

其中，附图标记

100：光学膜片 100’：光学膜片

100”：光学膜片 101：偏光层

101a：偏光子 101b：第一保护层

101c：第二保护层 102：保护膜

102a：保护膜上表面 102b：保护膜下表面

102c：微结构 103：剥离膜

103a：剥离膜下表面 103b：剥离膜上表面

103c：微结构 104：黏着层

A：剥离膜下表面与保护膜上表面之间的最大拉力

B：保护膜上表面粗糙度 C：剥离膜下表面粗糙度

F：横向拉力

具体实施方式

本说明书是提供一种在组装工艺中不会发生黏片问题的光学膜片及防止其黏片的方法，可有效增进液晶面板组装工艺的产能及良率。为让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举数种实施例详细说明。

但必须注意的是，这些特定的实施案例与方法，并非用以限定本发明。本发明仍可采用其他特征、组件、方法及参数来加以实施。较佳实施例的提出，仅是用以例示本发明的技术特征，并非用以限定本发明的权利要求范围。该技术领域中具有通常知识者，将可根据以下说明书的描述，在不脱离本发明的精神范围内，作均等的修饰与变化。

请参照图1A和图1B，图1A是根据本说明书的一实施例所绘示的一种光学膜片100的结构透视图。图1B是沿着图1A的切线S所绘示的光学膜片100的结构剖视图。其中，光学膜片100至少包括一个偏光层101、一个保护膜102以及一个剥离膜103。其中，保护膜102具有上表面102a以及位于上表面102a的相反一侧的下下表面102b；剥离膜103具有下表面103a以及位于下表面103a的相反一侧的上表面103b；且剥离膜103的上表面103b面对保护膜102下表面102b。偏光层则位于剥离膜103的上表面103b和保护膜102的下表面102b之间。

在本实施例之中，光学膜片100是一种偏光板，其中光学膜片100的偏光层101至少包括一个偏光子101a、一个第一保护层101b以及一个第二保护层101c。其中，偏光子101a位于第一保护层101b和第二保护层101c之间；第一保护层101b位于保护膜102与偏光子101a之间；以及第二保护层101c位于剥离膜103与偏光子101a之间。

偏光子101a可为聚乙烯醇(PVA)树脂膜，其可藉由皂化聚醋酸乙烯树脂制得。聚醋酸乙烯树脂的例子包括醋酸乙烯的单聚合物，即聚醋酸乙烯，以及醋酸乙烯的共聚合物和其他能与醋酸乙烯进行共聚合的单体。其他能与醋酸乙烯进行共聚合的单体的例子包括不饱和羧酸(例如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸乙酯、正丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲酯)、烯烃(例如乙烯、丙烯、1-丁烯、2-甲丙烯)、乙烯醚(例如乙基乙烯醚、甲基乙烯醚、正丙基乙烯醚、异丙基乙烯醚)、不饱和磺酸(例如乙烯基磺酸、乙烯基磺酸钠)等等。

第一保护层101b及/或第二保护层101c的材料可分别选自由聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate，PMMA)、三聚醋酸纤维素(Triacetyl Cellulose，TAC)、丙烯酸树脂膜、聚芳香羟树脂膜、聚醚树脂膜、环聚烯烃树脂膜(例如聚冰片烯树脂膜)、聚酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚丙稀(Polypropylene，PP)、环烯烃聚合物(Cyclo Olefin Polymer，COP)、聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)以及上述任意组合所组成的一族群。

保护膜102和剥离膜103是用来保护偏光层101的完整并减少因碰撞或推叠所产生的刮伤或垫伤。保护膜102和剥离膜103可以具有相同或相异的材质。在一实施例中，保护膜102和剥离膜103的厚度实质介于15微米至40微米之间。

例如在本说明书的一些实施例之中，保护膜102和剥离膜103的材料可选自聚酯树脂、烯烃树脂、乙酸纤维素树脂、聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂、聚对苯二甲酸丁二酯(polyethylene terephthalate,PET)、聚乙烯(polyethylene,PE)或聚丙烯(Polypropylene,PP)、环烯烃树脂或上述的组合。其中，聚酯树脂可以例如是聚对苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯，而丙烯酸树脂可以例如是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。

另外，第二保护层101c和剥离膜103的上表面103b之间还包括一黏着层104，用来将剥离膜103黏贴于偏光层101之上。在本实施例中，黏着层104可以是一种包含有丙烯酸树酯的感压胶(Pressure Sensitive Adhesive，PSA)。

在一实施例中，保护膜102的上表面102a具有实质介于40纳米(nm)至90纳米之间的粗糙度C。剥离膜103的下表面103a具有实质介于15纳米至40纳米之间的粗糙度B。在一实施例中，粗糙度B与粗糙度C可在薄膜拉伸中产生。

在本说明书的一些实施例之中，剥离膜103的粗糙度B和保护膜102的粗糙度C可以藉由分别在剥离膜103的下表面103a和保护膜102的上表面102a上形成微结构103c和微结构102c的方式来加以实现。例如请参考图1C，图1C是根据本说明书的另一实施例所绘示的光学膜片100’的结构剖视图。在本实施例之中，光学膜片100’的微结构102c和微结构103c形成方式，是藉由喷砂处理或蚀刻处理，采用无化学活性的微粒子(未绘示)对保护膜102的上表面102a和剥离膜103的下表面103a进行冲击，以在保护膜102的上表面102a和剥离膜103的下表面103a上形成多个凹陷部。

在本说明书的另一些实施例之中，微结构102c和微结构103c的形成方式，则是藉由沉积和图案化工艺，以在保护膜102的上表面102a和剥离膜103的下表面103a上形成多个凸出部。并藉由控制多个凸出部或凹陷部的密度来调整粗糙度B和粗糙度C的数值。

请参考图2所绘示，将一光学膜片100”以胶带(未绘示)固定，并将另一个光学膜片100叠置于其上，使被固定的光学膜片100”的保护膜102的上表面102a与上方光学膜片100的剥离膜103的下表面103a接触。当上方光学膜片100被横向拉力F拉动时，藉由拉力测试可量测出上方光学膜片100的剥离膜103的下表面103a与被固定的光学膜片100”的保护膜102的上表面102a二者之间的最大拉力A。

在本说明书的实施例之中，粗糙度B和粗糙度C的数值总和(B+C)与剥离膜103下表面103a和保护膜102上表面102a之间的最大拉力A的数值乘积(B+C)×A实质小于1000。其中，最大拉力A值实值小于8牛顿(N)。

粗糙度B、粗糙度C和最大拉力A的数学关系式如下:

A×(B+C)<1000；A<8

在本说明书的一些实施例之中，还可以选择性地(optionally)在保护膜102上表面102a和/或剥离膜103下表面103a上分别涂布一层抗静电涂层(未绘示)，藉以进一步调整剥离膜103下表面103a和保护膜102上表面102a之间的最大拉力A。

其中，抗静电涂层的材料可以是(a)具有4级铵盐、吡啶嗡盐、第1至3级胺基等阳离子性基团的各种阳离子性抗静电剂；(b)具有磺酸盐基、硫酸酯盐基、磷酸酯盐基、膦酸盐基等阴离子性基团的阴离子性抗静电剂；(c)具有胺基酸类、胺基硫酸酯类等的两性抗静电剂；(d)具有胺基醇系、甘油系、聚乙二醇系等的非离子性抗静电剂；或是(e)包含上述抗静电剂的高分子所形成的高分子型抗静电剂。

若单一光学膜片100的剥离膜103的下表面103a和保护膜102的上表面102a粗糙度B和粗糙度C和最大拉力A符合前述数学式的条件时，将多个光学膜片100以相互堆栈的方式行运输、储存或进行光学膜片的组装工艺时，两相互接触的光学膜片100之间及不会出现黏片的现象。

在一实施例中，亦可在光学膜片100形成之前，先挑选符合粗糙度B的剥离膜103，粗糙度C的保护膜102和最大拉力A的原膜材料后，再进行光学膜片100的制作，以避免后续黏片的现象。

以下特举出多个符合上述数学式的条件的实施例与未符合上述数学式的条件的多个比较例来进行黏片测试。将数枚实施例所提供的光学膜片100(或比较例的光学膜片)以下方光学膜片100的保护膜102的上表面102a与上方光学膜片100的剥离膜103的下表面103a相互接触的方式彼此堆栈，再以重物压放5分钟以上，移除重物之后，以手取或以光学膜片组装工艺中所使用的吸嘴来吸取位于最上方的一片光学膜片100(或比较例的光学膜片)，检测其是否会吸附下方的光学膜片100(或比较例的光学膜片)。检测结果，X代表不黏片；O代表黏片

详细测试状况请参照下表：

值得住意的是，虽然在上述实施例中用来进行黏片测试的光学膜片的尺寸都为31.5寸，但在前述抗黏片的方法与参数条件仍适用于其他尺寸，例如大于40寸(例如42寸、50寸或65寸)的较大尺寸实施例，也适用于小于26寸(例如介于15寸至26寸之间)的较小尺寸实施例。

根据上述，本说明书的实施例是提出一种光学膜片组及防止其黏片的方法，藉由使光学膜片位于相反两侧的表面具有不同的粗糙度，并且符合二表面粗糙度数值总合与二者之间最大拉力的数值乘积小于1000的条件。来降低相互堆栈时的至少二光学膜片因静电而发生黏片的机会，以解决现有技术因光学膜片黏片导致组装工艺产能及良率不佳的问题。

藉由本说明书的实施例可于制作光学膜片前，先依粗糙度筛选适合的保护层及剥离膜材料膜材，来降低相互堆栈时的至少二光学膜片因静电而发生黏片的机会，以解决现有技术因光学膜片黏片导致组装工艺产能及良率不佳的问题。

虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明。此处所述的工艺步骤和结构并未涵盖制作整体集成电路的完整制造过程。本发明可以和许多目前已知或未来被发展出来的不同集成电路制作技术合并实施。本发明所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本发明的保护范围当视后附的权利要求范围所界定者为准。