1.一种掩膜板,其特征在于,用于制作彩色滤光片,具有图案区域,包括玻璃基板(101)、以及设于所述玻璃基板(101)上的金属膜(102)和多个半透膜(103);
所述金属膜(102)在玻璃基板(101)上形成遮光区域,并在对应所述图案区域上设有数个开口(104);
所述多个半透膜(103)对应设于所述图案区域上,所述图案区域为半透光区域;
所述图案区域上的多个半透膜(103)的透光率由掩膜板的四周边界处向中心处递减。
2.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述图案区域上的多个半透膜(103)的透光率为50%-100%。
3.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述金属膜(102)的材料为铬。
4.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述玻璃基板(101)为石英玻璃基板。
5.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,其厚度为5-20mm。
6.一种彩色滤光片的制作方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤S1、提供一衬底基板(200),在所述衬底基板(200)上涂布光阻材料形成光阻层(300);
步骤S2、提供如权利要求1-5中任一项所述的掩膜板(100),利用所述掩膜板(100)对所述光阻层(300)进行曝光;
步骤S3、对曝光后的所述光阻层(300)进行显影,得到所述彩色滤光片上所需的色阻图案(350)。
7.如权利要求6所述的彩色滤光片的制作方法,其特征在于,所述衬底基板(200)为彩膜基板、或薄膜晶体管基板。
8.如权利要求6所述的彩色滤光片的制作方法,其特征在于,所述步骤S2中,通过曝光机对所述光阻层(300)进行曝光,所述曝光机为投影式曝光机。
9.如权利要求6所述的彩色滤光片的制作方法,其特征在于,所述步骤S1中,所涂布的光阻材料为正性光刻胶材料;所涂布的光阻材料为红色、绿色、或蓝色光刻胶材料。
10.如权利要求6所述的彩色滤光片的制作方法,其特征在于,所述步骤S3还包括,在对所述光阻层(300)进行显影后,对所述光阻层(300)进行烘烤。