曝光方法、平板显示器的制造方法和器件制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及曝光方法、平板显示器的制造方法和器件制造方法，更具体而言，涉及使图案保持体相对于能量束而在扫描方向上相对移动的曝光方法、使用所述曝光方法的平板显示器的制造方法和使用所述曝光方法的器件制造方法。
【背景技术】
[0002]以往，在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子器件(微型器件)的光刻工序中，使用了如下步进-扫描式曝光装置(所谓扫描步进曝光机(也称作扫描曝光机))等:使掩模(光掩模)或掩模板(以下统称为“掩模”)和玻璃板或晶片(以下统称为“基板”)沿着规定的扫描方向(扫描方向)同步移动，并使用能量束将在掩模上形成的图案转印到基板上。
[0003]在这种曝光装置中，使用了如下掩模台装置:通过对吸附保持掩模的端部的框状的部件(称作掩模架等)进行位置控制，由此进行掩模的位置控制(参照例如专利文献I)。
[0004]此处，随着近年来的基板的大型化，掩模也存在大型化的趋势。由此，掩模的自重引起的烧曲(或振动)可能给曝光精度带来影响。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1:美国专利申请公开第2008/0030702号说明书
【发明内容】
[0008]用于解决问题的手段
[0009]本发明是鉴于上述情况而完成的，基于第I观点，成为包含如下步骤的曝光方法:使具有规定图案的图案保持体的上表面与支承部件的下表面相对，其中，该支承部件能够以非接触方式从重力方向上侧悬垂支承该图案保持体；使所述图案保持体以非接触方式悬垂支承在所述支承部件上；使能够保持所述图案保持体的保持部件保持悬垂支承在所述支承部件上的所述图案保持体；使用所述保持部件，使所述图案保持体至少在规定的2维平面内的扫描方向上相对于能量束移动，并且，相对于所述能量束，在所述扫描方向上驱动曝光对象物体，将所述图案转印到所述曝光对象物体上；在维持所述支承部件对所述图案保持体的悬垂支承的状态下，解除所述保持部件对所述图案保持体的保持；使解除了所述保持部件的保持的所述图案保持体的上表面与所述支承部件的下表面分离。
[0010]由此，在图案保持体相对于能量束相对移动时，其上表面以非接触方式悬垂支承在支承部件上，因此，抑制了挠曲(或振动)。此外，在图案保持体悬垂支承于支承部件的状态下，进行保持部件对图案保持体的保持及该保持的解除，因此，与将图案保持体交接给直接保持部件的情况下和从保持部件直接回收图案保持体的情况相比，图案保持体的更换动作变得简单。
[0011]根据第2观点，本发明是包含如下步骤的平板显示器的制造方法:使用本发明的第I观点的曝光方法，对所述曝光对象物体进行曝光；以及对曝光后的所述曝光对象物体进行显影。
[0012]根据第3观点，本发明是包含如下步骤的器件制造方法；使用本发明的第I观点的曝光方法，对所述曝光对象物体进行曝光；以及，对曝光后的所述曝光对象物体进行显影。
【附图说明】
[0013]图1是概略地示出第I实施方式的液晶曝光装置的结构的图。
[0014]图2是液晶曝光装置的侧面(一部分截面)图。
[0015]图3是图1的液晶曝光装置具有的掩模台装置的正面图。
[0016]图4是图3的A-A线侧视图(从上方观察掩模台装置的图)。
[0017]图5是图3的B-B线侧视图(从下方观察掩模台装置的图)。
[0018]图6(A)和图6(B)是用于说明送入掩模时的掩模装载装置的动作的图(其I和其2)。
[0019]图7(A)?图7(C)是用于说明送入掩模时的掩模台装置的动作的图(其I?其3)。
[0020]图8 (A)和图8(B)是用于说明使用第2实施方式的掩模装载装置的掩模送入动作的图(其I和其2)。
[0021]图9(A)和图9(B)是用于说明使用第2实施方式的掩模装载装置的掩模送入动作的图(其3和其4)。
[0022]图10(A)和图10(B)是用于说明使用第2实施方式的掩模装载装置的掩模送入动作的图(其5和其6)。
【具体实施方式】
[0023]《第I实施方式》
[0024]以下，基于图1?图7(C)，对第I实施方式进行说明。
[0025]图1概略地示出了第I实施方式的液晶曝光装置10的结构。液晶曝光装置10例如是以在液晶显示装置(平板显示器)等中使用的矩形(角型)的玻璃基板P(以下简单称作基板P)为曝光对象物的步进-扫描式的投影曝光装置、即所谓扫描曝光机。
[0026]液晶曝光装置10具有照明系统12、保持光透过型掩模M的掩模台装置14、投影光学系统16、装置主体18、保持基板P的基板台装置20、掩模装载装置90 (在图1中，未图示。参照图2)和它们的控制系统等，其中，基板P在表面(在图1中，朝向+Z侧的面)涂布有抗蚀剂(感应剂)。以下，在进行曝光时，设掩模M和基板P相对于投影光学系统16分别相对扫描的方向为X轴方向，设在水平面内与X轴垂直的方向为Y轴方向，设与X轴和Y轴垂直的方向为Z轴方向、设绕X轴、Y轴和Z轴的旋转方向为0x、0y* Θ z方向来进行说明。此外，设与X轴、Y轴和Z轴方向相关的位置分别为X位置、Y位置和Z位置来进行说明。
[0027]照明系统12与例如美国专利第5，729，331号说明书等公开的照明系统同样地构成。照明系统12使从未图示的光源(例如水银灯)射出的光分别经由未图示的反射镜、分色镜、快门、波长选择滤光片、各种透镜等，作为曝光用照明光(照明光)IL而照射于掩模M。作为照明光IL，使用例如i线(波长365nm)，g线(波长436nm)，h线(波长405nm)等光(或上述i线、g线、h线的合成光)。
[0028]照明系统12(包含上述各种透镜等的照明系统单元)支承于设置在洁净室的地板11上的照明系统框架30。照明系统框架30具有多个脚部32(在图1中，与纸面进深方向重合)和支承于该多个脚部32的照明系统支承部34。
[0029]掩模台装置14是用于相对于照明系统12 (照明光IL)而在X轴方向(扫描方向)上以规定的长度行程来驱动掩模M,并在Y轴方向和Θ z方向上微细地驱动掩模M的工件。掩模M例如由石英玻璃形成的俯视时呈矩形的板状部件构成，在朝向图1中的-Z侧的面(下表面部)形成有规定的电路图案(掩模图案)。图3所示，在掩模M的下表面部，为了保护掩模图案，安装有被称作表膜Pe的防尘膜。此处，在掩模M的下表面的宽度方向(Y轴方向)两端部，设置有未形成有掩模图案的区域(以下称作余白区域)。因此，表膜Pe的宽度方向尺寸被设定为小于掩模M的宽度方向尺寸。关于掩模台装置14的详细结构，将在后面记述。
[0030]返回到图1，投影光学系统16被配置在掩模台装置14的下方。投影光学系统16例如是与美国专利第6，552，775号说明书等公开的投影光学系统相同结构的所谓多透镜投影光学系统，具有利用例如两侧远心的放大镜来形成正立正像的多个投影光学系统。
[0031]在液晶曝光装置10中，在利用来自照明系统12的照明光IL对掩模M上的照明区域进行照明时，利用通过了掩模M的照明光，经由投影光学系统16，在与基板P上的照明区域共轭的照明光的照射区域(曝光区域)中形成该照明区域内的掩模M的电路图案的投影像(部分正立像)。进而，使掩模M相对于照明区域(照明光IL)在扫描方向上相对移动，并且，使基板P相对于曝光区域(照明光IL)在扫描方向上相对移动，由此，进行基板P上的I个照射区域的扫描曝光，在该照射区域中转印出在掩模M上形成的图案。
[0032]装置主体18支承上述投影光学系统16，并经由多个防振装置19设置在地板11上。装置主体18与例如美国专利申请公开第2008/0030702号说明书公开的装置主体同样地构成，具有上台架部18a、下台架部18b和一对中台架部18c。装置主体18被配置为与上述照明系统框架30在振动方面分离。因此，投影光学系统16与照明系统12在振动方面分离。
[0033]基板台装置20包含基座22、XY粗动台24和微动台26。基座22由俯视时(从+Z侧观察)矩形的板状的部件