光学膜和面发光体的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及光学膜和面发光体。 本申请要求基于2013年4月5日在日本申请的日本专利第2013-079071号的优先权， 在这里引用其内容。
【背景技术】
[0002] 面发光体中，对于有机EL (电致发光）发光元件，期待其被用于平板显示器或被用 于作为代替荧光灯等的下一代照明中。
[0003] 作为有机EL发光元件的结构，从仅为作为发光层的有机薄膜夹在2个电极之间的 简单结构，至含有发光层的多层化有机薄膜的结构，其结构多样化。作为后者的多层化结 构，例如可列举出在设置于玻璃基板上的阳极上，层叠了空穴传输层、发光层、电子传输层、 阴极。夹在阳极与阴极之间的层，全部是由有机薄膜构成，各有机薄膜的厚度为数十纳米， 非常薄。
[0004] 有机EL发光元件是一种薄膜层叠体，根据各薄膜材料之间的折射率差决定薄膜 间光的全反射角。目前，发光层中产生的光的大约80%被封闭于有机EL发光元件内部，无 法提取至外部。具体地，如果玻璃基板的折射率设为1. 5,空气层的折射率设为1. 0,则临界 角Θ。为41.8°，入射角小于该临界角Θ。的光从玻璃基板出射至空气层，但入射角大于该 临界角Θ。的光则全反射而被封闭于玻璃基板内部。因此，要求将封闭于有机EL发光元件 表面的玻璃基板内部的光提取至玻璃基板外部，即要求提高光提取效率或正射亮度（法線 輝度）。
[0005] 此外，关于进行各向同性发光的有机EL发光元件，要求提高光提取效率或正射亮 度，以及抑制来自有机EL发光元件的射出光波长的射出角度依赖性。即，当来自发光层的 出射光通过玻璃基板从玻璃基板进行光的出射时，要求由波长引起的出射角度的差异小， 换句话说，要求尽可能抑制对来自玻璃基板的出射光分布的波长依赖性。
[0006] 为了解决上述课题，专利文献1中提出了，将凹凸结构中含有微粒的光学膜粘合 于有机EL发光元件上的面发光体。此外，专利文献2中则提出了，通过使用含有微粒的粘 合剂，将具有凹凸结构的光学膜粘合于有机EL发光元件上的面发光体。 现有技术文献 专利文献
[0007] 专利文献1 :日本专利特开第2010-212204号公报 专利文献2 :日本专利特开第2012-18873号公报
【发明内容】
发明要解决的课题
[0008] 然而，专利文献1中提出的面发光体具有以下问题，其微粒的含有率高则光学膜 翘曲，而其微粒的含有率低则无法充分地抑制出射光波长的出射角度依赖性。此外，专利文 献2中提出的面发光体则具有光提取效率或正射亮度较差的问题。 特别是，如果光学膜的翘曲量大，则在将光学膜粘合于有机EL发光元件的工序中，成 为使生产率大幅度降低的主要原因。
[0009] 因此，本发明的目的在于提供一种光学膜，其实现了抑制翘曲、提高面发光体的光 提取效率或正射亮度、以及抑制面发光体的出射光波长的出射角度依赖性。 解决问题的手段
[0010] [1] -种光学膜，是具有形成一侧表面的凹凸结构层与形成另一侧表面的粘合层 的光学膜，其特征在于， 相对于所述凹凸结构层的全部质量，所述凹凸结构层含有1质量％~28质量％的第1 光漫射微粒； 相对于所述粘合层的全部质量，所述粘合层含有1质量％~40质量％的第2光漫射微 粒。
[2] 根据[1]所述的光学膜，其特征在于，相对于所述粘合层的全部质量，所述第2光漫 射微粒的含有率为20质量％~40质量％。
[3] 根据[1]或[2]所述的光学膜，其特征在于，所述凹凸结构层中包含的所述第1光 漫射微粒的体积平均粒径为〇. 5 μ m~20 μ m。
[4] 根据[1]~[3]中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述粘合层中包含的所述第 2光漫射微粒的体积平均粒径为0. 5 μ m~20 μ m。
[5] 根据[1]~[4]中任一项所述的光学膜，其特征在于，构成所述凹凸结构层的材料 的折射率与所述凹凸结构层中包含的所述第1光漫射微粒的折射率之差为〇. 02~0. 30。
[6] 根据[1]~[5]中任一项所述的光学膜，其特征在于，构成所述粘合层的材料的折 射率与所述粘合层中包含的所述第2光漫射微粒的折射率之差为0. 02~0. 30。
[7] 根据[1]~[6]中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述粘合层中包含的所述第 2光漫射微粒的含有率相对于所述凹凸结构层中包含的所述第1光漫射微粒的含有率之比 为 0· 05 ~10， 所述第1光漫射微粒的含有率是所述第1光漫射微粒的相对于所述凹凸结构层全部质 量的含有率，所述第2光漫射微粒的含有率是所述第2光漫射微粒的相对于所述粘合层全 部质量的含有率。
[8] 根据[1]~[7]中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述粘合层中包含的所述第 2光漫射微粒的体积平均粒径相对于所述凹凸结构层中包含的所述第1光漫射微粒的体积 平均粒径之比为0. 125~1. 25。
[9] 根据[1]~[8]中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述粘合层中包含的所述第 2光漫射微粒的折射率相对于所述凹凸结构层中包含的所述第1光漫射微粒的折射率之比 为 0· 80 ~L 05。
[10] 根据[1]~[9]中任一项所述的光学膜，其特征在于，进一步包含与所述凹凸结构 层相接的基层，且所述凹凸结构层和上述基层的合计厚度为20 μ m~80 μ m。
[11] 根据[10]中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述粘合层的厚度为5 μπι~ 50 μ m〇
[12] 根据[1]~[11]中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述粘合层中包含的所述 第2光漫射微粒的体积平均粒径相对于所述粘合层的厚度之比为0. 05~0. 5。
[13] 根据[1]~[12]中任一项所述的光学膜，其特征在于，构成所述凹凸结构层的材 料是选自于由丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、烯烃树脂、聚碳酸酯树脂、硅酮树脂、环氧树脂以及 聚酯树脂构成的组中的至少1种材料。
[14] 根据[1]~[13]中任一项所述的光学膜，其特征在于，构成所述粘合层的材料为 丙稀fe系粘合剂。
[15] 根据[1]~[14]中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述凹凸结构层中包含的 所述第1光漫射微粒是选自于由硅酮树脂、丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、聚氨酯树脂、三聚氰 胺树脂以及环氧树脂构成的组中的至少1种材料。
[16] 根据[1]~[15]中任一项所述的光学膜，其特征在于，所述粘合层中包含的所述 第2光漫射微粒的材料选自于由硅酮树脂、丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、聚氨酯树脂、三聚氰 胺树脂以及环氧树脂构成的组中的至少1种材料。
[17] 根据[1]~[16]中任一项所述的光学膜，其特征在于，进一步具有基材，且依次层 叠有所述粘合层、所述基材和上述凹凸结构层。
[18] -种面发光体，其特征在于，包含[1]~[17]中任一项所述的光学膜以及EL发光 元件。
[19] 一种光学膜的制造方法，其特征在于，在基材的一侧表面上，设置粘合层，相对于 所述粘合层的全部质量，所述粘合层含有1质量％~40质量％的第2光漫射微粒；在所述 基材的另一侧表面上，设置所述凹凸结构层，相对于所述凹凸结构层的全部质量，所述凹凸 结构层含有1质量％~28质量％的第1光漫射微粒。
[0011] 此外，本发明涉及一种包含所述光学膜的面发光体。 发明效果
[0012] 本发明的光学膜可抑制翘曲、提高面发光体的光提取效率或正射亮度、抑制出射 光波长的出射角度依赖性。 此外，本发明的面发光体其生产性优异，光提取效率或正射亮度提高，且可抑制出射光 波长的出射角度依赖性。
【附图说明】
[0013] [图1]是显示一例本发明光学膜的截面示意图。
[图2A]是从光学膜上方看到的本发明光学膜的凹凸结构配置例的示意图。
[图2B]是从光学膜上方看到的本发明光学膜的凹凸结构配置例的示意图。
[图2C]是从光学膜上方看到的本发明光学膜的凹凸结构配置例的示意图。
[图2D]是从光学膜上方看到的本发明光学膜的凹凸结构配置例的示意图。
[图2E]是从光学膜上方看到的本发明光学膜的凹凸结构配置例的示意图。
[图2F]是从光学膜上方看到的本发明光学膜的凹凸结构配置例的示意图。
[图3A]是显示一例本发明光学膜的凹凸结构的示意图。
[图3B]是显示一例本发明光学膜的凹凸结构的示意图。
[图4]是从光学膜上方看到的一例本发明光学膜的示意图。
[图5]是显示一例本发明光学膜的制造装置的图。
[图6]是显示一例本发明的面发光体的示意图。 符号说明 10 :光学膜 11 :凹凸结构层 111 :构成凹凸结构层的材料 112:凹凸结构层中包含的微粒 12 :粘合层 121 :构成粘合层的材料 122 :粘合层中包含的微粒 13 :凹凸结构 14 :基层 15 :基材 16 :凹凸结构的底面部 17 :保护膜 30 :EL发光元件 31 :玻璃基板 32 :阳极 33 :发光层 34 :阴极 50 :装置 51 :混合物 52 :辊模 53 :乳辊 54 :活性能量线照射装置 55 :罐 56 :配管
【具体实施方式】
[0014] 以下，对本发明的实施方式边使用附图边进行说明，但本发明并不局限于这些附 图。
[0015] (光学膜 10) 本发明的光学膜10具有形成一侧表面的凹凸结构层与形成另一侧表面的粘合层。 本发明的光学膜10例如可列举出如图1所示的光学膜10等。 图1所示的光学膜10包含基材15、表面层19、粘合层12与保护膜17。表面层19包含 凹凸结构层11与基层14。详见下文，但凹凸结构层11由第1微粒（第1光漫射微粒）112 与材料111构成。 就有利于凹凸结构层11的凹凸结构13形状的维持而言，本发明的光学膜10优选设置 如图1所示的基层14。此外，就处理性、生产率优异而言，本发明的光学膜10优选在基材 15的一面上设置凹凸结构层11，而在基材15的另一面上设置粘合层12。考虑上述情况，本 发明的光学膜10特别优选为依次层叠有粘合层12、基材15、基层14以及凹凸结构层11的 膜。
[0016] (凹凸结构层11) 凹凸结构层11上，配置了后述的凹凸结构13的突起（凸部）或凹陷（凹部）。 就光学膜10的生产率优异而言，对于凹凸结构层11的突起或凹陷，优选突起。本说 明书中，在存在凹凸结构13的突起或凹陷中任一种的情况下，或上述两者混和存在的情况 下，仅表示为凹凸结构13。
[0017] 作为凹凸结构13的形状，例如可列举出球缺状、球台形状、椭圆体球缺状（以1个 平面对旋转椭圆体进行切割而得的形状）、椭圆体球台形状（以互相平行的2个平面切割 旋转椭圆体而得的形状）、棱锥状、棱台形状、圆锥状、圆锥台形状、与这些关联的屋顶形状 (球缺状、球台形状、椭圆体球缺状、椭圆体球台形状、棱锥状、棱台形状、圆锥状或圆锥台形 状沿着底面伸长的形状）等。这些凹凸结构13的形状可单独使用1种或2种以上并用。这 些凹凸结构13的形状中，就面发光体的光提取效率或正射亮度优异而言，优选球缺状、球 台形状、椭圆体球缺状、椭圆体球台形状等球状，更优选球缺状、椭圆体球缺状。 另外，所述球状既可以是正球状也可以是大致球状。大致球状是指，球状表面从外切于 该球状的假设正球表面、向所述假设正球的中心发出的法线方向偏移的形状，相对于所述 假设正球的半径，该偏差量为〇~20%。 此外，本说明书中，在将形状表示为"椭圆"的情况下，也包含使正圆向一个方向或多方 向伸长的圆形。
[0018] 凹凸结构13的配置例如图2A~图2F所示。 作为凹凸结构13的配置，例如可列举出六方排列（图2A)、矩形排列（图2B)、菱形排 列（图2C)、直线状排列（图2D)、圆状排列（图2E)、无规排列（图2F)等。六方排列是指， 沿六边形的各顶点和中点配置凹凸结构13,该六边形的配置为连续排列。矩形排列是指，沿 矩形的各顶点配置凹凸结构13,该矩形的配置为连续排列。菱形排列是指，沿菱形的各顶点 配置凹凸结构13,该菱形的配置为连续排列。直线状排列是指，沿直线状配置凹凸结构13。 圆状排列是指，沿圆配置凹凸结构13。 这些凹凸结构13的配置中，就面发光体的光提取效率或正射亮度优异而言，优选六方 排列、矩形排列、菱形排列，更优选六方排列、矩形排列。
[0019] 凹凸结构13的一例如图3A和图3B所示。 本说明书中，凹凸结构13的底面部16是指，由凹凸结构13的底部（在具有基层14的 情况下，与基层14的接触面）的外周边缘所包围的假设的面状部分。 此外，本说明书中，凹凸结构13的底面部16的最长直径A是指，凹凸结构13的底面部 16中最长部分的长度，而凹凸结构13的底面部16的平均最长直径Aare是对光学膜10的具 有凹凸结构13的表面进行电子显微镜拍摄，测定任意5处凹凸结构13的底面部16的最长 直径A，记作其平均值。 进一步地，本说明书中，凹凸结构13的高度B是指，在突起结构的情况下，则表示从凹 凸结构13的底面部16至最高部位的高度，而在凹陷结构的情况下，则表示从凹凸结构13 的底面部16至最低部位的高度。凹凸结构13的平均高度Bare是对光学膜10的截面进行 电子显微镜拍摄，测定任意5处凹凸结构13的高度B，记作其平均值。
[002