液晶显示器件及其制造方法_3

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/或构造相同或类似。
[0066] 在示例性实施方式中,上部定向层180的在邻近于上部电极170的部分处的基于 聚酰亚胺的聚合物树脂的酰亚胺化率可不同于在邻近于液晶层140的部分处的基于聚酰 亚胺的聚合物树脂的酰亚胺化率。在一个示例性实施方式中,在所述邻近于上部电极170 的部分处的基于聚酰亚胺的聚合物树脂的酰亚胺化率可范围为约65% -约90%,在另一示 例性实施方式中,约75% -约90%。在所述邻近于液晶层140的部分处的基于聚酰亚胺的 聚合物树脂的酰亚胺化率可小于在所述邻近于上部电极170的部分处的基于聚酰亚胺的 聚合物树脂的酰亚胺化率。在此情况下,通过所述邻近于上部电极170的部分,可抑制或者 阻碍上部定向层180中在邻近于液晶层140的部分处包括的组分的移动性。
[0067] 在一个示例性实施方式中,上部定向层180可包括上部垂直定向层182和上部倾 斜定向层184。上部垂直定向层182可形成于邻近于上部电极170的部分处。上部倾斜定 向层184可形成于邻近于液晶层140的部分处。
[0068] 在一个示例性实施方式中,上部倾斜定向层184可作为图案例如彼此隔开的多个 岛形成于邻近于液晶层140的部分处。上部倾斜定向层184的各图案可至少部分地埋在或 者嵌入上部垂直定向层182中,并且可从上部垂直定向层182的表面暴露。
[0069] 上部垂直定向层182可包括这样的基于聚酰亚胺的聚合物树脂:其酰亚胺化率可 范围为约65% -约90%、特别是约75% -约90%。上部倾斜定向层184可包括反应性介 晶("RM")和所述基于聚酰亚胺的聚合物树脂。在一个示例性实施方式中,上部倾斜定向 层184可进一步包括作为聚酰亚胺前体的单体或低聚物。上部倾斜定向层184中的基于聚 酰亚胺的聚合物树脂的酰亚胺化率可小于上部垂直定向层182中的基于聚酰亚胺的聚合 物树脂的酰亚胺化率。
[0070] 液晶层140可介于上部基板结构150和下部基板结构100之间。在一个示例性实 施方式中,所述液晶层可与上部定向层180和下部定向层130的暴露表面接触。
[0071] 在一个示例性实施方式中,液晶层140可与上部倾斜定向层184和下部倾斜定向 层134接触。进一步地,液晶层140可与上部垂直定向层182和下部垂直定向层132的在 上部倾斜定向层184和下部倾斜定向层134的图案之间暴露的表面接触。
[0072] 液晶层140可在其中包括液晶分子145。
[0073] 液晶分子145可通过暴露于电场和/或紫外光而预倾斜。在示例性实施方式中, 液晶分子145可通过下部和上部垂直定向层132和182的在具有岛图案的下部和上部倾斜 定向层134和184中限定的空隙中暴露的部分而垂直定向。进一步地,液晶分子145可通 过使下部和上部垂直定向层132和182的部分暴露的下部和上部倾斜定向层134和184而 预倾斜。因此,可改善所述LCD器件的视角、响应速度、透射率等。
[0074] 根据上述示例性实施方式,下部和上部垂直定向层132和182可包括具有预定范 围的酰亚胺化率的基于聚酰亚胺的聚合物树脂。在所述酰亚胺化率范围中,下部和上部垂 直定向层132和182与下部和上部倾斜定向层134和184之间的粘附可改善,使得可防 止下部和上部倾斜定向层134和184的扩散或膨胀(溶胀,swell)。因此,下部和上部倾 斜定向层134和184中包括的组分,例如,作为所述聚酰亚胺前体的单体或低聚物,可具有 降低的移动性。因此,可防止当所述组分介入液晶分子145之间时产生的显示屏的纹理 (texture)、姆拉和斑点。
[0075] 图2-7是对制造液晶显示器件的方法的示例性实施方式进行说明的横截面图。
[0076] 参照图2,可在下部基板110上形成下部电极120。
[0077] 可使用玻璃基板或透明塑料基板作为下部基板110。所述透明塑料基板可使用例 如PET、PEN、聚丙烯酸酯等形成。
[0078] 在示例性实施方式中,可在下部基板110上形成TFT阵列。在一个示例性的器件 中,可在下部基板110上形成包括栅绝缘层、栅电极、半导体层、源电极和漏电极的TFT。可 形成电连接至所述栅电极的栅极线和电连接至所述源电极的数据线。可进一步在下部基板 110上形成覆盖所述TFT阵列的钝化层。
[0079] 在一个示例性实施方式中,可进一步在下部基板110上形成滤色器和/或黑色矩 阵。
[0080] 下部电极120可使用透明导电材料例如120、11'0、21'0、氧化锌、氧化锡等形成。替 代地,下部电极120可使用金属例如Cr、Al、Ta、Mo、Ti、W、Cu、Nd等、或其合金形成。下部 电极120可通过溅射方法、化学气相沉积("CVD")方法、原子层沉积("ALD")方法、真空 沉积方法或印刷方法形成。
[0081] 下部电极120可电连接至所述TFT的漏电极。在一个示例性的器件中,可将所述 钝化层部分地蚀刻以形成这样的接触孔:通过其使所述漏电极暴露。下部电极120可经由 所述接触孔与所述漏电极进行接触。
[0082] 可将下部电极120按照每个像素进行图案化。在此情况下,所述TFT和下部电极 120可按照每个像素形成。
[0083] 参照图3,可在下部基板110上形成覆盖下部电极120的初始的下部定向层124。
[0084] 在示例性实施方式中,可将定向层组合物通过例如喷墨印刷方法、辊印方法或者 旋涂方法涂覆在下部基板110和下部电极120上。
[0085] 所述定向层组合物可包括基于聚酰亚胺的聚合物树脂、反应性介晶和溶剂。
[0086] 在示例性实施方式中,所述基于聚酰亚胺的聚合物树脂可包括聚酰亚胺和聚酰胺 酸的混合物。所述基于聚酰亚胺的聚合物树脂的酰亚胺化率可范围为约65% -约90%。 在一个示例性实施方式中,所述基于聚酰亚胺的聚合物树脂的酰亚胺化率可范围为约 75% -约 90%。
[0087] 如上所述,所述反应性介晶可包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、环氧化物、氧杂环丁 烷、乙烯基醚、苯乙烯、硫醇烯或其组合。
[0088] 所述溶剂可包括对聚合物材料具有良好的溶解性的有机溶剂,例如,N-甲基吡咯 烷酮("NMP")、丁内酯或丁基溶纤剂。这些可单独地或者以其组合使用。所述定向层组合 物可进一步包括添加剂例如光敏剂或热固化剂。
[0089] 在一个示例性实施方式中,在涂覆所述定向层组合物之后,可通过初步的热处理 使所述溶剂蒸发以形成初始的下部定向层124。在一个示例性实施方式中,所述初步的热处 理可在约80摄氏度CC)-约120Γ的温度下进行。替代地,可将所涂覆的定向层组合物在 室温("RT")下放置预定的时间以形成初始的下部定向层124。
[0090] 在将所述定向层组合物涂覆在下部电极120上之后,所述组合物中的具有亲水性 和相对高的极性的组分可由于与下部电极120的亲和性而向着下部电极120移动。所述组 合物中的具有疏水性和相对低的极性的组分可向外部环境(atmosphere)移动,并且因此 朝向初始的下部定向层124的顶表面或者背离下部电极120分布。因此,在初始的下部定 向层124中可发生相分离。
[0091] 在一个示例性实施方式中,所述具有疏水性和相对低的极性的组分可包括所述反 应性介晶、以及作为聚酰亚胺前体的单体或低聚物。所述单体或低聚物可包括在以上反应 方程式1中表示的二胺和/或二酐。所述二胺和/或二酐可具有对称的分子结构并且因此 可具有疏水性和低的极性。
[0092] 如果所述基于聚酰亚胺的聚合物树脂的酰亚胺化率小于约65%,则分布在初始的 下部定向层124的上部部分处的所述单体或低聚物的移动性可增加,使得所述单体或低聚 物可被设置在液晶分子145之间(参见图6)以在显示屏上造成纹理、姆拉和/或斑点。如 果所述基于聚酰亚胺的聚合物树脂的酰亚胺化率大于约90%,则所述溶剂的溶解性可显著 地降低,并且因此所述定向层组合物可无法被均匀地涂覆。
[0093] 参照图3和4,可将初始的下部定向层124固化和由此转变成下部定向层130。
[0094] 在示例性实施方式中,可对初始的下部定向层124进行热处理以形成下部定向层 130。在一个示例性实施方式中,所述热处理可在范围为约200°C -约300°C的温度下进行。
[0095] 在示例性实施方式中,由于初始的下部定向层124的相分离,下部定向层130可分 成下部垂直定向层132和下部倾斜定向层134。
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