区域和周边区域。例如，导电结构40可为各向异性导电胶，但不限于此。例如，该各向异性导电胶在平行于第一衬底基板的方向上不导电，在垂直于第一衬底基板的方向上导电。例如，导电结构40可为导电银胶，但不限于此。例如，可通过丝网印刷的方式与第一衬底基板上引线106电连接，但不限于此。引线106的材质可包括金属，但不限于此。
[0047]例如，如图6所示，本实施例的一个示例提供的可切换防窥装置中，第一基板1和第二基板20可通过密封结构50集成在一起。密封结构50例如可采用封框胶，但不限于此。该可切换防窥装置可将第一基板和第二基板以及其间的液晶调光层集成在一起，取得较好的光学效果，还可以节省成本。
[0048]实施例二
[0049]本实施例提供一种显示装置，如图7a所示，包括显示面板67、背光模组89以及实施例一所述的任意一种可切换防窥装置12，可切换防窥装置12位于背光模组89和显示面板67之间。背光模组89为显示面板提供背光，背光经可切换防窥装置12后入射到显示面板67。背光经可切换防窥装置12后的出射光对应于入射到显示面板67的入射光。
[0050]例如，一个示例提供的显示装置中，显示面板67包括液晶显示面板。例如，下基板60可为阵列基板，上基板70可为彩膜基板，上基板和下基板之间夹设液晶层76。阵列基板上可设置栅线、数据线、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)以及像素电极等。彩膜基板上可设置黑矩阵图形和彩膜层等。公共电极可设置在阵列基板上，也可设置在彩膜基板上。通过控制显示面板中液晶分子的偏转，从而实现对光线强弱的控制，然后通过彩膜基板的滤光作用，实现彩色图像显示。但液晶显示面板并不限于上述描述的结构。例如，显示面板可为垂直取向(Vertical Alignment，VA)显示模式，也可为扭曲向列相(Twisted Nematic,TN)显不模式、超维场转换技术(Advanced-super Dimens1nal Switching，ADS)显不模式或面内开关(In-Plane Switching，IPS)显示模式，对此不作限定。
[0051 ] 例如，如图7a所不，一个不例中，背光模组89可包括导光板891、设置在导光板891一侧的光源892、在导光板891靠近显不面板67—侧设置的扩散膜893和棱镜膜894，在导光板891远离显示面板67—侧还可设置反射板895。需要说明的是，背光模组89不限于上述给出的结构。
[0052]例如，本实施例的一个示例提供的显示装置中，第一光定向层102包括多个平行的第一光阻墙面1021(可参见图4)，上基板或下基板可包括黑矩阵图形701(可参见图7a)，多个平行的第一光阻墙面1021在第一衬底基板101上的投影位于黑矩阵图形701在第一衬底基板101上的投影内。例如，黑矩阵图形的平面示意图可如图7b所示，包括在横向上相互平行的多个第一黑矩阵7011和在纵向上相互平行的多个第二黑矩阵7012，横向垂直于纵向。例如，多个平行的第一光阻墙面1021在第一衬底基板101上的投影位于黑矩阵图形701中纵向排布的多个平行的第二黑矩阵7012在第一衬底基板101上的投影内，但不限于此。例如，还可以多个平行的第一光阻墙面1021在第一衬底基板101上的投影位于部分纵向排布的多个平行的第二黑矩阵7012在第一衬底基板101上的投影内。例如，因黑矩阵图形大多对应于子像素90设置，从而，相邻的两个第一光阻墙面1021可每隔一列或多列子像素设置，在此不作限定。需要说明的是，可将本实施例中的行换为列。同样，第二光定向层105中的第二光阻墙面1051可参照第一光定向层102中的第一光阻墙面1021设置方式来设置。
[0053]例如，如图8所示，本实施例的一个示例提供的显示装置中，显示面板67包括上基板70和下基板60，下基板60可复用为可切换防窥装置的第二衬底基板201。如此设置，可进一步减小整个显示装置的厚度。
[0054]例如，如图8所示，本实施例的一个示例提供的显示装置中，下基板60上设置有线栅偏光膜601，线栅偏光膜601可复用为可切换防窥装置的第二电极层202。该设置可进一步减小整个显示装置的厚度。例如，线栅偏光膜601包括多条平行设置的金属线。例如，每条金属线的宽度可以为30nm-50nm，相邻两条金属线之间的距离可以为100-150nm，每条金属线的高度可以为100-300nm，但不限于此。该线栅偏光膜性质如下:对于自然光照射到线栅偏光膜上，平行于金属线方向的线偏振光几乎全被反射回来，而垂直于金属线方向的线偏振光可以透射过去。线栅偏光膜例如可同时作为显示面板的下偏振片。例如，线栅偏光膜601为线栅偏振片(Wire Grid Polarizer，WGP)。因线栅偏光膜601在纳米级别，间隙小，其效果可基本类似于面状电极，故而可复用为可切换防窥装置的第二电极层202。
[0055]实施例三
[0056]本实施例提供一种可切换防窥装置的制备方法，该方法可包括如下的步骤:
[0057]在第一衬底基板101上形成第一光定向层102和第一电极层103以制备第一基板10，第一光定向层102限定经过第一光定向层102后的光线的出射角度；
[0058]在第二衬底基板201上形成第二电极层202以制备第二基板20;
[0059]在第一基板10和第二基板20之间设置液晶调光层30，液晶调光层30可在透明态和散射态之间进行切换。
[0000]该可切换防窥装置的制备方法可利用液晶显示器(Liquid Crystal Display ,LCD)的产线工艺，可极大程度利用产线自有设备及工艺，降低产品成本。
[0061]例如，一个示例中，可切换防窥装置的制备方法可包括如下步骤:
[0062]首先，制备第一基板10。
[0063]如图9a所示，在第一衬底基板101上形成第一光定向层102，第一光定向层102限定经过第一光定向层102后的光线的出射角度;如图9b所示，在第一光定向层102上形成绝缘层104;如图9c所示，在绝缘层104上形成第一电极层103。
[0064]其次，制备第二基板20。
[0065]如图10所示，在第二衬底基板201上形成第二电极层202。
[0066]例如，本实施例的一个示例提供的可切换防窥装置的制备方法中，可通过光刻工艺形成第一光定向层102。例如，一个示例中，第一光定向层102包括多个平行的第一光阻墙面1021。
[0067]例如，如图11a - d所示，本实施例的一个示例提供的可切换防窥装置的制备方法中，通过光刻工艺形成第一光定向层102包括如下步骤:
[0068]如图1la所示，在第一衬底基板101上形成第一光定向薄膜1023;
[0069]如图1lb所示，在第一光定向薄膜1023上形成第一光刻胶1026;
[0070]如图1lc所示，对第一光刻胶1026进行曝光、显影，形成图案化的第一光刻胶1028;
[0071]如图1ld所示，以图案化的第一光刻胶1028为掩模，对第一光定向薄膜1023进行刻蚀。
[0072]然后，剥离图案化的第一光刻胶1028，可形成例如如图9所示的第一光定向层102。
[0073]例如，可采用负性光刻胶来形成第一光定向层102，但不限于此。
[0074]需要说明的是，也可以采用黑色的负性光刻胶形成第一光定向薄膜1023，这样，对第一光定向薄膜1023进行曝光、显影后，即可得到例如如图9所示的第一光定向层102。
[0075]例如，本实施例的一个示例提供的可切换防窥装置的制备方法中，在第一衬底基板101上，在形成第一光定向层102的相反侧还形成有第二光定向层105，第二光定向层105限定经过第二光定向层105后的光线的出射角度。例如，一个示例中，第二光定向层105包括多个平行的第二光