专利名称：真空设备荧光屏及该荧光屏的无胶制作方法
技术领域：
本发明属于真空电子学领域，涉及一种适用于真空设备的荧光屏及其无胶制作方 法。
背景技术：
现有真空设备荧光屏的制作方法有不足1、传统荧光屏的制作方法，兼有涂胶和去胶过程，另外使用的试剂都是一些有毒 有害的有机物，对人体和环境不友好。2、用传统的荧光屏制作方法，其金属导电层实际上不是一个完整的金属薄膜，当 真空室内有发光物体或高温物体时，会有少部分热辐射的光线透过金属膜层的空隙，从而 大大降低荧光屏的对比度。3、一般的丝网印刷技术涂覆荧光粉，其荧光粉的粘附强度不够，屏很容易受到损 伤。4、通过传统荧光屏制作方法制得的荧光屏不具有导电的性能，势必会因为长时间 的积累电荷而影响亮度和缩短荧光屏的寿命。因此提供一种能够解决上述不足的真空设备荧光屏制作方法是一个需要解决的 技术问题。
发明内容
本发明解决的第一技术问题是提供一种真空设备的荧光屏，使得该荧光屏在真空 室中有高亮度背景光的情况下仍然具有很高的对比度，该屏的荧光粉层具有较高的粘附强 度，且该荧光屏还具有较佳的导电性能。本发明解决的第二技术问题是提供一种真空设备的荧光屏的无胶制作方法，该方 法不仅无需使用有毒试剂和胶、所制得的荧光粉层具有较高的粘附强度，而且还具有较佳 的导电性能。为解决第一技术问题，本发明采用第一技术方案一种真空设备的荧光屏，包括基材、及设置在基材上的荧光粉层，其特征在于所 述荧光粉层为掺杂有纳米氧化锌粉的导电荧光粉层；所述基材和荧光粉层之间还设有第 一黏结层；所述荧光粉层上还依次设有第二黏结层和金属层。作为上述技术方案的改进之一所述基材为铅玻璃，所述第一黏结层和第二黏结 层分别为第一镀锌膜层和第二镀锌膜层，所述金属层为镀铝膜层。作为上述技术方案的改进之二 所述第一镀锌膜层的厚度为5-10纳米，所述第二 镀锌膜层的厚度为10-50纳米，所述镀铝膜层的厚度为40-150纳米。为解决第二技术问题，本发明采用第二技术方案一种真空设备的荧光屏的制作方法，其特征在于首先不分先后顺序实施步骤A 和步骤B，最后再实施步骤C;
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其中，步骤A包括以下步骤步骤Al 在第一基材上镀上第一锌膜；准备混合有纳米氧化锌粉的荧光粉溶液；步骤A2 用该荧光粉溶液在第一锌膜上涂覆导电荧光粉层；步骤A3 将第一基材在真空或惰性气体中烘烤。其中，步骤B包括以下步骤步骤Bl 在第二基材上制作水溶性薄膜；步骤B2 在水溶性薄膜上镀上金属膜；步骤B3 在金属层上镀上第二锌膜；其中，步骤C包括以下步骤步骤Cl 将第一基材具有导电荧光粉层的那一面与第二基材具有第二锌膜的那 一面紧密贴合；步骤C2 将贴在一起的第一基材和第二基材放入真空或惰性气体中烘烤，烘烤温 度的选择要确保黏附层的金属处于熔融状态；步骤C3 将贴在一起的第一基材和第二基材让入水中，水溶性薄膜溶解后将第二 基材移去而得到荧光屏。作为上述技术方案的改进之一在步骤Al中，在第一基材上通过热蒸发方式镀上 第一锌膜；在步骤Bl中，在第二基材上通过热蒸发方式镀上水溶性薄膜；在步骤B2中，在 水溶性薄膜层上通过热蒸发方式镀上金属膜，该金属膜为铝膜。作为上述技术方案的改进之二 在步骤A3中，所需的烘烤时间为40至80分钟， 烘烤温度为380°C至440°C，烘烤温度的选择要确保黏附层的金属处于熔融状态；在步骤C2 中，所需的烘烤时间为20至40分钟，烘烤温度为380°C至440°C，烘烤温度的选择要确保黏 附层的金属处于熔融状态。作为上述技术方案的改进之三所述水溶性薄膜为NaCl薄膜。作为上述技术方案的改进之四在步骤Al中，先将荧光粉在有机溶液超声分散， 然后通过沉淀或过滤得到颗粒均勻的荧光粉悬浮液，最后加入纳米氧化锌粉末得到用于步 骤A2的荧光粉溶液。作为上述技术方案的改进之五在步骤A2中，在第一锌膜上通过湿法喷涂方式涂 覆导电荧光粉层。作为上述技术方案的改进之六所述第一锌膜的厚度为5-10纳米，导电荧光粉层 的厚度为20-60微米，NaCl薄膜的厚度为10-100微米，铝膜的厚度为40-150纳米，第二锌 膜的厚度为10-50纳米。与现有技术相比，本发明第一技术方案的有益效果是其一，荧光屏中的金属铝层 是首先在另外一块基体上蒸镀然后再转移到荧光粉层上的，所以该金属层是一个完整的薄 膜，使得屏后方的背景光没有机会穿透，从而获得更高的对比度。其二，由于荧光粉层通过 第一黏结层作为过渡层粘附在基材上，在高温处理过程中该金属层处于熔融状态，使得荧 光粉层具有较强的粘附强度，不容易脱落或脱离基材而影响真空环境。其三，由于采用掺杂 有纳米氧化锌粉的荧光粉，这些纳米氧化锌本身会形成一些导电通道，因此该荧光屏的具 有更佳的导电性能，可以有效防止荧光屏因积累电荷而缩短寿命。与现有技术相比，本发明第二技术方案的有益效果是该荧光屏的制作方法不需要涂胶和去胶过程，不仅无需使用有毒试剂，而且通过该方法制得的荧光粉层和第一基材 之间具有较高的粘附强度，不易脱落，此外，该荧光屏还具有较佳的导电性能。
图1是本发明实施方式二的荧光粉的涂覆工艺步骤图；图2是本发明实施方式二的金属膜的制作工艺步骤图3是本发明实施方式二的金属膜和荧光屏的结合工艺步骤图。 图4是本发明实施方式一的结构示意图。
具体实施例方式实施方式一本实施方式是本发明第一技术方案的具体实施方式
。本实施方式的真空设备荧光屏，包括基材1、及设置在基材上的荧光粉层2，其特 征在于所述荧光粉层为掺杂有纳米氧化锌粉的导电荧光粉层；所述基材和荧光粉层之间 还设有第一黏结层3 ；所述荧光粉层上还依次设有第二黏结层7和金属层6。其中，所述基材为铅玻璃，所述第一黏结层和第二黏结层分别为第一镀锌膜层和 第二镀锌膜层，所述金属层为镀铝膜层。其中，所述第一镀锌膜层的厚度为5-10纳米，所述第二镀锌膜层的厚度为10-50 纳米，所述镀铝膜层的厚度为40-150纳米。实施方式二本实施方式是本发明第一技术方案的具体实施方式
。如图1至3所示，本实施方式的真空设备荧光屏制作方法包括以下几个方面1、荧光粉的涂覆工艺(如图1所示)(1)在铅玻璃1上用热蒸发(或其他)方法镀上一层5-10纳米厚的超薄锌膜2 ；(2)将荧光粉在有机溶剂中超声分散，并通过沉淀和过滤等筛选出颗粒均勻和细 小的荧光粉；(3)向荧光粉悬浮液中加入适量纳米氧化锌粉末，配成混合溶液。(4)用湿法喷涂的方法在镀有超薄锌膜的铅玻璃上涂上20-60微米厚的荧光粉层 3 ；(5)在真空或者惰性气体中将涂有荧光粉层3的屏烘烤1个小时。烘烤温度为 410°C左右，烘烤温度的选择要确保黏附层的金属处于熔融状态。2、高质量金属膜的制作工艺(如图2所示)(1)在一块比铅玻璃稍大的普通玻璃4上用热蒸发(或其他)方法镀上一层 10-100微米厚的NaCl (或者其他溶于水的材料)薄膜5 ；(2)在NaCl (或者其他溶于水的材料)薄膜5上面用热蒸发(或其他)方法镀上 一层40-150纳米厚的铝膜6 ；(3)在铝膜6上面用热蒸发(或其他)方法镀上一层10-50纳米厚的锌膜7 ；3、金属膜和荧光屏的结合工艺(如图3所示)(1)将镀有铝膜6和锌膜7的普通玻璃板4与涂有荧光粉层3的铅玻璃1紧密结合在一起，使金属膜和荧光粉贴在一起。(2)将贴在一起的铅玻璃1与普通玻璃板4放在真空或者惰性气体中烘烤30分 钟。烘烤温度为410°C左右，烘烤温度的选择要确保黏附层的金属处于熔融状态。(3)将结合在一起的玻璃板4轻轻放入水中，静置一段时间，等待NaC15溶解以后， 移去玻璃板4。(4)轻轻从水中取出附有铝膜6的荧光屏，将荧光屏放在真空中并烘烤以去水。
权利要求
一种真空设备的荧光屏，包括基材(1)、及设置在基材上的荧光粉层(3)，其特征在于所述荧光粉层为掺杂有纳米氧化锌粉的导电荧光粉层；所述基材和荧光粉层之间还设有第一黏结层(2)；所述荧光粉层上还依次设有第二黏结层(7)和金属层(6)。
2.根据权利要求1所述的真空设备的荧光屏，其特征在于所述基材为铅玻璃，所述第 一黏结层和第二黏结层分别为第一镀锌膜层和第二镀锌膜层，所述金属层为镀铝膜层。
3.根据权利要求2所述的真空设备的荧光屏，其特征在于所述第一镀锌膜层的厚度 为5-10纳米，所述第二镀锌膜层的厚度为10-50纳米，所述镀铝膜层的厚度为40-150纳 米。
4.一种真空设备的荧光屏的制作方法，其特征在于 首先不分先后顺序实施步骤A和步骤B，最后再实施步骤C ； 其中，步骤A包括以下步骤步骤Al 在第一基材(1)上镀上第一锌膜(2)；准备混合有纳米氧化锌粉的荧光粉溶液；步骤A2 用该荧光粉溶液在第一锌膜(2)上涂覆导电荧光粉层(3)；步骤A3 将第一基材(1)在真空或惰性气体中烘烤。其中，步骤B包括以下步骤步骤Bl 在第二基材(4)上制作水溶性薄膜(5)；步骤B2 在水溶性薄膜(5)上镀上金属膜(6)；步骤B3 在金属层(6)上镀上第二锌膜(7)；其中，步骤C包括以下步骤步骤Cl 将第一基材(1)具有导电荧光粉层(3)的那一面与第二基材(4)具有第二锌 膜(7)的那一面紧密贴合；步骤C2 将贴在一起的第一基材(1)和第二基材(4)放入真空或惰性气体中烘烤； 步骤C3 将贴在一起的第一基材(1)和第二基材(4)让入水中，水溶性薄膜(5)溶解 后将第二基材(4)移去而得到荧光屏。
5.根据权利要求4所述的真空设备的荧光屏的制作方法，其特征在于在步骤A2中， 在第一锌膜(2)上通过湿法喷涂方式涂覆导电荧光粉层。
6.根据权利要求5所述的真空设备的荧光屏的制作方法，其特征在于在步骤Al中， 在第一基材(1)上通过热蒸发方式镀上第一锌膜(2)；在步骤Bl中，在第二基材(4)上通 过热蒸发方式镀上水溶性薄膜(5)；在步骤B2中，在水溶性薄膜层(5)上通过热蒸发方式 镀上金属膜，该金属膜为铝膜。
7.根据权利要求6所述的真空设备的荧光屏的制作方法，其特征在于在步骤A3中， 所需的烘烤时间为40至80分钟，烘烤温度为380°C至440°C ；在步骤C2中，所需的烘烤时 间为20至40分钟，烘烤温度为380°C至440°C。
8.根据权利要求4至7任一所述的真空设备的荧光屏的制作方法，其特征在于所述 水溶性薄膜(5)为NaCl薄膜。
9.根据权利要求7所述的真空设备的荧光屏的制作方法，其特征在于在步骤Al中， 先将荧光粉在有机溶液超声分散，然后通过沉淀或过滤得到颗粒均勻的荧光粉悬浮液，最 后加入纳米氧化锌粉末得到用于步骤A2的荧光粉溶液。
10.根据权利要求9所述的真空设备的荧光屏的制作方法，其特征在于所述第一锌膜 (2)的厚度为5-10纳米，导电荧光粉层(3)的厚度为20-60微米，NaCl薄膜的厚度为10-100 微米，铝膜的厚度为40-150纳米，第二锌膜(7)的厚度为10-50纳米。
全文摘要
本发明涉及一种适用于真空设备的荧光屏。该荧光屏，包括基材、及设置在基材上的荧光粉层，所述荧光粉层为掺杂有纳米氧化锌粉的导电荧光粉层；所述基材和荧光粉层之间还设有第一黏结层；所述荧光粉层上还依次设有第二黏结层和金属层。由于将荧光粉涂层和金属涂层分别在两个基底上制作然后再合成在一起，所以不用涂胶和去胶过程，而且使得金属涂层是完整的薄膜从而提高显示对比度；由于设置了第一、第二黏结层以及掺杂有纳米氧化锌粉的导电荧光粉层，使得该荧光屏的荧光粉层具有较高的粘附强度，且该荧光屏还具有较佳的导电性能。另外本发明还公开了一种真空设备荧光屏的制作方法。
文档编号H01J9/22GK101937821SQ20101014021
公开日2011年1月5日 申请日期2010年3月30日 优先权日2010年3月30日
发明者杨春雷, 蒋启文 申请人:中山大学