专利名称：使用气体分离喷头清洁腔室的装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于清洁腔室的装置，更特别涉及一种使用气体分离喷头清洁腔室的装置，其中将含有电离的氟(F)成分的清洁气体和非电离的基于氮氧的清洁气体用作清洁气体。
背景技术：
在清洁腔室的常规方法中，由于自顶向下的喷头和腔室的结构而使得清洁气体从腔室的顶部向底部流动。因此，由于腔室上部的清洁效率降低，所以清洁腔室的总时间增加。此外，由于使用较多的清洁气体，所以生产率降低。
例如，为了清洁CVD腔的内部，将例如CF4、C2F6、C3F8、C4F8和SF6等的基于过氟化物的清洁气体(以下称为PFC)和氧气(O2)或氩气(Ar)一起提供给CVD腔。通过将RF(射频)等离子体提供给CVD腔来清洁CVD腔的内部。然而，当使用基于PFC的清洁气体时，存在许多问题，例如损害腔室的内部部件、使全球变暖、较低的清洁速度和环境问题等等。
为了解决上述问题，通过远程等离子发生器使三氟化氮(NF3)清洁气体电离，并将电离的三氟化氮(NF3)清洁气体与氩气(Ar)一起提供给腔室，以代替基于PFC的清洁气体来清洁CVD腔的内部。当使用三氟化氮(NF3)清洁气体时，腔室内部部件的直接损害降低，且清洁速度增加。然而，全球变暖等环境问题依然存在，生产成本由于使用高价气体而增加。
为了提高使用氟(F2)清洁气体清洁腔室的效率，目前通过远程等离子发生器将氮气(N2)或者一氧化氮(NO)、一氧化二氮(N2O)等基于氮氧的气体(NxOy)连同氟清洁气体一起提供给腔室。
图1示出了用于使用氟(F2)清洁气体和基于氮氧的清洁气体(NxOy)清洁腔室的常规装置100。
参考图1，氟(F2)清洁气体110a和基于氮氧的清洁气体110c连同作为添加气体的氩气(Ar)一起通过远程等离子源120电离。电离的混合气体被提供给自顶向下的喷头130，并通过喷头130被喷入腔室140中。
然而，在常规方法中，由于除含氟成分(F)的气体之外对清洁效率的影响最大的一氧化氮气体(NO)是以NO基团的形式而不是氮(N)基团或氧(O)基团的形式提供到腔室中，所以通过增加添加气体来提高清洁效率具有一定的局限性。
发明内容
本发明提供一种使用气体分离型喷头清洁腔室的装置，通过将电离状态下的含氟(F)成分的清洁气体提供给气体分离喷头，并将非电离状态下的包含基于氮氧的成分的清洁气体提供给气体分离型喷头，能够提高腔室内部的清洁效率。
本发明还提供一种使用气体分离型喷头用于清洁腔室的装置，能够通过气体分离型喷头的侧向上的单独的气体注入模块有效地清洁腔室内部的上部。
根据本发明的一方面，提供了这样一种使用气体分离型喷头清洁腔室的装置，所述装置可包括气体供应模块，通过所述气体供应模块单独地提供第一和第二气体；气体分离模块，通过所述气体分离模块单独地分散所述第一和第二气体；以及包括多个孔的气体注入模块，所述被单独地分散的第一和第二气体都通过所述孔注入到所述腔室，其中所述第一和第二气体至少之一包括电离的第一清洁气体，所述电离的第一清洁气体包括含有氟(F)成分的气体，并且，所述第一和第二气体至少之一包括非电离的第二清洁气体，所述非电离的第二清洁气体包括基于氮氧的气体(NxOy，x和y为等于或大于1的整数)。
根据本发明的另一方面，提供了这样一种使用气体分离型喷头清洁腔室内部的装置，所述装置可包括气体分离型喷头、第三气体供应模块和第三气体注入模块。气体分离型喷头可包括气体供应模块，第一和第二气体通过它被单独地提供；气体分离模块，第一和第二气体通过它被单独地分散；和包括多个孔的气体注入模块，被单独地分散的第一和第二气体通常通过所述孔注入。第三气体供应模块围绕所述气体分离型喷头的外表面，用于清洁腔室内部的第三气体通过它提供并输送。被提供的第三气体通过第三气体注入模块注入到腔室中。
根据本发明的又一方面，提供这样一种使用气体分离型喷头用于清洁腔室内部的装置，所述装置可包括气体分离型喷头、第三气体供应模块和第三气体注入模块。气体分离型喷头可包括气体供应模块，第一和第二气体通过它被单独提供；气体分离模块，第一和第二气体通过它被单独分散；和包括多个孔的气体注入模块，被单独分散的第一和第二气体通常通过所述孔注入。第三气体供应模块围绕所述气体分离型喷头的外表面，用于清洁腔室内部的第三气体通过它提供并输送。被提供的第三气体通过第三气体注入模块注入到腔室中。其中所述第一和第二气体和第三气体中的至少一种气体是用于清洁腔室内部的气体。
通过参照附图详细描述本发明示例性的实施方式，本发明上述和其它的特征以及优点将会更加清楚，其中图1示出了用于清洁腔室的常规装置；图2示出了用于本发明的气体分离型喷头的一个实施例；图3示出了图2所示的气体分离型喷头的气体分离模块和气体注入模块的三维截面图；图4至6示出了本发明所使用的用于提供清洁气体的系统的一个实施例；图7和图8示出了从图2所示的气体分离型喷头注入的清洁气体的注入形状；图9示出了本发明所使用的用于提供清洁气体的系统的另一个实施例；图10和11示出了从图2所示的气体分离型喷头注入的混合清洁气体和防止回流的气体的注入形状；图12示出了本发明所使用的气体分离型喷头的另一个实施例；图13至15示出了图2所示的气体分离型喷头的第三气体注入模块的仰视图；图16和17是图12所示的气体分离型喷头的第三气体注入模块的侧视图；以及图18至图22示出了从图12所示的气体分离型喷头注入的气体的注入形状。
具体实施例方式
现在参考附图详细描述本发明的优选实施方式。
在本发明中，主要使用气体分离型喷头。
图2示出了本发明所使用的气体分离型喷头的一个实施例。图2所示的气体分离型喷头200包括气体供应模块210、气体分离模块220和气体注入模块230。
通过气体供应模块210单独地提供第一和第二气体A和B。为了单独地提供第一和第二气体A和B，气体供应模块210包括彼此分开的外、内供应管210a和210b。参考图2，第一气体A提供给外供应管210a，第二气体B提供给内供应管210b。
从气体供应模块210提供的第一和第二气体A和B通过气体分离模块220被单独地分散。为了单独地分散第一和第二气体A和B，第一分散区域220a连接到气体供应模块210的外供应管210a，第二分散区域220b连接到气体供应模块110的内供应管210b。参考图2，第一气体A在第一分散区域220a中被分散，第二气体B在第二分散区域220b中被分散。
第一分散区域220a被构建成一个区域。第二分散区域220b位于第一分散区域220a之下，且被分成多个区域。优选地，在第二分散区域220b的分开区域中可以设置气体分配板(图3中用附图标记310表示)，以均匀分散第二气体B。
第二分散区域220b的邻近的分开区域彼此隔开，也就是说，邻近的分开区域的外表面之间存在恒定的空间。此外，在第二分散区域220b的每个区域的下部设有出口225b。
气体注入模块230包括多个孔235。从气体分离模块220单独地分散的第一和第二气体A和B都通过多个孔235注入到腔室中。当然，第一和第二气体A和B可以同时或依次注入到腔室中。
图3示出了图2所示的气体分离型喷头200的气体分离模块220和气体注入模块230的三维截面图。
参考图3，第二气体B通过多个出口225b排到气体注入模块230。第一气体A通过第二分散区域220b的外部空间和围绕出口225b的空间225a，从第一分散区域220a排放到气体注入模块230。
图4至图6示出了本发明中所使用的用于提供清洁气体的系统的一个实施例。
本发明中使用的清洁气体包括两类清洁气体。一类清洁气体表示包括电离氟(F)成分的第一清洁气体。另一类清洁气体表示包含基于氮氧的非电离成分(NxOy，x和y为等于或大于1的整数)的第二清洁气体。
通过第一清洁气体供应线410提供第一清洁气体，通过第二清洁气体供应线420提供第二清洁气体。
第一清洁气体供应线410包括氟(F)源412和用于电离第一清洁气体的远程等离子源(RPS)418，以提供包括含氟成分(例如电离状态中的氟(F2)和三氟化氮(NF3))的气体的第一清洁气体。
在如图4的实施例中，第一清洁气体是纯氟气或纯三氟化氮气体。在如图5所示的实施例中，第一清洁气体是氩气(Ar)和氟气(F2)的混合气体，或氩气(Ar)和三氟化氮(NF3)的混合气体。在如图6所示的实施例中，第一清洁气体是氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合气体。
众所周知，腔室内部的清洁效率与清洁气体中包含的氟成分的浓度成比例。因此，通过将氟气(F2)和三氟化氮(NF3)的浓度增加到最高程度可以使清洁效率最大化。因此，与图4所示的实施例类似，可以使用纯氟气(F2)或纯三氟化氮(NF3)。然而，为了使用纯氟气(F2)或纯三氟化氮(NF3)，需要可以足够抵抗氟气(F2)或三氟化氮(NF3)腐蚀的清洁装置。因此，清洁装置的价格可能增加。因此，在图5所示的实施例中，可以使用氩气(Ar)和氟气(F2)的混合气体，或者氩气(Ar)和三氟化氮(NF3)的混合气体。当使用氩气(Ar)和氟气(F2)的混合气体时，清洁效率可能降低。所以，为了通过将氮气(N2)添加到氩气(Ar)和氟气(F2)的混合气体中来提高清洁效率，可以使用氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)作为第一清洁气体，如图6所示。
参考图5，氩气(Ar)由氩气(Ar)源414提供，并在被提供给RPS418之前与氟气(F2)或三氟化氮(NF3)混合。参考图6，氩气(Ar)和氮气(N2)分别由氩气(Ar)源414和氮气(N2)源416提供，并在被提供给RPS 418之前与氟气(F2)或三氟化氮(NF3)混合。
在图5和图6中，由氩气(Ar)源414提供的氩气(Ar)用来稀释氟气(F2)或三氟化氮(NF3)。此外，首先将氩气(Ar)提供给RPS 418。氩气(Ar)可以作为RPS 418的等离子点火气体。
第二清洁气体供应管420包括基于氮氧的气体(NxOy)源422以便提供包含基于氮氧的气体的第二清洁气体。
第二清洁气体包括基于氮氧的气体(NxOy)，例如NO、NO2、N2O等，其具有特定的氮(N)、氧(O)比(x和y为等于或大于1的整数)。
如下所述，通过非电离的、基于氮氧的气体(NxOy)来提高清洁效率。淀积工艺期间沉积在腔室壁上的例如氧化膜和氮化膜等固态膜中包含的硅成分与氟基组合。然后，保持在固体膜中的氧(O)或氮(N)成分由包含氟(F)成分的基团激发。然后，被激发的氧或氮(N)成分易于与直接提供而无需通过RPS的基于氮氧的气体(NxOy)反应。
在图5和图6所示的实施例中，第二清洁气体为纯基于氮氧的气体(NxOy)。如图4所示的实施例中，第二清洁气体为氩气(Ar)与基于氮氧的气体(NxOy)的混合气体。
参考图4，氩气(Ar)由氩气(Ar)源424提供并与基于氮氧的气体(NxOy)混合。
参考图4至图6，质量流量控制器MFC和阀V/V依次连接到用于产生第一和第二清洁气体的每个气体源412、414、416、422和424。该连接被类似地应用到生产气体(process gas)的情况中。腔室440连接到排出泵450，用于在腔室内部被清洁之后，排出腔室内包括清洁气体的剩余气体。
也就是说，参考图4至图6，电离的第一清洁气体可以是i)纯氟气(F2)，ii)氩气(Ar)和氟气(F2)的混合，iii)氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合，iv)纯三氟化氮(NF3)，和v)氩气(Ar)和三氟化氮(NF3)的混合其中之一。非电离的第二清洁气体可以是i)纯基于氮氧的气体，ii)氩气(Ar)和基于氮氧的气体(NxOy)的混合其中之一。
在图4至图6中，喷头430可以采用图2中所示的气体分离型喷头200。
例如，第一和第二清洁供应线410和420可以分别连接到外、内供应管210a和210b。
因此，在该实施例中，电离的第一清洁气体提供给气体供应模块210的外供应管210a，非电离的第二清洁气体直接提供给气体供应模块210的内供应管210b。供应的第一和第二清洁气体从气体分离模块220的第一和第二分散区域220a和220b被分别分散，并通过气体注入模块230中的多个孔235彼此混合，并注入到腔室440中。
在图7中，提供给气体供应模块210的外供应管210a的气体为第一清洁气体，提供给气体供应模块210的内供应管210b的气体为第二清洁气体。
另一方面，在图8中，提供给气体供应模块210的内供应管210b的气体表示第一清洁气体，提供给气体供应模块210的外供应管210a的气体表示第二清洁气体。
在图7和8的实施例中，第一清洁气体为氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合气体，而第二清洁气体为一氧化氮气体(NO)。
在图7和8的实施例中，由于电离的第一清洁气体和非电离的第二清洁气体通过气体分离型喷头200的气体注入模块230的多个孔235彼此混合，所以第二清洁气体中包含的一氧化氮(NO)的原样(originalshape)可以被维持成最高程度。
将第一和第二清洁气体提供到腔室中的顺序可以分成同时将第一和第二清洁气体提供到腔室中的方法；首先提供第一清洁气体然后提供第二清洁气体到腔室中的方法；和首先提供第二清洁气体然后提供第一清洁气体到腔室中的方法。
由于第一清洁气体包含氟成分，所以同时将第一和第二清洁气体提供到腔室或者首先提供第一清洁气体然后提供第二清洁气体给腔室，比首先提供第二清洁气体然后提供第一清洁气体更有效。
图9示出了本发明使用的提供清洁气体的系统的另一个实施例。
参考图9，第一和第二清洁气体在被提供给气体分离型喷头200之前彼此混合，以形成混合的清洁气体。在此情况下，混合的清洁气体可以提供给气体供应模块210的外或内供应管210a或210b。通过将用于防止回流的气体例如氩气(Ar)提供到未提供清洁气体的供应管，可以防止混合的清洁气体返回到气体分离型喷头200的回流。
图10和图11示出了混合的清洁气体的注入形状和从如图2所示的气体分离型喷头200中喷出用于防止回流的气体的注入形状。
在图10中，提供给气体供应模块210的外供应管210a的气体表示通过混合电离的第一清洁气体与非电离的第二清洁气体所获得的混合清洁气体，而提供给内供应管210b的气体表示用于防止回流的气体。
在图11中，提供给气体供应模块210的内供应管210b的气体表示通过混合电离的第一清洁气体与非电离的第二清洁气体所获得的混合清洁气体，而提供给外供应管210a的气体表示用于防止回流的气体。
在图10和11的实施例中，通过使电离的氩气(Ar)、氮气(N2)、和氟气(F2)的混合气体与非电离的一氧化氮(NO)混合来获得混合的清洁气体，而用来防止回流的气体为氩气(Ar)。
图12示出了用于本发明的气体分离型喷头的另一个实施例。
图12中所示的气体分离型喷头1200在图2中所示的气体分离型喷头200中还包括第三气体供应模块1210和第三气体注入模块1220a和1220b。
第三气体供应模块1210围绕图2所示的气体分离型喷头200的外表面。第三气体与第一和第二气体分离，并通过第三气体供应模块1210提供并输送。
从第三气体供应模块1210提供的第三气体通过第三气体注入模块1220a和1220b注入到腔室中。
第三气体用于清洁腔室的内部。在此，第三气体包括含有氟(F)成分的气体。第三气体可以是电离的第一清洁气体。此外，第三气体可以是包括电离的第一清洁气体和非电离的第二清洁气体的混合清洁气体，第三气体包含第一清洁气体和基于氮氧的气体(NxOy)。
第三注入模块1220a和1220b的形状可以是多种多样的，如图13至17所示。
图13至15是第三注入模块1220a的仰视图。
图13是带有开口结构的第三气体注入模块1220a的仰视图。
图14是带有孔图案结构第三气体注入模块1220a的仰视图，其中多个孔形成单列(column)。在孔图案结构中，所述的多个孔可以构成两列或多列。在图15中，示出了其中多个孔构成两列的孔图案结构，作为第三气体注入模块1220a的一个实施例。
图16和图17是第三气体注入模块1220b的侧视图。
图16和图17是带有孔图案结构的第三气体注入模块1220b的侧视图，其中多个孔形成至少一列。由于第三气体注入模块1220b具有气体不是向下注入而是向侧方注入的结构，所以可以提高腔室内侧上部的清洁效率。
在图13至图17中，构成孔图案的多个孔的注入角度相对于第三气体注入到的表面可以是不规则的或规则的。特别地，在多个孔的注入角度不规则的孔图案情况下，第三气体可以以由孔的注入角度决定的各种角度注入。因此，可以有效地清洁腔室内部期望的部分。
在图12所示的气体分离型喷头1200中，除第三气体之外，第一和第二气体也可以是用来清洁腔室内侧的气体。
例如，第一气体可以是包括含有氟(F)成分气体的电离的第一清洁气体，第二气体可以是包含基于氮氧的气体(NxOy)的非电离的第二清洁气体。此时，第三气体可以是包括第一和第二气体至少之一的气体。
又例如，第一气体可以是第一和第二清洁气体的混合气体。第二气体可以是用于防止回流的气体，例如氩气。此时，第三气体包括第一和第二气体至少之一。
再例如，第一和第二气体中的一种气体可以是第一或第二清洁气体。第一和第二气体中的另一种气体可以是用于防止回流的气体。第三气体可以是通过使第一清洁气体与第二清洁气体混合而获得的混合清洁气体。
图18至22示出了从图12所示的气体分离型喷头1200中喷出的气体的注入形状。
在图18示出的实施例中，第一气体是第二清洁气体，第二气体是用于防止回流的气体，而第三气体是第一清洁气体。在图19示出的实施例中，第一气体为用于防止回流的气体，而第二气体是第二清洁气体，第三气体是第一清洁气体。在图20示出的实施例中，第一气体是第一清洁气体，第二气体为用于防止回流的气体，而第三气体为第二清洁气体。在图21示出的实施例中，第一气体是用于防止回流的气体，第二气体是第一清洁气体，而第三气体为第二清洁气体。在图22示出的实施例中，第一气体为通过混合第一清洁气体与第二清洁气体而获得的混合气体，第二气体为用于防止回流的气体，而第三气体为通过混合第一清洁气体与第二清洁气体而获得的混合清洁气体。
在图18到21所示的实施例中，电离的第一清洁气体为氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合气体，非电离的第二清洁气体是一氧化氮气体(NO)，而用于防止回流的气体是氩气(Ar)。
如上所述，在使用气体分离型喷头来清洁腔室的装置中，包含在固态膜中的硅成分与氟(F)组合。留在固态膜中的氧(O)或氮(N)成分由包含氟成分的基团激发。激发的氧或氮(N)成分易于与直接提供而无需通过RPS的基于氮氧的气体(NxOy)反应。因此，有利于提高腔室内部的清洁效率。
此外，在使用气体分离型喷头来清洁腔室的装置中，通过穿过喷头的侧面额外地将清洁气体提供到腔室中，以增加腔室上部的清洁效率，可以减少清洁腔室内部的时间。因此，清洁气体的量可以减少，提高了生产率。
虽然已经参考示例性的实施方式对本发明进行了描述，但是本领域的普通技术人员应该清楚，在不脱离如所附权利要求所限定的本发明的范围和精神的情况下，形式上和细节上还可以进行各种改变。应该认为示例性的实施方式只是出于描述的目的，而不是为了限制目的。因此，本发明的保护范围不是由本发明的详细描述限定，而是由所附的权利要求限定，在该范围内的所有差别将被解释为包括在本发明中。
权利要求
1.一种使用气体分离型喷头清洁腔室的装置，包括气体供应模块，通过所述气体供应模块单独地提供第一和第二气体；气体分离模块，通过所述气体分离模块单独地分散所述第一和第二气体；以及包括多个孔的气体注入模块，所述被单独地分散的第一和第二气体都通过所述孔注入到所述腔室，其中所述第一和第二气体至少之一包括电离的第一清洁气体，所述电离的第一清洁气体包括含有氟(F)成分的气体，并且，所述第一和第二气体至少之一包括非电离的第二清洁气体，所述非电离的第二清洁气体包括基于氮氧的气体(NxOy，x和y为等于或大于1的整数)。
2.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一和第二气体中的一种气体为所述第一清洁气体，所述第一和第二气体中的另一种气体为所述第二清洁气体。
3.如权利要求1所述的装置，其中，所述第一和第二气体中的一种气体是通过混合所述第一清洁气体与所述第二清洁气体所获得的混合清洁气体，所述第一和第二气体中的另一种气体是用于防止回流的气体。
4.如权利要求3所述的装置，其中所述用于防止回流的气体是氩气(Ar)。
5.如权利要求1所述的装置，其中所述第一清洁气体是从由i)纯氟气(F2)，ii)氩气(Ar)和氟气(F2)的混合，iii)氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合，iv)纯三氟化氮气体(NF3)，和v)氩气(Ar)和三氟化氮气体(NF3)的混合组成的集合中选出的之一。
6.如权利要求1所述的装置，其中所述第二清洁气体是从由i)纯基于氮氧的气体，和ii)氩气(Ar)和基于氮氧的气体(NxOy)的混合气体组成的集合中选出的之一。
7.如权利要求1所述的装置，其中所述气体分离模块包括第一分散区域，所述第一气体通过所述第一分散区域被分散，且所述第一分散区域被构造为具有一个区域；第二分散区域，位于所述第一分散区域之下，所述第二气体通过第二分散区域被分散，且所述第二分散区域被分成多个区域；以及多个出口，布置在所述第二分散区域之下，所述第二气体通过所述出口排出。
8.如权利要求7所述的装置，其中所述第二分散区域在所述多个区域中包括用于均匀分散第二气体的气体分配板。
9.如权利要求7所述的装置，其中所述第一气体经由所述第二分散区域的所述多个区域的外部空间，从所述第一分散区域排放到所述多个出口的外部空间。
10.一种使用气体分离型喷头清洁腔室内部的装置，包括气体分离型喷头，包括气体供应模块，通过所述气体供应模块单独地提供第一和第二气体；气体分离模块，通过所述气体分离模块单独地分散所述第一和第二气体；以及包括多个孔的气体注入模块，所述被单独地分散的第一和第二气体都通过所述多个孔被注入；第三气体供应模块，其围绕所述气体分离型喷头的外表面，用于清洁所述腔室内部的第三气体通过所述第三气体供应模块提供并输送；以及第三气体注入模块，所述第三气体通过所述第三气体注入模块注入到所述腔室中。
11.如权利要求10所述的装置，其中所述第三气体注入模块在向下的方向具有开口结构。
12.如权利要求10所述的装置，其中所述第三气体注入模块具有孔图案结构，所述多个孔在向下的方向形成至少一列。
13.如权利要求12所述的装置，其中所述多个孔的注入角度相对于所述第三气体注入到的表面是规则的。
14.如权利要求12所述的装置，其中所述多个孔的注入角度相对于所述第三气体注入到的表面是不规则的。
15.如权利要求10所述的装置，其中所述第三气体注入模块具有孔图案结构，所述多个孔在侧向形成至少一列。
16.如权利要求15所述的装置，其中所述多个孔的注入角度相对于所述第三气体注入到的表面是规则的。
17.如权利要求15所述的装置，其中所述多个孔的注入角度相对于所述第三气体注入到的表面是不规则的。
18.如权利要求10所述的装置，其中所述第三气体为电离的第一清洁气体，其包括含有氟(F)成分的气体。
19.如权利要求18所述的装置，其中所述第一清洁气体是选自由i)纯氟气(F2)，ii)氩气(Ar)和氟气(F2)的混合，iii)氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合，iv)纯三氟化氮气体(NF3)，和v)氩气(Ar)和三氟化氮气体(NF3)的混合气体组成的组之一。
20.如权利要求10所述的装置，其中所述第三气体是通过使包括含有氟(F)成分的气体的所述电离的第一清洁气体与包含基于氮氧的气体(NxOy，x和y为等于或大于1的整数)的所述非电离的第二清洁气体混合所获得的混合清洁气体。
21.如权利要求20所述的装置，其中所述第一清洁气体是从由i)纯氟气(F2)，ii)氩气(Ar)和氟气(F2)的混合，iii)氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合，iv)纯三氟化氮气体(NF3)，和v)氩气(Ar)和三氟化氮气体(NF3)的混合组成的集合中选择的之一。
22.如权利要求20所述的装置，其中所述第二清洁气体是从由i)纯基于氮氧的气体，和ii)氩气(Ar)和基于氮氧的气体(NxOy)的混合组成的集合中选择的之一。
23.一种使用气体分离型喷头清洁腔室内部的装置，包括气体分离型喷头，包括气体供应模块，第一和第二气体通过所述气体供应模块被单独地提供；气体分离模块，所述第一和第二气体通过所述气体分离模块被单独分散；和包括多个孔的气体注入模块，所述被单独分散的第一和第二气体都通过所述孔被注入；第三气体供应模块，其围绕所述气体分离型喷头的外表面，用于清洁所述腔室内部的第三气体通过所述第三气体供应模块提供并输送；和第三气体注入模块，所述第三气体通过所述第三气体注入模块注入到所述腔室中，其中所述第一和第二气体和第三气体中的至少一种气体是用于清洁所述腔室内部的气体。
24.如权利要求23所述的装置，其中所述第一和第二气体中的一种气体是包括含有氟(F)成分的气体的电离的第一清洁气体，其中所述第一和第二气体中的另一种气体是包含基于氮氧的气体(NxOy，x和y为等于或大于1的整数)的非电离的第二清洁气体，以及其中所述第三气体为包括所述第一和第二清洁气体至少之一的气体。
25.如权利要求24所述的装置，其中所述第一清洁气体是从由i)纯氟气(F2)，ii)氩气(Ar)和氟气(F2)的混合，iii)氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合，iv)纯三氟化氮气体(NF3)，和v)氩气(Ar)和三氟化氮气体(NF3)的混合组成的集合中选出的之一。
26.如权利要求24所述的装置，其中所述第二清洁气体是从由i)纯基于氮氧的气体，和ii)氩气(Ar)和基于氮氧的气体(NxOy)的混合组成的集合中选出的之一。
27.如权利要求23所述的装置，其中所述第一和第二气体中的一种气体是通过使包括含有氟(F)成分气体的电离的第一清洁气体与包括基于氮氧的气体(NxOy)的非电离第二清洁气体混合所获得的混合清洁气体，其中所述第一和第二气体中的另一种气体是用于防止回流的气体，并且其中所述第三气体是包括所述第一和第二清洁气体至少之一的清洁气体。
28.如权利要求27所述的装置，其中所述第一清洁气体是从由i)纯氟气(F2)，ii)氩气(Ar)和氟气(F2)的混合，iii)氩气(Ar)、氮气(N2)和氟气(F2)的混合，iv)纯三氟化氮气体(NF3)，和v)氩气(Ar)和三氟化氮气体(NF3)的混合组成的集合中选出的之一。
29.如权利要求27所述的装置，其中所述第二清洁气体是从由i)纯基于氮氧的气体，和ii)氩气(Ar)和基于氮氧的气体(NxOy)的混合组成的集合中选出的之一。
30.如权利要求27所述的装置，其中所述用于防止回流的气体为氩气(Ar)。
31.如权利要求23所述的装置，其中所述第三气体注入模块在向下的方向具有开口结构。
32.如权利要求23所述的装置，其中所述第三气体注入模块具有孔图案结构，其中所述多个孔在向下的方向形成至少一列。
33.如权利要求32所述的装置，其中所述多个孔的注入角度相对于所述第三气体注入到的表面是规则的。
34.如权利要求32所述的装置，其中所述多个孔的注入角度相对于所述第三气体注入到的表面是不规则的。
35.如权利要求23所述的装置，其中所述第三气体注入模块具有孔图案结构，其中所述多个孔在侧向形成至少一列。
36.如权利要求35所述的装置，其中所述多个孔的注入角度相对于所述第三气体注入到的表面是规则的。
37.如权利要求35所述的装置，其中所述多个孔的注入角度相对于所述第三气体注入到的表面是不规则的。
全文摘要
本发明提供一种使用气体分离型喷头来清洁腔室的装置。所述装置包括气体供应模块，第一和第二气体通过气体供应模块被单独提供；气体分离模块，所述第一和第二气体通过气体分离模块被单独分散；和气体注入模块，其包括多个孔，所述被单独分散的第一和第二气体通常通过所述孔注入到所述腔室，其中所述第一和第二气体至少之一的气体包括电离的第一清洁气体，所述电离的第一清洁气体包括含有氟(F)成分的气体，且其中所述第一和第二气体至少之一的气体包括非电离的第二清洁气体，所述非电离的第二清洁气体包括基于氮氧的气体(N
文档编号C23C16/00GK101033540SQ20071000319
公开日2007年9月12日 申请日期2007年2月28日 优先权日2006年3月7日
发明者裵根鹤, 金京洙, 金昊植, 尹荣培, 金德珍, 李来应 申请人:韩商奥拓股份有限公司