掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统的制作方法
【专利摘要】本发明公开掩模拉伸装置。根据本发明一实施例的掩模拉伸装置，包括：夹具，支撑布置于掩模框架上的掩模片，以将所述掩模片结合到所述掩模框架上；拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。
【专利说明】掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统
【技术领域】
[0001]本发明涉及掩模制造系统，尤其涉及应用于有机发光显示装置的制造中的气相沉积掩模的掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统。
【背景技术】
[0002]有机发光显示装置包括两个电极和设置在两个电极之间的有机发光层，从一个电极注入的电子(electron)和从另一个电极注入的空穴(hole)在有机发光部件结合而形成激子，该激子(exciton)释放能量的同时发光。
[0003]为了形成这种有机发光层，需要将有机物气相沉积到基板之上。为此，对于装填有有机物的气相沉积源进行加热而使有机物蒸发并喷射到基板之上。此时，使用在预定部位形成开口部而实现气相沉积，而剩余的部位通过由金属材质形成的遮断部进行遮掩的气相沉积掩模，以使蒸发并喷射的有机物气相沉积为预定图案。这种气相沉积掩模根据制造方法区分为母板方式的母掩模和分割方式的分割掩模。母板方式是利用设置在母掩模制造装置的上下左右的夹具对母掩模片施加四个方向的拉伸力之后，将母掩模片熔接到掩模框架而制造气相沉积掩模的方法，分割方式是利用设置在分割掩模制造装置的两端的夹具对被分割为单元格单位的分割掩模的两端部沿两端方向施加拉伸力之后，将分割掩模片熔接到掩模框架而制造气相沉积模的方法。
[0004]尤其分割方式由于可以选别出合格品使用，且维修容易，因此主要适用于批量生产。但是，由于现有的分割掩模通过夹具夹住分割掩模片的两端部并在掩模片两端部沿掩模片的延伸方向施加拉伸力，因此夹具和拉伸力施加装置位于掩模框架的两侧，根据掩模框架的大小，夹具和拉伸力施加装置占据较大的空间。
[0005]尤其,近年来随着掩模框架的大小变大，结合分割掩模片的掩模框架形成为包含多个开口，因而当需要在各个开口结合多个分割掩模片时，在掩模框架的两端部设置夹具和拉伸力施加装置的状态下，存在夹具难以夹住分割掩模片的问题。
【发明内容】
[0006]本发明是为了解决前述【背景技术】的问题而提出的，提供一种能够节省用于拉伸掩模片的夹具和拉伸力施加装置的设置空间的掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统。
[0007]而且，本发明提供一种能够在包含多个开口的掩模框架上容易地结合掩模片的掩模拉伸装置、掩模片以及包括这些的掩模制造系统。
[0008]根据本发明的一实施例，提供一种掩模拉伸装置，包括:夹具，支撑布置于掩模框架上的掩模片，以将所述掩模片结合到所述掩模框架上；拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。
[0009]此时，所述夹具可结合于形成在所述掩模片的端部的突出部。[0010]此时，所述掩模片的突出部可形成于所述掩模片的四个拐角上。
[0011]此时，所述拉伸机构可沿所述掩模片的延伸方向对所述掩模片施加拉伸力，或者可沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向对所述掩模片施加拉伸力。
[0012]此时，还可以包括朝所述掩模框架侧对所述掩模片施压的施压部件。
[0013]此时，所述施压部件可形成为一对，以对所述掩模片的两端部施压。
[0014]此时，所述施压部件可包括对所述掩模片施压的施压面为四方形的块或所述施压面为曲面的辊子。
[0015]根据本发明的另一实施例，提供一种有机发光显示装置用掩模片，该掩模片熔接结合于有机发光显示装置用掩模框架上，且端部形成有能够结合夹具的突出部。
[0016]此时，所述突出部可形成于所述掩模片的四个拐角上。
[0017]根据本发明的又一 实施例，提供一种掩模制造系统，包括掩模框架；布置于所述掩模框架上的掩模片；掩模拉伸装置；将所述掩模片结合于所述掩模框架上的结合装置，其中，所述掩模拉伸装置包括:夹具，支撑所述掩模片，以将所述掩膜片结合到所述掩模框架上；拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架，其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。
[0018]此时，所述夹具可结合于形成在所述掩模片的端部的突出部。
[0019]此时，所述掩模片的突出部可形成于所述掩模片的四个拐角上。
[0020]此时，所述拉伸机构可沿所述掩模片的延伸方向对所述掩模片施加拉伸力，或者可沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向对所述掩模片施加拉伸力。
[0021]此时，还可以包括朝所述掩模框架侧对所述掩模片施压的施压部件。
[0022]此时，所述施压部件可形成为一对，以对所述掩模片的两端部施压。
[0023]此时，所述施压部件可包括对所述掩模片施压的施压面为四方形的块或所述施压面为曲面的辊子。
[0024]此时，所述掩模框架可包括彼此并排的一对第一框架和沿垂直于所述第一框架的方向结合于所述一对第一框架，并排列成彼此分隔的两个以上的第二框架。
[0025]此时，在由所述掩模框架的所述一对第一框架和彼此相邻的两个第二框架所形成的一个开口可结合多个掩模片。
[0026]另外，所述结合装置可以是熔接装置，以用于将所述掩模片熔接于所述掩模框架。
[0027]根据本发明实施例的掩模制造装置，由于夹具被布置为沿与掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向夹住掩模片，因此夹具和拉伸机构不会在掩模框架的两端部上与掩模片的延伸方向并排而布置，从而能够节省夹具和拉伸装置的设置空间。
[0028]而且，根据本发明实施例的掩模制造装置，由于在夹具沿与掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向夹住掩模片之后拉伸掩模片，因此即使掩模框架变大，使用于结合分割掩模片的开口形成为多个，也能够不受掩模框架的干涉而夹住并拉伸掩模片。
【专利附图】
【附图说明】
[0029]图1为根据本发明第一实施例的掩模制造系统的立体图。
[0030]图2为用在根据本发明第一实施例的掩模制造系统的掩模片的立体图。[0031]图3为根据本发明第一实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置的立体图。
[0032]图4为示出根据本发明第一实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置拉伸掩模片的状态的剖视图。
[0033]图5为示出根据本发明第二实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置拉伸掩模片的状态的剖视图。
[0034]图6为示出根据本发明第三实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置的剖视图。
[0035]图7为示出根据本发明第三实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置拉伸掩模片的状态的剖视图。
[0036]图8为示出在根据本发明第三实施例的掩模制造系统中辊子状施压部件对掩模片施压的状态的剖视图。
[0037]主要符号说明
[0038]1、I'、1":掩模制造系统
[0039]2:掩模框架
[0040]10、10'、10":掩模拉伸装置
[0041]13:夹具
[0042]14:拉伸机构
[0043]20:掩模片`
[0044]30:结合装置
[0045]40:施压部件
[0046]42:施压辊子
【具体实施方式】
[0047]以下，参照附图详细说明本发明的实施例，以使本发明所属的【技术领域】里的具有普通知识的技术人员能够容易地实施。本发明可以实现为各种不同的形态，并不局限于在此说明的实施例。为了更加清楚地说明本发明，图中省略了与说明无关的部分，在整个说明书中，对于相同或类似的构成要素使用了相同的标记。
[0048]图1为根据本发明第一实施例的掩模制造系统的立体图。图2为用在根据本发明第一实施例的掩模制造系统的掩模片的立体图。图3为根据本发明第一实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置的立体图。图4为示出根据本发明第一实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置拉伸掩模片的状态的剖视图。
[0049]参照图1，根据本发明一实施例的掩模制造系统I包括掩模框架2、掩模片20、掩模拉伸装置10和结合装置30。
[0050]掩模框架2是为了形成掩模而结合掩模片20的构成要素。根据本发明一实施例，由图1可知，掩模框架2包括沿第一方向延伸且彼此并排的一对第一框架2a和沿垂直于第一框架2a的第二方向延伸而与第一框架结合，被排列成相互分隔的两个以上，例如三个的第二框架 2b、2c、2d。
[0051]此时，由掩模框架2的一对第一框架2a和彼此相邻的两个第二框架2b、2c所形成的开口 3上结合有多个掩模片20,从图1观察时,多个掩模片20沿上下方向并排布置。如此，在一个开口 3上结合有多个掩模片20的根据本发明一实施例的掩模可以是分割掩模。[0052]结合于掩模框架2的掩模片20包括具备预定图案的开口部21的掩模片主体22和突出形成于所述掩模片主体22的两端部的突出部24。
[0053]此时，参照图2，掩模片20的突出部24沿与掩模片主体22的延伸方向垂直的方向突出地形成于掩模片主体22的四个拐角上。突出部24可形成薄的板材状等能够安装到夹具的多种形态。
[0054]虽然在本实施例中构成为在四边形掩模片主体22的四个拐角分别突出形成薄的板材状突出部24，但只要在掩模片的两端部，夹具能够安装到突出部而拉伸掩模片，则形成于掩模片主体的两端部的突出部的数量和形态可实现为多种多样。
[0055]为了将具有这种结构的掩模片20结合到掩模框架2，根据本发明一实施例的掩模制造系统I具备掩模拉伸装置10和结合装置30。此时，用于将掩模片20结合到掩模框架2的结合装置30可以是公知的熔接装置。
[0056]根据本发明一实施例，利用掩模拉伸装置10将掩模片20固定在掩模框架20上，并利用熔接装置熔接掩模片20和掩模框架2的接合区域，据此制作掩模。
[0057]此时，参照图3，根据本发明一实施例的掩模拉伸装置10包括夹具12和拉伸机构14。
[0058]夹具12是为了将掩模片20结合到掩模框架2而与掩模片20的突出部24结合，以固定掩模片20的构成要素。
[0059]在掩模拉伸装置10上的夹具12的相反侧结合有用于向夹具12施加拉伸力的拉伸机构14。夹具12和拉伸机构14之间设置有拉伸力测量机构13，据此构成为能够测量施加于夹具的拉伸力。
[0060]此时，构成根据本发明一实施例的掩模制造系统I的掩模拉伸装置10的夹具、拉伸力测量机构和拉伸机构可使用具有公知结构的夹具、拉伸力测量机构和拉伸机构，因此省略对其的详细说明。
[0061]根据本发明一实施例的掩模制造系统I可包括四个掩模拉伸装置10，以在形成于掩模片20的四个拐角的突出部24上分别结合一个夹具12。
[0062]另外，根据本发明一实施例的掩模制造系统I中，如图4所示，掩模拉伸装置10形成为沿与掩模片20的延伸方向垂直的方向排列，从而使掩模拉伸装置10的夹具12结合到掩模片20的突出部24。
[0063]如图4所示，在掩模片20的突出部24上结合有夹具12的掩模拉伸装置10形成为沿掩模片20的延伸方向，即掩模片20的两侧方向拉伸掩模片20。
[0064]如此，在掩模拉伸装置10的夹具12在垂直的方向结合掩模片20的突出部24的状态下，掩模拉伸装置10的拉伸机构沿掩模片20的延伸方向拉伸掩模片20，由此掩模片20接合于掩模框架。
[0065]此时，参照图4，假设掩模框架2的两个第二框架2b、2c之间的距离为LI时，掩模片20的延伸方向长度Lm大于LI,据此在掩模片20置于掩模框架2的两个第二框架2b、2c之上的状态下，掩模片20的两端部分别与彼此相邻的掩模框架2的两个第二框架2b、2c上侧接触而置于两个第二框架2b、2c之上。
[0066]如此，在掩模片20接触于掩模框架2的状态下，熔接装置接合掩模片20和掩模框架2的接触部，由此掩模片20熔接接合于掩模框架2。[0067]此时，根据本发明一实施例的掩模拉伸装置10可形成为与固定掩模框架2的基底(未图示)连接的形态，或者与设置掩模框架2的基底分离为个体的形态。
[0068]根据本发明的一实施例，由于掩模拉伸装置10排列在与结合于掩模框架2上的掩模片20垂直的方向，因此掩模拉伸装置10无需布置在掩模框架2的第二框架的最外侧，即，从图1观察时，位于两侧端部的第二框架2b、2d的外侧，而是可在需要安装的掩模框架2上，位于掩模片20两端部的上侧。
[0069]由此，现有的掩模拉伸装置为了在掩模框架的两侧端部朝两侧方向拉伸掩模片，在掩模框架的两侧部设置掩模拉伸装置，以构成掩模拉伸装置位于掩模框架的两端部的结构，因此包含掩模拉伸装置的掩模制造系统在空间上占据较大空间，与此不同，根据本发明一实施例的掩模制造系统I无需为了拉伸掩模片而设置在掩模框架的两侧部，因而可以节省掩模拉伸装置10的设置空间。
[0070]而且，根据本发明一实施例的掩模制造系统I的掩模拉伸装置10由于能够在位于具备多个开口的掩模框架2的中间部分的第二框架2c上侧与掩模片20的突出部24结合而拉伸掩模片20，因此即使在掩模框架2具备多个开口的情况下，也可以在各个掩模框架2的开口容易地接合掩模片20。
[0071]以下，改变图而说明根据本发明其他实施例的掩模制造系统。
[0072]图5为示出根据本发明第二实施例的掩模制造系统I'的掩模拉伸装置拉伸掩模片的状态的剖视图。
[0073]在对于根据本发明第二实施例的掩模制造系统1’进行说明时，对于与第一实施例相同的结构省略详细的说明，而仅以区别于第一实施例的结构为中心说明根据第二实施例的掩模制造系统I,。
[0074]根据本发明第二实施例的掩模制造系统1‘与第一实施例不同，掩模拉伸装置10'形成为沿与掩模片20的延伸方向倾斜的方向拉伸掩模片20，而不是沿与掩模片20的延伸方向垂直的方向拉伸掩模片20。
[0075]为此，根据本发明第二实施例的掩模制造系统1’的掩模拉伸装置1(V中，夹具12沿相对掩模片20的延伸方向倾斜预定角度α的方向排列。
[0076]此时，掩模拉伸装置10'可排列为掩模拉伸装置10'本身与掩模片20的延伸方向倾斜，或者可排列为仅使与掩模片20的突出部24结合的夹具12倾斜。
[0077]此时，掩模片20的突 出部24也可以形成为相对掩模片20的延伸方向倾斜，以使掩模拉伸装置10'相对掩模片20沿倾斜方向容易地结合。
[0078]如此，在掩模拉伸装置1(V沿相对掩模片20的延伸方向倾斜的方向排列的状态下拉伸掩模片20时，掩模拉伸装置1(V的拉伸方向可以是与掩模片20的延伸方向平行的方向。
[0079]根据本发明第二实施例的掩模制造系统1‘中，在掩模拉伸装置1(V沿相对掩模片20的延伸方向倾斜地与掩模片20的突出部24结合而拉伸掩模片20的期间，熔接装置熔接掩模框架2和掩模片20的接触部而制作掩模。
[0080]此时，掩模拉伸装置1(V或夹具12相对于掩模片20的拉伸方向倾斜的角度α可考虑设置掩模拉伸装置10'的空间和拉伸掩模片20的拉伸力大小以及掩模拉伸装置10'的大小等而进行选择。[0081]根据本发明第二实施例的掩模制造系统中，掩模拉伸装置10的基本结构和数量等可以与前述的根据第一实施例的掩模制造系统类似，因此省略对其的详细说明。
[0082]图6为示出根据本发明第三实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置的剖视图。图7为示出根据本发明第三实施例的掩模制造系统的掩模拉伸装置拉伸掩模片的状态的剖视图。图8为示出在根据本发明第三实施例的掩模制造系统中辊子状施压部件对掩模片施压的状态的剖视图。
[0083]在对于根据本发明第三实施例的掩模制造系统进行说明时，对于与前述实施例相同的结构，省略详细的说明，而仅以区别于前述实施例的结构为中心说明根据第三实施例的掩模制造系统。
[0084]参照图6，根据本发明第三实施例的掩模制造系统I"，在根据第二实施例的掩模制造系统P中增加了施压部件40。
[0085]施压部件40是用于在掩模片20接触于掩模框架2之上的状态下,朝掩模框架2侧对掩模片20施压的部件。
[0086]施压部件40形成为如图7所示的剖面为四方形的块状，以使与掩模片20接触的面形成平面，例如形成四方形平面，或者形成为附图8所示的摩擦轮(friction roller)42形状。
[0087]此时，如图6所示，施压部件40形成为与掩模片20形成间隔，从而在掩模拉伸装置10"离开掩模片20的突出部24状态下不会对掩模片20施压。
[0088]如图7所示，施压部件形成为，在掩模拉伸装置10"结合于掩模片20的突出部24的状态下，在掩模片20的两端部对第`二框架2b、2c的上部施压。
[0089]如此，在施压部件40对掩模片20施压的状态下，掩模拉伸装置10"拉伸掩模片20。
[0090]此时，在施压部件40对掩模片20施压的状态下，掩模拉伸装置10"的拉伸方向可以是与掩模片20的延伸方向平行的方向、与掩模片的延伸方向倾斜的方向或者与掩模片的延伸方向垂直的方向。
[0091]在施压部件40没有对掩模片20施压的状态下，掩模拉伸装置10"沿与掩模片20的延伸方向垂直的方向拉伸掩模片20时,掩模片20有可能不接触于掩模框架2而被分离，因此可能难以进行熔接。
[0092]因此，如本发明第三实施例所示，通过施压部件40对掩模片20施压，从而能够更加容易地使掩模片20接触于掩模框架2。
[0093]此时，对掩模片20施压的施压部件40的大小、形状以及施压程度可考虑掩模片的熔接位置等做出适当的选择。
[0094]根据本发明的多个实施例的掩模制造系统中，包含夹具的掩模拉伸装置构成为在与掩模片的延伸方向不平行的方向移动而拉伸掩模，因此能够避免受到设置掩模片的掩模框架位置的影响而以分割方式拉伸掩模。
[0095]因此，如此地进行拉伸时，即使在制造如同8G的包含多个面板的大型尺寸的掩模，掩模片的尺寸也无需变大为整个8G面板区域，在进行掩模的制造和维修作业时，也能够容易地控制掩模片。
[0096]以上对本发明的一实施例进行了说明，但本发明的思想并不局限于本说明中举出的实施例，理解本发明的思想的本领域技术人员可在相同的思想范围之内，通过构成要素的增加、变更、删除等 容易地提出其他实施例，但这也属于本发明的思想范围之内。
【权利要求】
1.一种掩模拉伸装置，其特征在于，包括: 夹具，支撑布置于掩模框架上的掩模片，以将所述掩模片结合到所述掩模框架； 拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架， 其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。
2.根据权利要求1所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述夹具结合于形成在所述掩模片的端部的突出部。
3.根据权利要求2所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述掩模片的突出部形成于所述掩模片的四个拐角上。
4.根据权利要求1所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述拉伸机构沿所述掩模片的延伸方向对所述掩模片施加拉伸力，或者沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向对所述掩模片施加拉伸力。
5.根据权利要求1所述的掩模拉伸装置，其特征在于，还包括朝所述掩模框架侧对所述掩模片施压的施压部件。
6.根据权利要求5所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述施压部件形成为一对，以对所述掩模片的两端部施压。
7.根据权利要求6所述的掩模拉伸装置，其特征在于，所述施压部件包括对所述掩模片施压的施压面为四方形的块或所述施压面为曲面的辊子。
8.一种有机发光显示装置用掩模片，其特征在于，该掩模片熔接结合于有机发光显示装置用掩模框架上，且端部形成有能够结合夹具的突出部。
9.根据权利要求8所述的有机发光显示装置用掩模片，其特征在于，所述突出部形成于所述掩模片的四个拐角上。
10.一种掩|吴制造系统，其特征在于，包括: 掩模框架； 布置于所述掩模框架上的掩模片； 掩模拉伸装置； 将所述掩模片结合于所述掩模框架上的结合装置， 其中，所述掩模拉伸装置包括:夹具，支撑所述掩模片，以将所述掩膜片结合到所述掩模框架；拉伸机构，连接于所述夹具，朝所述夹具施加拉伸力，以将通过所述夹具固定的所述掩模片固定于所述掩模框架， 其中，所述夹具沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向排列而支撑所述掩模片。
11.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，所述夹具结合于形成在所述掩模片的端部的突出部。
12.根据权利要求11所述的掩模制造系统，其特征在于，所述掩模片的突出部形成于所述掩模片的四个拐角上。
13.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，所述拉伸机构沿所述掩模片的延伸方向对所述掩模片施加拉伸力，或者沿与所述掩模片的延伸方向垂直或倾斜的方向对所述掩模片施加拉伸力。
14.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，还包括朝所述掩模框架侧对所述掩模片施压的施压部件。
15.根据权利要求14所述的掩模制造系统，其特征在于，所述施压部件形成为一对，以对所述掩模片的两端部施压。
16.根据权利要求15所述的掩模制造系统，其特征在于，所述施压部件包括对所述掩模片施压的施压面为四方形的块或所述施压面为曲面的辊子。
17.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，所述掩模框架包括彼此并排的一对第一框架和沿垂直于所述第一框架的方向结合于所述一对第一框架，且排列成彼此分隔的两个以上的第二框架。
18.根据权利要求17所述的掩模制造系统，其特征在于，在由所述掩模框架的所述一对第一框架和彼此相邻的两个第二框架所形成的一个开口能够结合多个掩模片。
19.根据权利要求10所述的掩模制造系统，其特征在于，所述结合装置是熔接装置，以用于将所述掩模片熔接于 所述掩模框架。
【文档编号】C23C16/04GK103451597SQ201210454557
【公开日】2013年12月18日 申请日期:2012年11月13日 优先权日:2012年5月31日
【发明者】姜泽教 申请人:三星显示有限公司