用于化学气相沉积反应器的反射器和衬托器组件的制作方法

文档序号:11126707阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种用于MOCVD反应器的衬底加热装置,包括:

红外加热灯,所述红外加热灯相对于衬托器成间隔设置,所述衬托器承载至少一个衬底,所述至少一个衬底用于通过使用来自所述灯的红外光的对所述衬托器的照射进行加热;和

多个间隔开的红外反射器,所述多个间隔开的红外反射器位于所述灯的与所述衬托器相对的侧上并具有朝向所述加热灯的反射面,所述反射器被配置成以期望的图案在所述衬托器上分布红外光,所述期望的图案被选择使得提供对所述衬托器的均匀加热,并从而还提供对由所述衬托器承载的所述至少一个衬底的均匀加热。

2.根据权利要求1所述的装置,其中,所述红外反射器相对于所述灯的中心部分在所述灯的端部部分处更宽。

3.根据权利要求1所述的装置,其中,所述红外反射器只关于所述灯的端部部分定位,而关于所述灯的中心部分则不存在。

4.根据权利要求1所述的装置,其中,所述红外反射器由不透明(体散射)石英材料构造。

5.根据权利要求1所述的装置,其中,所述红外反射器由铜镀金材料构造。

6.根据权利要求5所述的装置,其中,所述红外反射器的特征在于,与靠近所述灯的中心部分中的较低红外反射率相比较,其在所述灯的端部部分处具有相对较高的红外反射率。

7.根据权利要求6所述的装置,其中,所述红外反射器在关于所述灯的中心部分处具有石墨涂层。

8.根据权利要求1所述的装置,还包括位于所述衬托器下侧的一组一个或多个红外低热质量屏蔽反射器,所述屏蔽反射器被配置成以被选定来微调对所述衬托器的均匀加热的期望的图案反射红外光的一部分离开所 述衬托器。

9.根据权利要求8所述的装置,其中,所述屏蔽反射器是具有相同宽度的平行金属条。

10.根据权利要求8所述的装置,其中,所述屏蔽反射器是具有不同宽度的平行金属条。

11.根据权利要求8所述的装置,其中,所述屏蔽反射器是盘。

12.根据权利要求8所述的装置,其中,所述屏蔽反射器是金属丝网。

13.根据权利要求1所述的装置,其中,所述衬托器具有安置所述屏蔽反射器的容器。

14.根据权利要求1所述的装置,其中,所述加热灯被构造和布置成提供期望的功率输出模式。

15.根据权利要求14所述的装置,其中,位于所述衬托器的边缘附近的所述加热灯比位于较中心的加热灯提供更大的功率输出。

16.根据权利要求1所述的装置,其中,所述加热灯是线性管。

17.根据权利要求1所述的装置,其中,其他反射器被布置在所述加热灯的侧面上。

18.根据权利要求1所述的装置,其中,所述衬托器承载多个衬底。

19.根据权利要求18所述的装置,其中,所述多个衬底是衬底阵列。

20.根据权利要求19所述的装置,其中,所述多个衬底包括阵列之间隔开的多个衬底阵列。

21.一种用于MOCVD反应器的衬底加热结构,包括:

红外加热灯,所述红外加热灯相对于衬托器成间隔设置,所述衬托器承载用于加热的至少一个衬底;以及

多个间隔开的初级反射器和多个间隔开的次级反射器,所述多个间隔开的初级反射器将来自所述加热灯的辐射引向所述衬托器,所述多个间隔开的次级反射器位于所述灯和所述衬托器之间,在将来自所述加热灯的辐 射引导离开所述衬托器的位置中,在所述衬托器中具有净热量增益,并且所述初级反射器和所述次级反射器被配置成以期望的图案在所述衬托器上分布热量。

22.根据权利要求21所述的装置,其中,石英片被插在所述衬托器和所述灯之间,所述石英片和所述衬托器限定用于安置所述次级反射器的容器。

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