技术总结
本发明涉及用于化学气相沉积反应器的反射器和衬托器组件。用于化学气相沉积的反应器配备有IR辐射补偿衬托器组件，该组件在被布置成平行阵列的线性IR加热灯上方支撑一个或多个半导体衬底。灯下的一组初级IR辐射反射器以选定的图案将IR辐射返回引向衬托器，选定的图案提供对衬托器组件的均匀IR照射，从而均匀加热衬底。可以选定图案将次级IR屏蔽反射器设置在衬托器组件的底面上作为微调手段，以便以受控图案将IR辐射引导离开组件。组合的IR辐射反射器具有补偿由线性IR加热灯阵列产生的任何非均匀加热廓线的IR特征。灯阵列的加热廓线还可被修改以减少需要由IR反射器提供的补偿量。
技术研发人员：布莱恩·巴罗斯;阿布里尔·卡布雷罗斯;大卫·M·伊西卡瓦;布莱恩·布朗;亚历山大·勒纳
受保护的技术使用者：奥塔装置公司
文档号码：201510651165
技术研发日：2015.10.10
技术公布日：2017.02.15