制造掩模的方法与流程

技术总结
公开了制造掩模的方法，该方法包括：使用激光在基础材料中形成第一孔，第一孔从第一表面至与第一表面不同的第二表面穿透基础材料；以及使用刻蚀剂扩张第一孔以形成第二孔。

技术研发人员：文英慜;任星淳;文敏浩;张淳喆
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
文档号码：201610584540
技术研发日：2016.07.22
技术公布日：2017.02.15