技术总结
提供一种衬底托架以及一种包括该衬底托架的半导体制造设备。所述衬底托架通过与反应器壁面密封接触来提供反应区域。在所述衬底托架与所述反应器壁面密封接触时，所述衬底托架在被施加压力时具有弹性行为。半导体制造设备包括：所述衬底托架；和气体供应单元，被配置成向由所述反应器壁和所述衬底托架所提供的所述反应区域供应气体。
技术研发人员：张显秀;李政镐;金友燦;田星训;孙宗源
受保护的技术使用者：ASM知识产权私人控股有限公司
文档号码：201610654003
技术研发日：2016.08.10
技术公布日：2017.02.22