等离子体沉积装置的制作方法

技术特征：

技术总结
一种等离子体沉积装置，包括：腔室；气体供应部，向腔室供应气体；以及喷头，设置在腔室的内部，与气体供应部连接。其中，气体供应部包括使气体流入的流入管、以及与流入管连接的至少两个流出管。此外，喷头包括：上板，具有与流出管连接的多个注入口；以及下板，与上述上板分离，且具有喷射口。

技术研发人员：许明洙;高锡珍;高东均;金民洙;金圣哲;卢喆来;李秉春
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2016.12.21
技术公布日：2017.08.22