技术总结
一种用于化学气相沉积(CVD)反应器的自定心晶片载体系统，其包括晶片载体，晶片载体包括边缘。晶片载体至少部分地支承晶片以便进行CVD处理。旋转管包括边缘，边缘在处理期间支承晶片载体。晶片载体的边缘几何结构和旋转管的边缘几何结构经选择在过程期间在所期望的过程温度提供晶片载体的中心轴线与旋转管的旋转轴线的重合对准。
技术研发人员：S·克里士南;A·I·古拉雷;张正宏;E·马塞罗
受保护的技术使用者：维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司
文档号码：201620622524
技术研发日：2016.06.22
技术公布日：2017.04.26