技术总结
本实用新型属于磁控溅射靶材生产领域，尤其涉及一种保护气氛快速冷却装置。为解决当前采用的冷却方式冷却时间长、生产效率低以及易混入氧气，造成轻微氧化的问题。本实用新型提出一种保护气氛快速冷却装置，包括箱体1、密封圈2、真空泵接口3、惰性气体接口4、空气接口5、箱门6、空调蒸发器7以及空调蒸发器外罩8。相比于当前在真空环境下冷却或放入氮气柜中冷却的方法，本装置具有抽真空的功能，可以有效去除氧气，并可以充入惰性气体，利用空调蒸发器强制冷却惰性气体，使易氧化的磁控溅射靶材的降温过程始终处于保护性气氛下，从而避免靶材发生氧化，提高产品表面质量。本装置同时还具有操作简单、冷却速度快、安全可靠等优点。
技术研发人员：杨永刚;于海洋;李晓松;夏乾坤;刘冬青;陆灵芝;李峥;薛宏宇
受保护的技术使用者：有研亿金新材料有限公司
文档号码：201621444377
技术研发日：2016.12.27
技术公布日：2017.07.04