一种湿法刻蚀槽的制作方法

本发明属于显示技术领域，涉及一种湿法刻蚀槽。

背景技术：

湿法刻蚀工艺主要是指采用液态化学药品对待刻蚀物进行去除的刻蚀技术，具体而言，湿法刻蚀是使用适当的刻蚀液，与刻蚀物进行化学反应，改变刻蚀物的结构，使无光刻胶覆盖的部分脱离基片表面，把有光刻胶覆盖的区域保存下来，这样便在基片表面得到了所需要的图形。

在显示屏的制作过程，通常是在湿法刻蚀槽内利用酸性液体对基板上的特定膜层进行刻蚀，刻蚀过程中，酸性液体挥发而形成的酸雾逐渐附着在湿法刻蚀槽的盖板上，附着在盖板上的酸性小液滴将逐渐凝结成大的酸性液滴，当大的酸性液滴掉落到基板上时，将导致对膜层的刻蚀不均匀，影响产品良率。

技术实现要素：

本发明的目的在于，解决现有技术中酸雾在盖板上凝结导致对基板的刻蚀不均匀，影响产品良率的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供了一种湿法刻蚀槽，包括槽体、盖板和喷气装置，所述盖板盖合在所述槽体上；所述湿法刻蚀槽上开设有排气口，所述排气口用于连接一外部抽气装置；所述喷气装置设置在所述盖板朝向所述槽体上，用于沿朝向所述排气口的方向喷射压缩气体，将盖板附近的酸雾吹向所述排气口附近，使酸雾从所述排气口排出。

进一步的，所述排气口设置在所述盖板的中间部位，在所述盖板靠近所述槽体的内侧壁处设置所述喷气装置。

进一步的，所述喷气装置的数量为一个或多个。

进一步的，所述喷气装置的数量至少为四个，在所述盖板靠近所述槽体的四个内侧壁处分别设置至少一个所述喷气装置。

进一步的，所述排气口的数量至少为两个，分别设置在所述盖板靠近所述槽体相对的两个内侧壁处或设置在所述槽体相对的两个内侧壁上，所述喷气装置设置在所述盖板的中间部位。

可选的，所述喷气装置能够同时朝所述两个排气口的方向喷射压缩气体。

优选的，所述喷气装置的数量与所述排气口的数量相同或者不相同，当所述喷气装置的数量与所述排气口的数量相同时，每个所述喷气装置分别朝对应的一个排气口的方向喷射压缩气体。

进一步的，所述盖板的中间部位设有一分界板，所述喷气装置设置于所述分界板上。

进一步的，所述喷气装置包括喷气嘴和气源，所述喷气嘴设置在所述盖板上，所述气源设置在所述湿法刻蚀槽外部，所述喷气嘴通过一气源管道与所述气源连通，所述气源管道与所述湿法刻蚀槽密封连接。

进一步的，所述压缩气体为压缩空气或压缩氧气，所述压缩气体的温度为30-60℃。

与现有技术相比，本发明提供的一种湿法刻蚀槽，通过设置喷气装置，将酸雾吹至排气口处，使得酸雾能迅速排出刻蚀槽，可以有效的减少酸雾在盖板上的凝结。同时，将喷气装置喷射的压缩气体的温度设置成与酸雾温度接近，防止了酸雾因为遇冷液化的原因形成液滴，进一步减小了酸雾在盖板上的凝结成液滴的可能，有效解决了现有技术中酸雾在盖板上凝结导致对基板的刻蚀不均匀，影响产品良率的问题。

附图说明

图1是本发明一实施例提供的一种湿法刻蚀槽的结构示意图；

图2是本发明另一实施例提供的一种湿法刻蚀槽的结构示意图；

图3是本发明又一实施例提供的一种湿法刻蚀槽的结构示意图；

其中，1-槽体；2-盖板；3-喷气装置；4-排气口；5-分界板。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明提出的一种湿法刻蚀槽作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。附图中相同或相似的附图标记代表相同或相似的部件。

图1是本发明一实施例提供的一种湿法刻蚀槽的结构示意图。请参考图1，一种湿法刻蚀槽，包括槽体1、盖板2和喷气装置3，所述盖板2盖合在所述槽体1上；所述湿法刻蚀槽上开设有排气口4，所述排气口4用于连接一外部抽气装置(图中未标出)；所述喷气装置3设置在所述盖板2上，用于沿朝向所述排气口4的方向喷射压缩气体。通过设置喷气装置3，当所述湿法刻蚀槽内的酸雾挥发至盖板2处时，喷气装置3可以喷射压缩气体，从而将酸雾带动吹向至所述排气口4，再通过外部抽气装置及时将酸雾抽出刻蚀槽，有效的防止酸雾在所述盖板1上凝结。

本实施例中，仅设置一个排气口4，所述排气口4设置在所述盖板2的中间部位。将排气口4设置在所述盖板2的中间部位，可以使所述盖板2附近的酸雾到所述排气口4的最大距离较短，使离所述排气口4较远的所述盖板2边缘部分的酸雾也更易排出，但应理解，所述排气口4也可以设置在所述盖板2的其它部位，只要实现排除酸雾的目的即可。所述排气口4可以是圆形排气口或者方形排气口，也可以是其它形状的排气口。本实施例中，所述喷气装置3设置在所述盖板2靠近所述槽体1的内侧壁处，例如，距离所述槽体1的内侧壁5～20cm处，用以将酸雾吹向所述盖板2中间部位的排气口4处。

所述喷气装置3的数量可以是一个或者是多个。优选的，所述喷气装置3的数量为多个，多个喷气装置3朝向所述排气口4的方向喷气，这样提高了酸雾向所述排气口4移动的效率，同时使覆盖面更大，酸雾更加不容易再所述盖板2处凝结。更优选的，所述喷气装置3的数量至少为四个，在所述盖板2靠近所述槽体1的四个内侧壁处分别设置至少一个所述喷气装置3。本实施例中，如图1所示，在所述盖板2靠近所述槽体1相对的两个内侧壁处分别设置一个所述喷气装置3。

图2是本发明另一实施例提供的一种湿法刻蚀槽的结构示意图。请参考图2，在本发明另一实施例中，所述排气口4的数量至少为两个，分别设置在所述槽体1相对的两个侧壁上，所述喷气装置3则设置在所述盖板2的中间部位。作为优选的，所述喷气装置3能够同时朝所述两个排气口4的方向喷射压缩气体。具体的，所述喷气装置3设置在中间部位向两边喷气，将酸雾带至所述排气口4处。图2中排气口设置在槽体的侧壁上，应当认识到，本发明对于排气口的位置、数量和形状不作限制，比如，也可以在所述盖板2上设置多个排气口，这些排气口可以均匀或者非均匀地分布在盖板2上。

其中，所述喷气装置3的数量可以与所述排气口4的数量相同或者不相同，当所述喷气装置3的数量与所述排气口4的数量相同时，每个所述喷气装置3分别朝对应的一个排气口4的方向喷射压缩气体。

图3是本发明又一实施例提供的一种湿法刻蚀槽的结构示意图。请参考图3，在又一实施例中，所述盖板2的中间部位设有一分界板5，所述喷气装置3设置于所述分界板5上。所述分界板5的形状可以是矩形或者三角形等，其面积不做限定，只要可容置喷气装置3即可。可以仅设置一个分界板5，并在该分界板5的相对两个表面上各设置一个喷气装置3，也可以设置多个分界板5，并在每个分界板5上各设置一个或多个喷气装置3。在本方案中，设置分界板5的主要作用是，当需要在同一位置安装两个以上的喷气装置时，分界板5可以起到隔离作用，即将两个喷气装置安装在所述分界板5的相对两个表面上，这样两个喷气装置之间不会相互干扰，提高酸雾的排出效率。

其中，所述喷气装置3包括喷气嘴和气源(图中未标出)，所述喷气嘴设置在所述盖板2上，所述气源设置在所述湿法刻蚀槽外部，所述喷气嘴通过一气源管道与所述气源连通，所述气源管道与所述湿法刻蚀槽密封连接。所述压缩气体例如为压缩空气或压缩氧气，所述压缩气体的温度例如为30-60℃。将压缩气体的温度设置成与酸雾温度相接近，可以有效的防止酸雾因为遇冷液化的原因形成液滴，进一步减小酸雾在所述盖板2上的凝结。

所述槽体1可以是方形槽体且具有一开口，所述盖板2盖合在所述槽体1上从而封闭该开口形成了一容置刻蚀液(例如是酸液、碱液或者去离子水)的腔体，从而用于对基板(例如是制作显示屏的玻璃基板)上的各种膜层(例如是金属膜层、介质层等)进行湿法刻蚀或湿法清洗。当然，所述槽体1也可以是其它形状，只要盖板2能够盖合其上并能够容置刻蚀液即可。

综上所述，本发明提供了一种湿法刻蚀槽，通过设置喷气装置，将酸雾吹至排气口处，使得酸雾能迅速排出刻蚀槽，可以有效的减少酸雾在盖板上的凝结。同时，将喷气装置喷射的压缩气体的温度设置成与酸雾温度接近，防止了酸雾因为遇冷液化的原因形成液滴，进一步减小了酸雾在盖板上的凝结成液滴的可能，有效解决了现有技术中酸雾在盖板上凝结导致对基板的刻蚀不均匀，影响产品良率的问题。

需要说明的是，本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

上述描述仅是对本发明较佳实施例的描述，并非对本发明范围的任何限定，本发明领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。