本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种柔性基板及其制作方法。
背景技术：
随着电子显示技术的不断发展，柔性显示装置(柔性tft-lcd,柔性oled等)以其质量轻，厚度小，寿命长，可弯曲等众多优点，成为了最具发展潜力的新一代显示技术。现在主流的柔性基板的柔性衬底主要包括超薄玻璃、金属类以及聚合物薄膜三大类，其中应用最多的是聚合物柔性衬底，如pi(聚酰亚胺)衬底材料，其良好的力学性能、优异的耐化性能、良好的光学透过率、可“卷对卷”生产等特点，成为现有柔性衬底的首选材料并得到广泛的重视。
但是，在柔性基板弯曲和展开的过程中，在柔性衬底上由金属膜蚀刻而来的金属线很可能由于应力得不到充分吸收而发生断裂，极易导致整个柔性基板发生故障，且该种故障排查困难，维修不易，致使柔性基板的故障率较高。而且，金属膜薄厚不均匀，也造成了柔性衬底翘曲的现象。
技术实现要素：
本发明主要提供一种柔性基板及其制作方法，旨在解决目前的柔性基板在弯曲或展开时，其金属膜层因应力无法被充分吸收而发生断裂和金属膜薄厚不均匀造成的柔性衬底翘曲的问题。
为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：提供一种柔性基板的制作方法，所述方法包括：
将柔性衬底卷绕到旋转装置上；
控制所述柔性衬底旋转；
将金属粒子沉积到所述柔性衬底的表面；及
所述金属粒子在所述柔性衬底表面形成金属膜。
为解决上述技术问题，本发明采用的另一种技术方案是：提供一种柔性基板，所述柔性基板通过上述柔性基板的制作方法制得。
本发明的有益效果是：通过将柔性衬底卷绕到旋转装置上，使金属粒子在柔性衬底卷曲状态下沉积成膜，以吸收柔性基板平展后或者卷曲时金属膜自身的硬度带来的应力，保护金属膜不发生断裂现象，而且金属膜也因为金属粒子的旋转沉积而薄厚均匀，避免了厚度不均造成的柔性衬底翘曲的现象。
附图说明
图1是本发明柔性基板的制作方法的流程示意图；
图2是本发明柔性基板的制作方法的操作示意图；
图3是本发明柔性基板的结构示意图。
具体实施方式
请参阅图1，是本发明柔性基板的制作方法的流程示意图。如图1所示，本发明柔性基板的制作方法包括如下步骤：
步骤s1：将柔性衬底2卷绕到旋转装置1上；
步骤s2：控制柔性衬底2旋转；
步骤s3：将金属粒子沉积到柔性衬底2的表面；
步骤s4：金属粒子在柔性衬底2表面形成金属膜3；
步骤s5：将柔性衬底2远离金属膜3的表面吸附在平坦基板上；
步骤s6：在金属膜3上涂布、曝光、显影；
步骤s7：解除真空吸附以将柔性衬底2与平坦基板分离。
金属膜3相对于柔性衬底2而言，具有一定的硬度，柔性衬底2卷曲和展开的过程中，金属膜3可能会因为应力无法被吸收而出现断裂的现象。但是，经过以上镀膜操作后，相比直接在平坦的柔性衬底2上沉积金属粒子，其最明显的优势在于，金属膜3(图3中示出)在柔性衬底2卷曲状态下完成了沉积工作，所以刚刚完成镀膜的柔性衬底2从旋转装置1上脱离后暂呈微卷状态，金属膜3靠近柔性衬底2的一面的表面面积略微小于金属膜3远离柔性衬底2的一面的表面面积，这微小的面积差配合金属自身的延展性，可以吸收柔性衬底2平展后或者更加卷曲时金属膜3自身的硬度带来的应力，保护金属膜3不发生断裂现象，而且也因为金属粒子的旋转溅射，沉积形成了薄厚均匀的金属膜3，避免了厚度不均造成的柔性衬底2翘曲的现象。
另外，卷状的柔性衬底2在镀膜后，具有了一定的硬度和厚度，采用真空吸附的方式使柔性衬底2未镀膜的一面吸附在平坦基板后，相比未采用上述镀膜方式的柔性基板，不会出现柔性衬底褶皱变形的状况，为后续的制程带来极大的便利；与传统的制程相比，大大减少了柔性衬底2与玻璃基板剥离时繁琐的工序，也提高了柔性基板从玻璃基板剥离的成功率。
请参阅图2，是本发明柔性基板的制作方法的操作示意图。如图2所示，将柔性衬底2(图中示出的是已经完成镀膜的柔性衬底)卷绕到旋转装置1上，使柔性衬底2呈弯曲状态，并使未被溅射金属粒子的空白区域旋转到金属粒子沉积源所在的位置，使金属粒子溅射到柔性衬底2上沉积成膜。其中，金属粒子由靶材4提供，靶材4可以是平面靶材，也可以是曲面靶材，当柔性衬底2旋转到平面靶材或者曲面靶材位置时，平面靶材或者曲面靶材溅射的金属粒子则沉积到柔性衬底2表面，完成镀膜。
平面靶材或者曲面靶材均可以在一定范围内来回移动，以使金属粒子均匀的溅射到柔性衬底2表面，而且无论是平面靶材或是曲面靶材，仅需要覆盖旋转装置1的一定范围即可，这样的设置，能够同时对大面积的柔性衬底2进行镀膜操作，金属粒子的溅射效率高。也可以考虑使用空心的筒状靶材，将选装装置1套入筒状靶材的空心部分，使筒状靶材完整覆盖柔性衬底2的表面，金属粒子的溅射一次性完成，以使镀膜效率达到最高。
考虑到日常加工柔性基板多涉及批量操作，因此，可以将多张柔性衬底2同时卷绕到旋转装置1上，进行连续的金属粒子的溅射操作。而为了后期易于分离多个柔性衬底2，在相邻的两个柔性衬底2之间设置易断点5，便于镀膜工作完成后，将柔性衬底2逐一分离。这样的设置，更适合平面靶材或者曲面靶材，柔性衬底2在镀膜后可以一一断开，也可以从成卷的柔性衬底2的一端开始镀膜操作，完成镀膜的柔性衬底2则被传送到另一个卷轴上进行卷绕，或者传送至一个平台上一块覆盖一块的叠放，以上操作都便于存放，也便于下一步的操作。而如果是筒状靶材，则需要柔性衬底2随着旋转装置1被套入到筒状靶材的空心部分。这样的设置更适合加工单一柔性衬底2。如果需要加工连续的多个柔性衬底2，需要使旋转装置1具备一定的长度，并且在未镀膜的连续的柔性衬底2的一端留出空白区域，固定到另一个用于卷收已镀膜的柔性衬底2的转轴上，该转轴需要旋转并带动空白区域牵引连续的柔性衬底2以一定倾斜角度卷绕旋转装置1，进入金属粒子溅射的区域。同时，筒状靶材的筒高也应适应性加长，以更高效的完成金属粒子的溅射工作。
本实施例中，金属粒子包括钼、铝、铜、氧化铟锡粒子中的至少一种。例如，在柔性衬底2上沉积的金属膜3可以为钼-铜-钼的三层复合膜，以在镀膜后蚀刻出柔性基板所需的扫描线。还可以在柔性衬底2上沉积铜膜，以在镀膜后蚀刻出柔性基板所需的扫描线或信号线。还可以在柔性衬底上沉积氧化铟锡层，以在镀膜后蚀刻出柔性基板所需的遮光电极。金属膜3根据其溅射的金属粒子和用途不同，厚度也不同，金属膜3的厚度在300-450nm的范围内。
本实施例中，柔性衬底2的材料为聚二甲基硅氧烷(pdms)或聚亚酰胺(pi)中的一种。
本实施例中，金属粒子可以通过电磁溅射法沉积到柔性衬底2的表面。在其他实施例中，金属粒子也可以通过其他方式沉积到衬底的表面，只要能实现本发明的目的即可。
请参阅图3，是本发明柔性基板的结构示意图。如图3所示，通过上述制作方法制得的柔性基板的金属膜3位于柔性衬底2的表面。金属膜3相对于柔性衬底2而言，具有一定的硬度，柔性衬底2卷曲和展开的过程中，金属膜3可能会因为应力无法被吸收而出现断裂的现象。但是，经过以上镀膜操作后，相比直接在平坦的柔性衬底2上溅射金属粒子最明显的优势在于，金属膜3在柔性衬底2卷曲状态下完成了溅射工作，所以刚刚完成镀膜的柔性衬底2从旋转装置1上脱离后暂呈微卷状态，金属膜3靠近柔性衬底2的一面的表面面积略微小于金属膜3远离柔性衬底2的一面的表面面积，这微小的面积差，可以吸收柔性衬底2平展后或者更加卷曲时金属膜3自身的硬度带来的应力，保护金属膜3不发生断裂现象，而且也因为金属粒子的旋转溅射，形成了薄厚均匀的金属膜3，避免了厚度不均造成的柔性衬底2翘曲的现象。
另外，卷状的柔性衬底2在镀膜后，具有了一定的硬度和厚度，采用真空吸附的方式使柔性衬底2未镀膜的一面吸附在平坦基板后，相比未采用上述镀膜方式的柔性基板，不会出现柔性衬底2褶皱变形的状况，为后续的制程带来极大的便利；与传统的制程相比，大大减少了柔性基板与玻璃基板剥离时繁琐的工序，也提高了柔性基板从玻璃基板剥离的成功率。
本发明柔性基板的制作方法，适用于oled显示领域和tft-lcd显示领域。
本发明通过将柔性衬底卷绕到旋转装置上，使金属粒子在柔性衬底卷曲状态下沉积成膜，以吸收柔性基板平展后或者更加卷曲时金属膜自身的硬度带来的应力，保护金属膜不发生断裂现象，而且形成的金属膜也因为金属粒子的旋转沉积而薄厚均匀，避免了厚度不均造成的柔性衬底翘曲的现象。
以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。