一种磁控溅射沉积镍膜和氧化镍膜的方法与流程

技术总结
本发明公开了一种磁控溅射沉积镍膜和氧化镍膜的方法，通过在靶枪和镍靶中间安插一定厚度的非铁磁性的金属圆片，如铜圆片、铝圆片等，来降低镍靶的磁屏蔽效应，从而可成功地溅射沉积镍膜及氧化镍膜。本发明方法操作简单，制得的镍膜及氧化镍膜致密，且均匀性好，膜层结合较为牢固。

技术研发人员：高斐;高蓉蓉;武鑫;王昊旭;雷婕
受保护的技术使用者：陕西师范大学
技术研发日：2018.07.23
技术公布日：2018.09.14