一种安全防爆膜均匀溅射镀膜装置及该装置加工的安全防爆膜的制作方法

文档序号:18967333发布日期:2019-10-28 23:20阅读:382来源:国知局
一种安全防爆膜均匀溅射镀膜装置及该装置加工的安全防爆膜的制作方法

本实用新型涉及电容器的工艺技术领域,尤其涉及一种安全防爆膜均匀溅射镀膜装置及该装置加工的安全防爆膜。



背景技术:

电容器作为基本的电子元器件之一,在电子行业如家用电器、显示器、照明电器、通讯产品、电源及仪器、仪表等电子设备中广泛应用。常用电容按介质区分有纸介电容、云母电容、薄膜电容、陶瓷电容、电解电容等,而薄膜电容因其具有优良的特性,如体积小,质量轻、容值稳定、耐压性能好、绝缘阻抗高、频率响应宽、介质损耗小等正逐步占据越来越大的市场。

真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术,在现实生产生活中有着广泛的应用,真空镀膜技术有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。溅射镀膜通常将欲沉积的材料制成板材-靶,固定在阴极上,基面置于正对靶面的阳极上,距靶面一定的距离,系统所在的区域抽空,填充氩气作为保护气,在阴极和阳极之间加几千伏的电压,两极间即产生辉光放电。放电产生的正离子在电场作用下飞向阴极,与靶表面原理碰撞,受碰撞从靶表面溢出的靶原子称为溅射原子,其能量在1至几十电子伏范围,溅射的原子在基片的表面沉积成膜。

本实用新型主要解决的是:溅射镀膜的过程中,由于送料辊和收料辊之间拉力影响介质薄膜平整性,从而导致的溅射膜层不均一问题。



技术实现要素:

本实用新型针对现有技术的不足,提供一种安全防爆膜均匀溅射镀膜装置及该装置加工的安全防爆膜,主要解决的是:溅射镀膜的过程中,由于送料辊和收料辊之间拉力影响介质薄膜平整性,从而导致的溅射膜层不均一问题。

本实用新型通过以下技术手段实现解决上述技术问题的:

一种安全防爆膜均匀溅射镀膜装置,包括密封的矩形的壳体、送料辊和收料辊,所述壳体的内部设置有阴极靶材、阳极基片、进气圆盘和两个辊道;所述阴极靶材和阳极基片上、下平行设置,所述阴极靶材和阳极基片之间设置有所述辊道,所述阳极基片的下方设置有进气圆盘;

两个所述辊道前、后相对设置,所述辊道包括两个上滚轮和两个下滚轮,两个所述上滚轮分别与两个下滚轮上、下一一对应安装,两个所述上滚轮之间和两个下滚轮之间均设置有履带,所述上滚轮与壳体上壁之间设置有支撑杆I,所述下滚轮与壳体下壁之间设置有支撑杆II,所述支撑杆I 包括管槽I、滑竿I、弹簧I和丝杆,所述滑竿I的下端与上滚轮固接,所述管槽I的上端与壳体上壁垂直固接,所述滑竿I的上端延伸至管槽I中并与管槽I内壁之间滑动配合,所述丝杆的上端穿过壳体上壁并且与壳体上壁之间螺接配合,所述丝杆的上端设置有旋钮,所述丝杆的下端延伸至管槽I 中,所述丝杆的下端与滑杆I的上端之间设置有所述弹簧I;所述支撑杆II 包括管槽II、滑竿II和弹簧II,所述管槽II的下端垂直固定在壳体下侧壁上,所述滑竿II的上端与下滚轮固定,所述滑竿II的下端延伸至管槽II中并与管槽II内壁之间滑动配合,所述滑竿II的下端与壳体下侧壁之间设置有所述弹簧II。

优选的,所述进气圆盘下侧设置有螺纹轴,所述进气圆盘的上侧均匀设置有若干个气孔,所述螺纹轴的上端与进气圆盘的中央固接,所述螺纹轴的下端与壳体下侧壁滑动配合,所述螺纹轴的中进气通道,若干个所述气孔均与进气通道连通。

优选的,所述壳体的下侧还设置有电机和进气管,所述电机与螺纹轴通过齿轮传动配合,所述进气管延伸至进气通道中。

优选的,所述壳体的左侧壁设置有进料口,所述壳体的右侧壁设置与出料口,所述进料口和出料口水平相对安装,所述进料口与出料口的位置均设置有吸气机。

一种安全防爆膜,所述安全防爆膜采用权利要求1~4任一项所述安全防爆膜均匀溅射镀膜装置加工而成。

本实用新型的优点在于:可以保持介质薄膜的平整性,从而在溅射镀膜的过程中,镀层可以保持均一性,在送料辊和收料辊在拉扯的情况下容易出现介质受力不均匀,这里可以防止介质由于张力的影响导致镀层不均一的问题;在壳体中,进气管连通进气圆盘,通过进气圆盘释放保护气,使保护气在壳体中的散布更加均匀,所以最终的镀层厚度也更加的均一。

附图说明

图1:本实用新型正视结构示意图。

图2:本实用新型侧视结构示意图。

图3:本实用新型支撑杆I结构示意图。

图4:本实用新型支撑杆II结构示意图。

图5:本实用新型进气圆盘结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

本文中的上、下、左、右、前、后,均相对于图1所示为标准。

实施例:

如图1、图2所示:一种安全防爆膜均匀溅射镀膜装置,包括密封的矩形的壳体1、送料辊2和收料辊3,所述壳体1的内部设置有阴极靶材11、阳极基片12、进气圆盘4和两个辊道;所述阴极靶材11和阳极基片12上、下平行设置,所述阴极靶材11和阳极基片12之间设置有所述辊道,所述阳极基片12的下方设置有进气圆盘4;

两个所述辊道前、后相对设置,所述辊道包括两个上滚轮13和两个下滚轮14,两个所述上滚轮13分别与两个下滚轮14上、下一一对应安装,两个所述上滚轮13之间和两个下滚轮14之间均设置有履带5,所述上滚轮 13与壳体1上壁之间设置有支撑杆I 6,所述下滚轮14与壳体1下壁之间设置有支撑杆II 7;

如图3所示:所述支撑杆I 6包括管槽I 61、滑竿I 62、弹簧I 63和丝杆64,所述滑竿I 62的下端与上滚轮13固接,所述管槽I 61的上端与壳体1上壁垂直固接,所述滑竿I 62的上端延伸至管槽I 61中并与管槽I 61 内壁之间滑动配合,所述丝杆65的上端穿过壳体1上壁并且与壳体1上壁之间螺接配合,所述丝杆65的上端设置有旋钮66,所述丝杆65的下端延伸至管槽I 61中,所述丝杆65的下端与滑杆I 62的上端之间设置有所述弹簧I 64;

如图4所示:所述支撑杆II 7包括管槽II 71、滑竿II 72和弹簧II 73,所述管槽II 71的下端垂直固定在壳体1下侧壁上,所述滑竿II 72的上端与下滚轮14固定,所述滑竿II 72的下端延伸至管槽II 71中并与管槽II 71内壁之间滑动配合,所述滑竿II 72的下端与壳体1下侧壁之间设置有所述弹簧II 73。

如图5所示:所述进气圆盘4下侧设置有螺纹轴41,所述进气圆盘4 的上侧均匀设置有若干个气孔42,所述螺纹轴41的上端与进气圆盘4的中央固接,所述螺纹轴41的下端与壳体1下侧壁滑动配合,所述螺纹轴41 的中进气通道43,若干个所述气孔42均与进气通道43连通。

所述壳体1的下侧还设置有电机44和进气管45,所述电机44与螺纹轴41通过齿轮46传动配合,所述进气管45延伸至进气通道43中。

所述壳体1的左侧壁设置有进料口15,所述壳体1的右侧壁设置与出料口16,所述进料口15和出料口16水平相对安装,所述进料口15与出料口16的位置均设置有吸气机17。

一种安全防爆膜,所述安全防爆膜采用权利要求1~4任一项所述安全防爆膜均匀溅射镀膜装置加工而成。

整个装置的特点在于,可以保持介质薄膜的平整性,从而在溅射镀膜的过程中,镀层可以保持均一性,在送料辊和收料辊的拉扯情况下容易出现介质受力不均匀,这里可以防止介质由于张力的影响导致镀层不均一的问题。

在介质薄膜溅射镀膜的方法中,金属粒子由阴极靶材11脱粒,粒子射向阳极基片12的过程中在中间被介质薄膜拦截,并成功镀在介质薄膜上,这里阴极靶材11与介质薄膜的距离远大于阳极基片12与介质薄膜的距离,在阴极靶材11和阳极基片12之间的辊道有利于介质薄膜的平整,防止了介质薄膜两端拉力导致的介质薄膜变形的情况,其中辊道设置的两个上滚轮13和两个下滚轮14之间均设置有履带5,履带5平稳的夹持住介质薄膜平缓移动;

其中上滚轮13与壳体1上侧壁之间的支撑杆I 6和下滚轮14与壳体1 下侧壁之间设置支撑杆II 7均带有缓冲装置,可以保证不会刮伤介质薄膜,同时在支撑杆I 6上还设置有丝杆65,通过旋转丝杆65可以调整支撑杆I 6 的压力。

最后的进料口15和出料口16都设置了密封和吸气机17,保证壳体1 中不进入空气,在壳体1的底部设置有电机44,电机44带动进气圆盘4转动,保护气通过进气管45进入进气圆盘4,通过进气圆盘4表面的若干气孔42释放,保护气在壳体1中散布更加均匀,同时进气圆盘4在电机44 的带动下不断的旋转,使释放的保护气在壳体1中呈螺旋的状态,有利于溅射粒子在螺旋气流的作用下下坠,使镀膜更加均匀。

需要说明的是,在本文中,如若存在第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

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