端面7a，并对磁性金属部件3的周缘部与框架7进行点焊。
[0029]此外，也可以在将掩模用部件11接合于框架7前，将开口图案4以及掩模侧对准标记5形成于膜片6，但在该情况下，即使如上述那样向与掩模用部件11的面平行的侧面施加掩模用部件11不挠曲的程度的大小的张力，由于掩模用部件11的厚度为数ΙΟμπι那么薄，所以也会产生少许的延长。因此，在接合于框架7后，开口图案4以及掩模侧对准标记5从正规的位置偏移，而产生无法采取相对于基板的对准的情况。本发明为了解决上述的问题，其特征在于，在将掩模用部件11接合于框架7后，形成开口图案4以及掩模侧对准标记5。以下，对开口图案4以及掩模侧对准标记5的形成工序进行说明。
[0030]上述第三步骤S3为向第一贯通孔I内的与薄膜图案对应的位置的膜片6部分照射激光L而形成形状尺寸与薄膜图案相同的开口图案4，并且向第二贯通孔2内的与基板侧对准标记对应的位置的膜片6部分照射激光L而形成掩模侧对准标记5的工序。
[0031]更加详细地说，如图5 (a)所示，首先，使用波长为400nm以下的例如KrF248nm的受激准分子激光、YAG激光的第三高次谐波或者第四高次谐波，向例如左上端角部的第一贯通孔I内照射与光轴正交的剖面形状被整形为与薄膜图案相同的形状尺寸的能量密度为lj/cm2?20J/cm2的激光L，而对膜片6进行磨蚀，从而形成开口图案4。
[0032]以下，相同地，移动载置有掩模用部件11的省略图示的工作台，从而在边使激光L的照射位置以与薄膜图案的排列间距相同的间距如图5(a)中的箭头所示从左上端角部的第一贯通孔I朝向右下端角部的第一贯通孔I纵横地步进移动边在各第一贯通孔I内的膜片6的部分分别形成开口图案4后，测量所形成的各开口图案4的位置，读取各开口图案4的 XY 坐标(X1, Y1)、(X1, y2)、(X1, y3)...(xn，ym)，并将其存储于存储器。
[0033]接着，从存储器读出各开口图案4的XY坐标，并运算
[0034]Xc= Σ X i/n
[0035]ycE y j/m
[0036]，从而计算出形成有多个开口图案4的开口图案形成区域的中心位置的坐标(X。，
yc) °
[0037]接下来，如图5(b)所示，在以上述开口图案形成区域的中心位置坐标(Xc;，y。)为基准向X、Y方向分别分离预先决定的距离的第二贯通孔2内的XY坐标(xp，yq)、(xr, ys)、(xt，yu)、(xv，yw)的位置，分别激光加工掩模侧对准标记5。这样，图2所示的成膜掩模被制造。
[0038]这样，若以开口图案形成区域内的中心位置坐标(X。，yc)为基准形成掩模侧对准标记5，则基于工作台的移动机构的机械误差的开口图案4的累计误差被平均化，从而掩模侧对准标记5的形成位置精度提高。
[0039]图6是示出上述第三步骤S3的其他实施例的俯视图。
[0040]在该情况下，首先，例如在位于该图的左上端角部的第二贯通孔2内形成掩模侧对准标记5，从而边基于以该掩模侧对准标记5为基准的设计尺寸使激光L的照射位置向XY方向步进移动边对各第一贯通孔I内的膜片6部分进行激光加工，并且在其他的第二贯通孔2内的膜片6部分激光加工其他的掩模侧对准标记5。在该情况下，由于以掩模用部件11被架设于框架7的状态形成开口图案4以及掩模侧对准标记5，所以开口图案4以及掩模侧对准标记5的形成位置精度也提高。
[0041]此外，在上述实施方式中，虽对使工作台根据其机械精度来进行步进移动，从而改变激光L的照射位置而形成开口图案4的情况进行了说明，但本发明并不局限于此，也可以在与开口图案4的形成位置(设计值)对应地形成成为激光L的照射目标的基准图案的基准基板上载置掩模用部件11，边使工作台步进移动，边瞄准上述基准基板的基准图案并照射激光L，从而形成开口图案4。
[0042]另外，在以上的说明中，虽对多个第一贯通孔I具有矩形形状，并以一定间隔呈矩阵状设置于磁性金属部件3，多个开口图案4在多个第一贯通孔I内分别各形成有一个的情况进行了叙述，但本发明并不局限于此，多个第一贯通孔I也可以具有条纹状的形状，并以一定间隔平行地设置于磁性金属部件3，多个开口图案4具有条纹状的形状，并在多个第一贯通孔I内分别各形成有一个。
[0043]符号说明
[0044]1...第一贯通孔；2...第二贯通孔；3...磁性金属部件；4...开口图案；5...掩模侧对准标记；7...框架；11...掩模用部件；12...框架的开口。
【主权项】
1.一种用于在基板上成膜形成多个薄膜图案的成膜掩模的制造方法，其特征在于，进行以下步骤: 第一步骤，在该步骤中，形成使磁性金属部件与树脂制造的膜片密接了的掩模用部件，其中所述磁性金属部件在与所述多个薄膜图案以及预先设置于所述基板的多个基板侧对准标记对应的位置设置有形状尺寸比该薄膜图案以及基板侧对准标记大的多个第一贯通孔以及第二贯通孔； 第二步骤，在该步骤中，在框状的框架的一端面架设所述掩模用部件，并在该框架的一端面接合所述磁性金属部件的周缘部，其中在所述框状的框架设置有内含所述磁性金属部件的多个所述第一贯通孔以及第二贯通孔的大小的开口 ；以及 第三步骤，在该步骤中，向所述第一贯通孔内的与所述薄膜图案对应的位置的所述膜片部分照射激光而形成形状尺寸与所述薄膜图案相同的开口图案，并且向所述第二贯通孔内的与所述基板侧对准标记对应的位置的所述膜片部分照射激光而形成掩模侧对准标记。
2.根据权利要求1所述的成膜掩模的制造方法，其特征在于， 在所述第三步骤进行以下步骤: 边使所述激光的照射位置步进移动预先决定的距离边在多个所述第一贯通孔内的所述膜片部分分别形成开口图案并读取XY平面内的各开口图案的坐标且将其保存的步骤、 读出所述被保存的所述各开口图案的坐标并计算出平均值从而计算出形成有多个所述开口图案的开口图案形成区域内的中心位置坐标的步骤、以及 在以所述计算出的中心位置坐标为基准分离一定距离的所述第二贯通孔内的位置形成所述掩模侧对准标记的步骤。
3.根据权利要求1所述的成膜掩模的制造方法，其特征在于， 在所述第三步骤进行以下步骤: 在多个所述第二贯通孔中被选择出的一个第二贯通孔内的所述膜片部分形成所述掩模侧对准标记的步骤、以及 以所形成的所述掩模侧对准标记为基准边使所述激光的照射位置步进移动预先决定的距离边在多个所述第一贯通孔内的膜片部分分别形成所述开口图案并且在其他的所述第二贯通孔内的膜片部分形成其他的掩模侧对准标记的步骤。
4.根据权利要求1?3中任一项所述的成膜掩模的制造方法，其特征在于， 多个所述第一贯通孔具有矩形形状，并以一定间隔呈矩阵状设置于所述磁性金属部件，多个所述开口图案在多个所述第一贯通孔内分别各形成有一个。
5.根据权利要求1?3中任一项所述的成膜掩模的制造方法，其特征在于， 多个所述第一贯通孔具有条纹状的形状，并以一定间隔平行地设置于所述磁性金属部件，多个所述开口图案具有条纹状的形状，并在多个所述第一贯通孔内分别各形成有一个。
6.一种成膜掩模， 其通过权利要求1?3中任一项所述的制造方法被制造而成。
7.一种成膜掩模， 其通过权利要求4所述的制造方法被制造而成。
8.一种成膜掩模， 其通过权利要求5所述的制造方法被制造而成。
【专利摘要】本发明提供一种成膜掩模的制造方法以及成膜掩模。该成膜掩模的制造方法进行以下步骤：形成使磁性金属部件与树脂制造的膜片密接了的掩模用部件的步骤，其中所述磁性金属部件在与基板上的多个薄膜图案以及多个基板侧对准标记对应的位置设置有多个第一贯通孔以及第二贯通孔；在框状的框架的一端面架设上述掩模用部件并在该框架的一端面接合上述磁性金属部件的周缘部的步骤；以及向上述第一贯通孔内的膜片部分照射激光而形成形状尺寸与薄膜图案相同的开口图案并且向上述第二贯通孔内的上述膜片部分照射激光而形成掩模侧对准标记的步骤。
【IPC分类】C23C14-04
【公开号】CN104781443
【申请号】CN201380059305
【发明人】水村通伸
【申请人】株式会社V技术
【公开日】2015年7月15日
【申请日】2013年10月29日
【公告号】US20150246416, WO2014077124A1