磁控溅射镀膜机的制作方法_2

文档序号:8484232阅读:来源:国知局
第二方向导轮142b的导轮板142c。如图10和11所示,所述第二方向传送装置142包括多个第二方向导轮142b,所述基片架20的横向导轨29a和纵向导轨29b分别对应于第一方向导轮141a和第一方向导轮142b并能沿着相对应的导轮滑动。
[0029]另外,过渡室14内还设有靠近升降装置140且与第一方向导轮141a在同一路线上的第一方向过渡导轮143 (参阅图8),以及靠近升降装置140并与第二方向导轮142a在同一路线上的第二方向过渡导轮145(参阅图10),图8中显示有安装第二方向过渡导轮145的安装板145a,图10中显示有安装第一方向过渡导轮143的安装板143a。此外,所述过渡室14内还设有定位测量系统,用于使所述基片架20进入过渡室14时定位于升降装置140的第一方向传送装置141上预定位置。例如,当基片架20由进片室11进入过渡到14,到达升降装置140上的第一方向导轮141a上时,通过定位测量系统将其固定于预定位置,即为与第二方向导轮142b对准的位置。
[0030]进一步地,进片室11与出片室15内分别具有进片传送装置和出片传送装置,进片传送装置和出片传送装置分别包括沿进/出片室传送方向设置的多个进片导轮和多个出片导轮,多个进片导轮、多个出片导轮以及第一方向导轮141a位于同一水平面,而且与第一方向过渡导轮143也处于同一水平面上,更进一步地,多个进片导轮、多个出片导轮以及第一方向导轮141a和第一方向过渡导轮143相配合构成传送基片架20的导轨路线,至少有两条轨道线。每个镀膜室12、13内分别具有各自的镀膜传送装置,每个镀膜传送装置包括沿着镀膜室传送方向设置的多个镀膜传送导轮,各镀膜室内的镀膜传送导轮与第一方向导轮142b位于同一水平面,而且与第二方向过渡导轮145也处于同一水平面上,更进一步地,镀膜传送导轮与第一方向导轮142b以及第二方向过渡导轮145相配合构成在镀膜室12、13与过渡室14之间往复传送基片架20的导轨路线,至少有两条轨道线。这样,当需要在两个镀膜室12、13中往复进行镀膜,每个镀膜室12、13镀两次以上时,在这个水平面上的三个室内的导轨连接成如同铁路一样的往复轨道线,可以直接随时在过渡室14和两个镀膜室12、13这三个室内往复地输送基片架20,无需中间传送和调节等操作,方便多次镀膜,且一个镀膜室镀膜操作时,另一个更换靶材备用。
[0031]具体地,所述第一方向传送装置141、第二方向传送装置142、进片传送装置、出片传送装置以及各镀膜传送装置中的每个传送装置分别具有传送控制系统。以上各个传送装置的结构与装片、卸片传送装置的结构类似,导轮和传动轴以及控制装置的结构和排列方式以及驱动方式基本相同。以第一方向传送装置141的结构为例,第一方向传送装置141的传送控制系统包括动力装置(如电机,图未示)以及受动力装置驱动的传动轴141b,第一方向传送装置141的多个第一方向导轮141a至少有两排导轮,每排有至少两个导轮并间隔地套设于一转轴141c上,每个传动轴141b上对应于每排转轴一侧设有主动轮141d,每排的转轴一端设有受主动轮带动的从动轮141e。
[0032]此外,第一镀膜室12和第二镀膜室13内各有加热装置、带靶材的阴极系统、抽气系统以及控制系统等。进片室11和出片室15内也分别具有控制系统以及真空系统。
[0033]如图1和8-11所示,镀膜时,基片25置于基片架20上,基片架20置于装片台16的导轮162上,通过导轮162传送到进片室11,再由进片室11的传送装置送到过渡室14的第一方向导轮141a,基片架20位置对准后,升降装置140下降,使基片架20的纵向导轨29b落在第二方向导轮142a上,再由其传送到第一镀膜室12的传送装置上,并定位好,即可以该镀膜室12内进行镀膜,而后基片架20再通过镀膜传送装置传送到过渡室14的第二方向导轮142a,再由其传送到第二镀膜室13的传送装置上,在第二镀膜室13中进行镀膜,镀好膜层后再传回到过渡室14内,如需要进行两层以上镀膜,基片架20通过第二方向导轮142a以及两个镀膜室内的导轮来回传动,完成所有镀膜后,停留在过渡室14内固定位置,升降装置140使基片架20上升到进出片室方向传送装置后,通过进出片室方向传送装置送基片架20至出片室15,再送到卸片台17上,再通过其它装置收集镀好膜的基片25,即完成整个镀膜操作。
[0034]上述磁控溅射镀膜机具有两个以上镀膜室12、13,各镀膜室12、13之间分别连通于过渡室14,通过过渡室14作为中间过渡,基片在其中一个镀膜室经过镀膜后,转入过渡室14再送入下一个镀膜室进行镀膜,直到基片上镀有全部所需膜层。这样可以充分利用过渡室14,一个镀膜机10中进行多种膜材的镀膜操作,全程所有膜层的镀膜连续化进行,镀膜操作按步有序进行,提高生产节拍和生产效率。而且,镀膜机用一套进片室11和出片室15,降低生产成本,提高生产效率,过渡室14可衔接所需的镀膜室,设备灵活性高。
[0035]需要说明的是,本发明并不局限于上述实施方式,根据本发明的创造精神,本领域技术人员还可以做出其他变化,这些依据本发明的创造精神所做的变化,都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
【主权项】
1.一种磁控溅射镀膜机,其包括进片室、镀膜室、过渡室、出片室以及用于承载镀膜基片的基片架,其特征在于,所述镀膜室包括两个以上镀膜室,所述过渡室具有进料端和出料端,所述进片室衔接于过渡室的进料端以将基片架送到过渡室,所述出片室衔接于过渡室的出料端以接收过渡室送出的基片架,每个镀膜室分别连通于所述过渡室,所述过渡室用于将基片架在各镀膜室之间切换,使每个镀膜室分别对基片架上的基片进行镀膜。
2.如权利要求1所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,所述基片架底部设有双边正交导轨,所述双边正交导轨包括横向导轨和纵向导轨。
3.如权利要求2所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,所述镀膜室包括第一镀膜室和第二镀膜室,所述进片室与出片室位于过渡室相对两侧,所述第一镀膜室和第二镀膜室位于过渡室的另一相对两侧,所述过渡室内设有升降装置以及安装于升降装置顶部的第一方向传送装置,所述过渡室内还设有第二方向传送装置,所述第一方向传送装置和所述第二方向传送装置之间有高度差,通过升降装置的升降及其上的传送装置的传送操作将基片架在镀膜室与进片室或出片室之间切换,所述第一方向传送装置的第一方向为进/出片室传送方向、镀膜室传送方向中的一个,则所述第二方向传送装置的第二方向为进/出片室传送方向、镀膜室传送方向中的另一个。
4.如权利要求3所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,所述第一方向传送装置包括多个第一方向导轮,所述第二方向传送装置包括多个第二方向导轮,所述基片架的横向导轨和纵向导轨分别对应于第一方向导轮和第二方向导轮并能沿着相对应的导轮滑动。
5.如权利要求4所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,所述过渡室内还设有靠近升降装置且与第一方向导轮在同一路线上的第一方向过渡导轮,以及靠近升降装置并与第二方向导轮在同一路线上的第二方向过渡导轮。
6.如权利要求4所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,所述过渡室内还设有定位测量系统,用于使所述基片架进入过渡室时定位于升降装置的第一方向传送装置上预定位置。
7.如权利要求4所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,所述进片室与出片室内分别具有进片传送装置和出片传送装置,所述进片传送装置和出片传送装置分别包括沿进/出片室传送方向设置的多个进片导轮和多个出片导轮,所述多个进片导轮、多个出片导轮与多个第一方向导轮位于同一水平面,每个镀膜室内分别具有各自的镀膜传送装置,每个镀膜传送装置包括沿着镀膜室传送方向设置的多个镀膜传送导轮,各镀膜室内的镀膜传送导轮与多个第二方向导轮位于同一水平面。
8.如权利要求7所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,所述第一方向传送装置、第二方向传送装置、进片传送装置、出片传送装置以及各镀膜传送装置中的每个传送装置分别具有传送控制系统,每个传送控制系统包括动力装置以及受动力装置驱动的传动轴,每个传送装置的多个导轮至少有两排导轮,每排有至少两个导轮并间隔地套设于一转轴上,每个传动轴上对应于每排转轴一侧设有主动轮,每排的转轴一端设有受主动轮带动的从动轮。
9.如权利要求2所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,所述基片架包括四面围合中间镂空的框架,所述框架限定镂空区域的内侧边缘设有台阶用于放置基片,所述框架在靠近台阶的周边位置设有用于垫基片的塑胶垫块以及对基片定位的塑胶定位块,所述镂空区域装设有可调滑块,所述框架对边分别设有滑槽,所述可调滑块的两端可滑动地安装于滑槽中。
10.如权利要求8所述的磁控溅射镀膜机,其特征在于,在所述进片室的进料侧设有装片台,在所述出片室的出料侧设有卸片台,所述装片台设有装片传送装置和装片控制系统,所述卸片台设有卸片传送装置和卸片控制系统,所述装片传送装置和卸片传送装置分别包括支撑并传送基片架的多个导轮,所述装片控制系统和卸片控制系统分别用于驱动所述多个导轮滚动以传送基片架,所述装片传送装置和卸片传送装置的多个导轮与所述第一方向传送装置、第二方向传送装置、进片传送装置、出片传送装置以及各镀膜传送装置中的各传送装置的导轮结构和排列方式相同,所述装片控制系统和卸片控制系统和各个室内的传送控制系统的结构和驱动方式相同。
【专利摘要】本发明涉及一种磁控溅射镀膜机,其包括进片室、镀膜室、过渡室、出片室以及用于承载镀膜基片的基片架,所述镀膜室包括两个以上镀膜室,所述过渡室具有进料端和出料端,所述进片室衔接于过渡室的进料端以将基片架送到过渡室,所述出片室衔接于过渡室的出料端以接收过渡室送出的基片架,每个镀膜室分别连通于所述过渡室,所述过渡室用于将基片架在各镀膜室之间切换,使每个镀膜室分别对基片架上的基片进行镀膜。上述镀膜机用一个过渡室连通两个以上镀膜室,充分利用过渡室过渡,连续地在一个镀膜机中进行多种膜材的镀膜操作,提高生产节拍和生产效率,降低生产成本。
【IPC分类】C23C14-35
【公开号】CN104805410
【申请号】CN201510191812
【发明人】徐旻生, 庄炳河, 王应斌, 龚文志, 李辉龙, 崔汉夫, 李永杰, 张亮, 张勇军
【申请人】爱发科豪威光电薄膜科技(深圳)有限公司
【公开日】2015年7月29日
【申请日】2015年4月21日
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