0nm的层。在形成这些DLC层之后，停止向真空装置内的乙炔 气体和Ar气体的导入，在保持真空装置内的真空的状态下进行冷却，其后放空，取出基材。
[0173] 如此操作，制作如图16示意性所示的具有构成为基材/0.7 ym的第一低氢含量层 (氢含量=15. 0原子％ )/0.1 ym的中间层（氢含量=随着远离基材从15. 0原子％增加 至24. 0原子％ )/0. 2 ym的第二低氢含量层（氢含量=24. 0原子％ )/0. 03 ym的倾斜层 (氢含量=随着远离基材从24. 0原子％增加至68. 0原子％ ) /50nm的最表面层（氢含量= 68.0原子％ )的装饰品。将光谱反射率的测定结果示于图17,将黑色硬质覆膜的硬度、装 饰品的L*的测定结果示于表1。
[0174] [实施例6]
[0175] 首先，进行与实施例1的第一处理同样的处理，接着在真空装置内导入作为非活 性气体的Ar气体以及作为原料气体的乙炔气体，将装置内压力保持为LOPa之后，利用等 离子体CVD法分解乙炔气体，在基材上形成DLC层。在形成DLC层时，首先以偏压5kV形成 0. 8 ym的层，接着以偏压IkV形成0.2 ym的层，最后以偏压100V形成膜厚50nm的层。在 形成这些DLC层之后，停止向真空装置内的乙炔气体和Ar气体的导入，在保持真空装置内 的真空的状态下进行冷却，其后放空，取出基材。
[0176] 如此操作，制作如图18示意性所示的具有构成为基材/0. 8 ym的第一低氢含量层 (氢含量=15. 0原子％ )/0? 2 y m的第二低氢含量层（氢含量=24. 0原子％ )/50nm的高 氢含量层（氢含量=68. 0原子％ )的装饰品。将光谱反射率的测定结果示于图19,将黑色 硬质覆膜的硬度、装饰品的L*的测定结果示于表1。
[0177] [比较例1]
[0178] 首先，进行与实施例1的第一处理同样的处理，接着在真空装置内导入作为非活 性气体的Ar气体以及作为原料气体的乙炔气体，将装置内压力保持为LOPa之后，利用等 离子体CVD法分解乙炔气体，对基材施加偏压3kV，从而形成膜厚0. 8 y m的DLC层。在DLC 层形成之后，停止向真空装置内的乙炔气体和Ar气体的导入，在保持真空装置内的真空的 状态下进行冷却，其后放空，取出基材。
[0179] 如此操作，制作如图20示意性所示的具有构成为基材/0.8 ym的低氢含量层（氢 含量=20. 0原子％ )的装饰品。将光谱反射率的测定结果示于图21，将黑色硬质覆膜的硬 度、装饰品的L*的测定结果示于表1。
[0180] [表 1]
[0182] 需要说明的是，在实施例1~5、比较例1中没有看到干涉色，但在实施例6中看到 了干涉色。
[0183] 另外，在实施例1~6、比较例1中，使用预先求得的〈偏压和氢含量的关系〉以 及〈覆膜形成时间和膜厚的关系〉来制作黑色硬质覆膜，但对于实施例1，通过RBS测定来 实际测定制得的黑色硬质覆膜的氢含量和厚度（图22)。该实测值满足上述〈偏压和氢含 量的关系〉以及〈覆膜形成时间和膜厚的关系〉。需要说明的是，图22中，用虚线表示的 Si为基材，远离基材表面、与偏压的减少对应地，用点划线表示的碳量减少，用实线表示的 氢量增加。
[0184] 附图标iP,说明
[0185] 10 :装饰品
[0186] 11 :基材
[0187] 12:黑色硬质覆膜
[0188] 20 :装饰品
[0189] 21 :基材
[0190] 22 :黑色硬质覆膜
[0191] 23 :低氢含量层
[0192] 26 :倾斜层
[0193] 201 :低氢含量层的倾斜层侧的表面
[0194] 202 :倾斜层的低氢含量层侧的表面
[0195] 30 :装饰品
[0196] 31 :基材
[0197] 32 :黑色硬质覆膜
[0198] 33 :第一低氢含量层
[0199] 34 :第二低氢含量层
[0200] 35:中间层
[0201] 36:倾斜层
[0202] 37 :最表面层
[0203] 301 :第一低氢含量层的倾斜层侧的表面
[0204] 302 :中间层的第一低氢含量层侧的表面
[0205] 303 :中间层的第二低氢含量层侧的表面
[0206] 304 :第二低氢含量层的中间层侧的表面
[0207] 305 :第二低氢含量层的倾斜层侧的表面
[0208] 306 :倾斜层的第二低氢含量层侧的表面
[0209] 307 :倾斜层的背对基材侧一侧的表面
【主权项】
1. 一种装饰品，其特征在于，其是具有基材和形成于所述基材上的由类金刚石形成的 黑色硬质覆膜的装饰品， 所述黑色硬质覆膜的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量大于所述黑色硬质覆膜 的所述基材侧的表面处的氢含量，所述黑色硬质覆膜的背对所述基材侧一侧的表面处的氢 含量为30.0 ~75. O原子％。2. 根据权利要求1所述的装饰品，其特征在于， 所述黑色硬质覆膜包含由类金刚石形成的倾斜层， 所述倾斜层中的氢含量随着远离所述基材而增加， 所述倾斜层的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量为30. 0~75. 0原子％。3. 根据权利要求2所述的装饰品，其特征在于， 所述黑色硬质覆膜还包含在比所述倾斜层靠所述基材侧的位置形成的、由类金刚石形 成的低氢含量层， 所述低氢含量层中的氢含量小于30. 0原子％。4. 根据权利要求3所述的装饰品，其特征在于，从所述基材侧依次形成有所述低氢含 量层和所述倾斜层，所述低氢含量层的所述倾斜层侧的表面处的氢含量和所述倾斜层的所 述低氢含量层侧的表面处的氢含量为相同量。5. 根据权利要求3所述的装饰品，其特征在于， 所述黑色硬质覆膜层包含作为所述低氢含量层的第一低氢含量层和第二低氢含量层， 并且还包含由类金刚石形成的中间层， 从所述基材侧依次形成有所述第一低氢含量层、所述中间层、所述第二低氢含量层以 及所述倾斜层， 所述第一低氢含量层中的氢含量小于所述第二低氢含量层中的氢含量， 所述中间层中的氢含量随着远离所述基材而增加， 所述第一低氢含量层的所述中间层侧的表面处的氢含量和所述中间层的所述第一低 氢含量层侧的表面处的氢含量为相同量，所述中间层的所述第二低氢含量层侧的表面处的 氢含量和所述第二低氢含量层的所述中间层侧的表面处的氢含量为相同量，所述第二低氢 含量层的所述倾斜层侧的表面处的氢含量和所述倾斜层的所述第二低氢含量层侧的表面 处的氢含量为相同量。6. 根据权利要求2~5中任一项所述的装饰品，其特征在于， 所述黑色硬质覆膜还包含形成在所述倾斜层的背对所述基材侧一侧的、由类金刚石形 成的最表面层， 所述最表面层中的氢含量相对于所述倾斜层的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含 量为± 10. 0原子％的量。7. 根据权利要求1所述的装饰品，其特征在于，所述黑色硬质覆膜中的氢含量随着远 离所述基材而增加。8. -种装饰品的制造方法，其特征在于，其是具有基材和形成于所述基材上的由类金 刚石形成的黑色硬质覆膜的装饰品的制造方法， 其包括利用等离子体CVD法来形成所述黑色硬质覆膜的黑色硬质覆膜形成工序， 所述黑色硬质覆膜形成工序中，以如下方式形成所述黑色硬质覆膜：所述黑色硬质覆 膜的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量大于所述黑色硬质覆膜的所述基材侧的表面 处的氢含量相比，所述黑色硬质覆膜的背对所述基材侧一侧的表面处的氢含量为30.0 ~ 75. 0原子％。
【专利摘要】[课题]提供一种装饰品，其具有极好地抑制随着使用的划痕等外观品质的降低且装饰性优异的黑色硬质覆膜。[解决方案]本发明的装饰品的特征在于，其是具有基材和形成于上述基材上的由类金刚石形成的黑色硬质覆膜的装饰品，上述黑色硬质覆膜的背对上述基材侧一侧的表面处的氢含量大于上述黑色硬质覆膜的上述基材侧的表面处的氢含量，上述黑色硬质覆膜的背对上述基材侧一侧的表面处的氢含量为30.0～75.0原子％。
【IPC分类】A44C25/00, C23C16/50, A44C1/00, C23C16/27
【公开号】CN105102674
【申请号】CN201480018003
【发明人】田中敦
【申请人】西铁城控股株式会社, 西铁城时计株式会社
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2014年3月19日
【公告号】WO2014156884A1