一种有机蒸镀mask的清洗工艺的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明属于OLED加工领域，具体涉及一种有机蒸镀MASK的清洗工艺。
【背景技术】
[0002]目前，有机蒸镀MASK是有机发光器件制造工艺中所必须使用的工装。加工中，一般采用SUS304TA薄板材料通过刻蚀制作图形孔，再用激光焊接固定在不易变形的方形或圆形框架上。
[0003]现有技术中，有机镀膜过程是将有机材料热蒸发形成有机蒸汽，有机蒸气通过MASK上的图形孔，理论上可在基底上沉积与图形孔形状一致的有机膜层。有机热蒸汽同时也会沉积在MASK上，逐渐改变图形孔形状，甚至堵塞图形孔。所以必须定期清洗有机蒸镀MASK。因此提供一种防堵塞、MASK可以反复使用，同时也保证了再次使用MASK的镀膜精确性能的有机蒸镀MASK的清洗工艺，成为目前OLED加工领域中刻不容缓的事情。
【发明内容】
[0004]为此，本发明所要解决的技术问题在于克服现有技术有机蒸镀MASK容易沉积塞孔的、图形容易变形的技术瓶颈，从而提出提供一种防堵塞、MASK可以反复使用，同时也保证了再次使用MASK的镀膜精确性能的有机蒸镀MASK的清洗工艺。
[0005]为解决上述技术问题，本发明的技术方案为:
[0006]本发明公开了一种有机蒸镀MASK的清洗工艺，所述工艺包括如下步骤:
[0007]将有机蒸镀MASK框架固定在清洗架上，放入N-甲基吡咯烷酮液体中，流动循环加热浸泡后，取出MASK框架，然后用去混有异丙醇的去离子水浸泡并进行兆声清洗，最后进行去离子水冲洗。
[0008]优选的，所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其中，所述有机蒸镀MASK框架是通过有机MASK四周固定框上的预制螺孔将其与清洗架用特氟龙螺栓连接的。
[0009]更为优选的，所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其中，所述清洗架为特氟龙材质。
[0010]优选的，所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其中，所述流动循环加热浸泡的加热温度为60°C。
[0011]更为优选的，所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其中，所述流动循环加热浸泡的浸泡时间30分钟。
[0012]进步一步的，所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其中，所述混有异丙醇的去离子中，去离子水和异丙醇的体积比例10:1。
[0013]更为进一步的，所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其中，所述兆声清洗的兆声频率850KHz。
[0014]优选的，所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其中，所述兆声清洗的清洗时间2min。
[0015]更为优选的，所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其中，所述去离子水冲洗后还需对所述有机蒸镀MASK框架进行氮气保护烘干。
[0016]本发明的上述技术方案相比现有技术具有以下优点，本发明主要在于通过化学溶解和物理振动清洗的方式去除OLED蒸镀MASK上的有机工艺残留物，可避免整个清洗过程中MASK直接与其它固体接触造成损坏，在清洗过程中不会影响MASK的精细结构，使得MASK可以反复使用，同时也保证了再次使用MASK的镀膜精确性能。使用兆声波清洗不仅保存了超声清洗的优点，还能够去除0.1微米级的固体附着颗粒，具有极大的市场价值和应用前景。
【具体实施方式】
[0017]实施例
[0018]本实施例公开了一种有机蒸镀MASK的清洗工艺，所述工艺包括如下步骤:
[0019]1.MASK装架:通过有机MASK四周固定框上的预制螺孔将其与特氟龙清洗架用特氟龙螺栓连接，将有机蒸镀MASK框架固定在特氟龙材质的清洗架上，可避免整个清洗过程中MASK直接与其它固体接触造成损坏。
[0020]2.加热溶剂浸泡:清洗架连同有机MASK放入N-甲基吡咯烷酮液体中，将溶液流动循环加热到60°C，浸泡时间30分钟。N-甲基吡咯烷酮为无色透明液体，沸点203°C，闪点95°C，能与水混溶，溶于乙醚，丙酮，化学性能稳定，对钢、铝不腐蚀。具有粘度低，化学稳定性和热稳定性好，极性高，挥发性低，能与水及许多有机溶剂无限混溶。
[0021]3.兆声化学清洗:清洗架连同有机MASK—起放入兆声清洗机，用去离子水加异丙醇浸泡进行兆声清洗，溶剂体积比例10:1，兆声频率8501(取，清洗时间2min。兆声波清洗不仅保存了超声清洗的优点，能够去除0.1微米级的固体附着颗粒，由高频振效应并结合化学清洗剂的化学反应对MASK进行清洗。
[0022]4.冲洗烘干:清洗架连同有机MASK —起放入清洗湿台，用去离子水冲洗I分钟，并用高压洁净氮气吹干，最后放入氮气保护烘箱，70°C烘烤Ih。
[0023]显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
【主权项】
1.一种有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述工艺包括如下步骤: 将有机蒸镀MASK框架固定在清洗架上，放入N-甲基吡咯烷酮液体中，流动循环加热浸泡后，取出MASK框架，然后用去混有异丙醇的去离子水浸泡并进行兆声清洗，最后进行去离子水冲洗。2.如权利要求1所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述有机蒸镀MASK框架是通过有机MASK四周固定框上的预制螺孔将其与清洗架用特氟龙螺栓连接的。3.如权利要求2所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述清洗架为特氟龙材质。4.如权利要求3所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述流动循环加热浸泡的加热温度为60°C。5.如权利要求4所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述流动循环加热浸泡的浸泡时间30分钟。6.如权利要求5所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述混有异丙醇的去离子中，去离子水和异丙醇的体积比例10:1。7.如权利要求6所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述兆声清洗的兆声频率 850KHz。8.如权利要求7所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述兆声清洗的清洗时间2min。9.如权利要求1-8任一项所述的有机蒸镀MASK的清洗工艺，其特征在于，所述去离子水冲洗后还需对所述有机蒸镀MASK框架进行氮气保护烘干。
【专利摘要】本发明属于OLED加工领域，具体涉及一种有机蒸镀MASK的清洗工艺。本发明所述工艺将有机蒸镀MASK框架固定在清洗架上，放入N-甲基吡咯烷酮液体中，流动循环加热浸泡后，取出MASK框架，然后用去混有异丙醇的去离子水浸泡并进行兆声清洗，最后进行去离子水冲洗。通过化学溶解和物理振动清洗的方式去除OLED蒸镀MASK上的有机工艺残留物，在清洗过程中不会影响MASK的精细结构，使得MASK可以反复使用，同时也保证了再次使用MASK的镀膜精确性能，具有极大的市场价值和应用前景。
【IPC分类】C23C14/04
【公开号】CN105154821
【申请号】CN201510464112
【发明人】谭高杰
【申请人】深圳市星火辉煌系统工程有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年7月31日