一种电极箔的传动热处理装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种电极箔的传动热处理装置。
【背景技术】
[0002]在电极箔的生产过程中，传动辊在运行过程中，电极箔带有一定的腐蚀槽内的液体沿着辊筒面流到辊筒端头及辊轴上，辊轴一段时间后会严重腐蚀，会掉落铁锈至槽内，一般电极箔在腐蚀完成后会进入热处理炉进行处理，由于电极箔在热处理过程中会由于重力引起下垂，因此很容易导致电极箔出现荷叶边。
【发明内容】
[0003]本实用新型的目的是为了克服以上的不足，提供一种可以有效防止辊轴被腐蚀以及腐蚀液滴落的问题，可以防止电极箔产生荷叶边的电极箔的传动热处理装置。
[0004]本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:一种电极箔的传动热处理装置，包括传动装置和热处理装置，传动装置置于热处理装置，传动装置包括传动辊、辊轴，传动辊的两端为用于连接的辊轴，两个辊轴上均套有与传动辊外径相同的隔液套，传动辊的两端外圆周上均开有溢流槽，热处理装置包括热处理炉，热处理炉的底部开有多个通气孔，热处理炉的一侧设有热气循环泵，热气循环泵通过通气管与多个通气孔相通。
[0005]本实用新型的进一步改进在于:所述传动棍的宽度小于电极箔宽度20?30mm。
[0006]本实用新型与现有技术相比具有以下优点:通过在辊轴上套隔液套，可以有效防止电极箔腐蚀辊轴，通过在传动辊上开设溢流槽，可以有效防止液体流至辊端面及轴上，达到双重保障的作用，在热处理时，通过热气循环泵持续不断的给热处理过程中电极箔提供热风气流，气流的托力使电极箔在处于悬浮平整状态下进行热处理。
[0007]【附图说明】:
[0008]图1为本实用新型的结构示意图；
[0009]图2为热处理装置的结构示意图；
[0010]图中标号:1-传动装置、2-热处理装置、101-传动辊、102-辊轴、103-隔液套、104-溢流槽、201-热处理炉、202-热气循环泵、203-通气管、3-电极箔。
[0011]【具体实施方式】:
[0012]为了加深对本实用新型的理解，下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步详述，该实施例仅用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型保护范围的限定。
[0013]如图1和图2示出了本实用新型一种电极箔的传动热处理装置的【具体实施方式】，包括传动装置I和热处理装置2，传动装置I置于所述热处理装置2，传动装置I包括传动辊101、辊轴102，传动辊101的两端为用于连接的辊轴102，两个辊轴102上均套有与所述传动辊101外径相同的隔液套103，传动辊101的两端外圆周上均开有溢流槽104，热处理装置2包括热处理炉201，热处理炉201的底部开有多个通气孔，热处理炉201的一侧设有热气循环泵202，热气循环泵202通过通气管203与多个通气孔相通，本实用新型优选传动辊101的宽度小于电极箔3宽度20?30mm。
[0014]本实用新型通过在辊轴102上套隔液套103，可以有效防止电极箔腐蚀辊轴，通过在传动辊101上开设溢流槽104，可以有效防止液体流至辊端面及轴上，达到双重保障的作用，在热处理时，通过热气循环泵202持续不断的给热处理过程中电极箔提供热风气流，气流的托力使电极箔3在处于悬浮平整状态下进行热处理。
【主权项】
1.一种电极箔的传动热处理装置，包括传动装置(I)和热处理装置(2)，所述传动装置(I)置于所述热处理装置(2)，其特征在于:所述传动装置(I)包括传动辊(101)、辊轴(102)，所述传动辊(101)的两端为用于连接的辊轴(102)，两个所述辊轴(102)上均套有与所述传动辊(101)外径相同的隔液套(103)，所述传动辊(101)的两端外圆周上均开有溢流槽(104)，所述热处理装置(2)包括热处理炉(201)，所述热处理炉(201)的底部开有多个通气孔，所述热处理炉(201)的一侧设有热气循环泵(202)，所述热气循环泵(202)通过通气管(203)与多个通气孔相通。
2.根据权利要求1所述一种电极箔的传动热处理装置，其特征在于:所述传动辊(101)的宽度小于电极箔(3)宽度20?30mmo
【专利摘要】本实用新型涉及一种电极箔的传动热处理装置，包括传动装置和热处理装置，传动装置置于热处理装置，传动装置包括传动辊、辊轴，传动辊的两端为用于连接的辊轴，两个辊轴上均套有与传动辊外径相同的隔液套，传动辊的两端外圆周上均开有溢流槽，热处理装置包括热处理炉，热处理炉的底部开有多个通气孔，热处理炉的一侧设有热气循环泵，热气循环泵通过通气管与多个通气孔相通。本实用新型具有可以有效防止辊轴被腐蚀以及腐蚀液滴落的问题，可以防止电极箔产生荷叶边的优点。
【IPC分类】C21D9-46
【公开号】CN204490956
【申请号】CN201520137507
【发明人】严季新, 王建中
【申请人】南通海星电子股份有限公司, 南通海一电子有限公司
【公开日】2015年7月22日
【申请日】2015年3月11日