一种钽酸锂芯片的研磨装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体芯片制造领域，具体涉及一种钽酸锂芯片的研磨装置。
【背景技术】
[0002]钽酸锂是一种重要的具有多功能压电、铁电和电光、声光、非线性、光折变及激光活性等特点的晶体材料，是一种光学性能多、综合指标好的人工晶体。
[0003]钽酸锂芯片可用于红外热释电探测器的敏感层，而用于人体红外感应传感器原器件的，钽酸锂芯片的厚度要求是在0.05mm以下。
[0004]通常加工的方法是采用研磨，在研磨时，厚度测量必须要停机后将研磨的芯片全部取下进行厚度测量，测量后再重新上盘研磨。由于芯片此时非常薄，数量多，在取片和上盘的过程中，费时费力，芯片极易碎裂，并且在研磨过程中要多次测量，研磨时间控制不好还会研磨过头(即比标准规定的还薄)。
[0005]所以，用于红外热释电探测器的敏感层的钽酸锂芯片的研磨的成品率比较低，且加工成本高。
[0006]因此，设计一种新型的研磨装置，能提高钽酸锂芯片的研磨的成品率，且加工成本低，是本领域需要解决的技术问题。
【实用新型内容】
[0007]本实用新型要解决的技术问题:设计一种新型的研磨装置，能提高钽酸锂芯片的研磨的成品率，且加工成本低。
[0008]为达到上述目的，本实用新型的技术方案如下:
[0009]一种钽酸锂芯片的研磨装置，包括机台，所述机台上设有可转动的下研磨盘，所述下研磨盘为圆形；所述下研磨盘上设有能转动的上研磨盘，所述上研磨盘也为圆形，且直径与所述下研磨盘一致；所述上研磨盘的转动轴心与所述下研磨盘一致，但转动方向相反；所述机台还设有频率监测装置，所述上研磨盘的上端面设有多个供所述频率监测装置的探测头伸入的通孔，所述频率监测装置与驱动所述下研磨盘和上研磨盘的电机电气连接。
[0010]优选的，所述下研磨盘还放置有多个厚度小于所述钽酸锂芯片的游星轮。
[0011]优选的，驱动所述下研磨盘和上研磨盘的电机为步进电机。
[0012]优选的，所述通孔的直径为4?6mm。
[0013]优选的，所述下研磨盘的上下位置可调。
[0014]通过上述技术方案，本实用新型的一种钽酸锂芯片的研磨装置，设置了一个能双面研磨的下研磨盘和上研磨盘，下研磨盘和上研磨盘以相反的方向转动，这样提高了研磨的速度，为了准确控制钽酸锂芯片的厚度，设置了一个频率监测装置(钽酸锂芯片自身的频率与其厚度有严格的函数关系，为一一对应的)，通过实时监控钽酸锂芯片的频率，就可以知道钽酸锂芯片实时的厚度，达到规定的厚度后，频率监测装置会自动发出停止研磨的控制信号，也就能准确的控制钽酸锂芯片的厚度。其有益效果是:能提高钽酸锂芯片的研磨的成品率，且加工成本低。
【附图说明】
[0015]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0016]图1为本实用新型实施例所公开的一种钽酸锂芯片的研磨装置的示意图。
[0017]图中数字所表示的相应部件名称:
[0018]1.机台2.下研磨盘3.上研磨盘31.通孔4.频率监测装置41.探测头5.游星轮6.钽酸锂芯片。
【具体实施方式】
[0019]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0020]附图仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制。
[0021]为了更简洁的说明本实施例，在附图或说明中，会省略某些本技术领域普通技术人员公知的、但与本专利的主要内容不相关的零部件。另外，为了更便于读图，附图中某些零部件会有放大、缩小和部分省略，但并不代表实际产品的尺寸或全部结构；在不影响读图、且不会产生歧义的情况下，某些零部件可能未按机械制图国家标准来制图。
[0022]实施例.
[0023]如图1所示，一种钽酸锂芯片的研磨装置，包括机台1，机台I上设有可转动的下研磨盘2，下研磨盘2为圆形；下研磨盘2上设有能转动的上研磨盘3，上研磨盘3也为圆形，且直径与下研磨盘2 —致；上研磨盘3的转动轴心与下研磨盘2 —致，但转动方向相反；机台I还设有频率监测装置4，上研磨盘3的上端面设有多个供频率监测装置的探测头41伸入的通孔31，频率监测装置4与驱动下研磨盘2和上研磨盘3的电机(未在附图中示出)电气连接。
[0024]通过研磨盘来研磨，就是把磨料放在研磨盘上，通过研磨盘的转动来研磨工件的端面，这是本领域技术人员都了解的，不作详述。
[0025]而通过下研磨盘2和上研磨盘3同时相反转动的双面研磨方式，可大大提高研磨的速度。
[0026]由于钽酸锂的耦合系数和频率常数较大，而且钽酸锂芯片自身的频率与其厚度有严格的函数关系，为一一对应的，所以监测钽酸锂芯片的频率能得到比较准确的数值，也就是能准确的知道其厚度。
[0027]为了监测的精确，上研磨盘3还设有通孔31，以便频率监测装置的探测头41伸入，更接近钽酸锂芯片6。
[0028]其中，下研磨盘2还放置有多个厚度小于钽酸锂芯片6的游星轮5。游星轮是应用在玻璃，镜片，硅片，硬盘等各种平面抛光工序的夹具，又被称为抛光治具，抛光垫等，在本实施例中，是为了避免多个钽酸锂芯片之间的碰撞。
[0029]其中，驱动下研磨盘2和上研磨盘3的电机为步进电机。步进电机反应迅速，动作灵敏，且控制方便，更好的保证了加工的精度。
[0030]其中，通孔31的直径为4?6mm。这是与频率监测装置的探测头相匹配的，能更精确的监测到钽酸锂芯片的频率。
[0031]其中，下研磨盘2的上下位置可调。这是便于钽酸锂芯片6的上料、取料。
[0032]通过上述实施例，本实用新型的一种钽酸锂芯片的研磨装置，设置了一个能双面研磨的下研磨盘和上研磨盘，下研磨盘和上研磨盘以相反的方向转动，这样提高了研磨的速度，为了准确控制钽酸锂芯片的厚度，设置了一个频率监测装置(钽酸锂芯片自身的频率与其厚度有严格的函数关系，为一一对应的)，通过实时监控钽酸锂芯片的频率，就可以知道钽酸锂芯片实时的厚度，达到规定的厚度后，频率监测装置会自动发出停止研磨的控制信号，也就能准确的控制钽酸锂芯片的厚度。其有益效果是:能提高钽酸锂芯片的研磨的成品率，且加工成本低。
[0033]以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种钽酸锂芯片的研磨装置，其特征在于，包括机台，所述机台上设有可转动的下研磨盘，所述下研磨盘为圆形；所述下研磨盘上设有能转动的上研磨盘，所述上研磨盘也为圆形，且直径与所述下研磨盘一致；所述上研磨盘的转动轴心与所述下研磨盘一致，但转动方向相反；所述机台还设有频率监测装置，所述上研磨盘的上端面设有多个供所述频率监测装置的探测头伸入的通孔，所述频率监测装置与驱动所述下研磨盘和上研磨盘的电机电气连接。
2.根据权利要求1所述的一种钽酸锂芯片的研磨装置，其特征在于，所述下研磨盘还放置有多个厚度小于所述钽酸锂芯片的游星轮。
3.根据权利要求1所述的一种钽酸锂芯片的研磨装置，其特征在于，驱动所述下研磨盘和上研磨盘的电机为步进电机。
4.根据权利要求1所述的一种钽酸锂芯片的研磨装置，其特征在于，所述通孔的直径为4?6mm。
5.根据权利要求1所述的一种钽酸锂芯片的研磨装置，其特征在于，所述下研磨盘的上下位置可调。
【专利摘要】本实用新型公开了一种钽酸锂芯片的研磨装置，包括机台，机台上设有可转动的下研磨盘，下研磨盘为圆形；下研磨盘上设有能转动的上研磨盘，上研磨盘也为圆形，且直径与下研磨盘一致；上研磨盘的转动轴心与下研磨盘一致，但转动方向相反；机台还设有频率监测装置，上研磨盘的上端面设有多个供频率监测装置的探测头伸入的通孔，频率监测装置与驱动下研磨盘和上研磨盘的电机电气连接。该实用新型的一种钽酸锂芯片的研磨装置，能提高钽酸锂芯片的研磨的成品率，且加工成本低。
【IPC分类】B24B37-005, B24B37-08
【公开号】CN204546248
【申请号】CN201520135368
【发明人】尹明, 汪力
【申请人】昆山科尼电子器材有限公司
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年3月10日