构108a具有带第一密封法兰210a(壳体法兰)的第一管状真空引导部208a。类似地，第二前级真空供应结构108b具有带第二密封法兰210b (盖法兰)的第二管状真空引导部208b。在两个密封法兰210a，210b的至少一个上可以布置密封件212a，212b，例如至少一个唇密封部，从而当两个密封法兰210a，210b靠近时，例如当室盖104闭合时，它们可以真空密封地偶联。可以理解的是，前级真空供应结构108a，108b可以匹配各真空处理设备100和满足建造技术上的要求。
[0054]根据不同的实施方式，管状真空执行部208a、208b具有的管内径可以在大致5cm至大致30cm的范围中。
[0055]如图3中以侧面示意图或横截面示意图所示，室盖104可以借助于轴承304 (或其它适合的保持装置)可旋转地(可枢转地)这样地固定在室壳体102上，S卩，室盖104可以围绕轴枢转310以便开启和闭合。
[0056]如前面所描述的，室盖104和室壳体102可以这样地设置，即在室盖104关闭时第二前级真空供应结构108b与第一前级真空供应结构108a偶联。
[0057]如图4中以侧面示意图或横截面示意图所示，第一前级真空供应结构108a可以固定在室壳体102上，第二前级真空供应结构108b可以固定在与室壳体102匹配的室盖104上，从而在室盖104关闭时两个前级真空供应结构108a，108b相互偶联，其中室盖104可以与室壳体102形配合地连接。在前面的偶联区域110中，前级真空供应结构108a，108b分别具有密封法兰210a，210b (偶联法兰)，并且在密封法兰210a，210b之间可以提供唇密封部 212。
[0058]根据不同的实施方式，唇密封部212在前级真空供应结构108a，108b中为真空时才会封闭密封法兰210a，210b之间的间隙。为此，唇密封部212可以柔性地提供，例如唇密封部212可以含有硅胶。
[0059]如图4中所示意的，多个高真空泵106可以安装在室盖104上，其在出口侧可以与第二前级真空供应结构108b连接，并且在入口侧通过在室盖104中分别提供的泵开口而可以接合到室壳体102的处理区域102p中。
[0060]另选地，两个前级真空供应结构108a，108b可以这样地设置，即两个前级真空供应结构108a，108b在室盖104关闭时自动地至少按分段地相互插入。例如，前级真空供应结构108a，108b可以是管状的并具有至少分段不同的管直径，从而它们可以相互插在一起。在此，在插接区域中可以布置真空密封部(例如氟橡胶(Viton)密封部或密封环)。
[0061]根据不同的实施方式，真空室100可以包括:室壳体102，具有在室壳体102上侧中的开口 111，用于容纳室盖104 ;室盖104，用于盖住室壳体102中的开口 111 ;在室壳体102上的第一前级真空供应结构108a ;在室盖104上的前级真空供应结构108b，其中第一前级真空供应结构108a和第二前级真空供应结构108b这样地设置，即它们在室盖104关闭时(例如当室盖104放置在室壳体102上或当关上室盖104时)自动地真空密封地相互偶联。
[0062]例如可以这样地实施真空处理设备100或真空室100的操作或运行，即首先关闭室盖104，使得室壳体102中的开口 111被盖住。在此，室壳体102的开口 111可以借助于室盖104真空密封地封闭或密封。在室盖104关闭时，室壳体102的第一前级真空供应结构108a和室盖104的第二前级真空供应结构108b可以自动地相互偶联。随后，关闭的室壳体可以借助于第一前级真空供应结构108a和/或第二前级真空供应结构108b抽真空。
[0063]此外，为了打开真空处理设备100或真空室100，例如当进行维护时，首先对真空处理设备100进行通风和随后从室壳体102除去室盖104，其中第一前级真空供应结构108a和第二前级真空供应结构108b自动地(自发地)相互分开。
[0064]明显地，两个前级真空供应结构108a，108b并且尤其是两个密封法兰210a，210b可以相对地移动，以便它们偶联，例如可以沿着环形轨道(枢轴移动)或沿着直线(平移)移动。明显地，两个前级真空供应结构108a，108b和尤其两个密封法兰210a，210b可以提供插接。
[0065]根据不同的实施方式，两个前级真空供应结构108a，108b和尤其是两个密封法兰210a，210b可以相互相对地调节，从而它们在室盖关闭时可以真空密封地相互偶联。
[0066]可以这样地进行调节，即在室盖关闭时(例如当真空处理设备抽真空时)和因此在前级真空供应结构108a，108b相互偶联情况下，可以确定(固定)两个前级真空供应结构108a，108b和尤其是两个密封法兰210a，210b在室盖104上和在室壳体102上的相应位置(位置或取向)。明显地，在室盖104关闭期间，可以设定两个前级真空供应结构108a，108b之间和尤其是两个密封法兰210a，210b之间的间隙。
[0067]根据不同的实施方式，两个前级真空供应结构108a，108b和尤其是两个密封法兰210a，210b分别可拆卸地安装在室盖104上和室壳体102上，使得两个前级真空供应结构108a，108b和尤其是两个密封法兰210a，210b可以相互相对地调节。
【主权项】
1.一种真空处理设备(100)，其包括: 室壳体(102)，具有在室壳体(102)上侧中的开口(111)，用于容纳室盖(104)； 室盖(104)，用于盖住室壳体(102)的开口(111)； 在室壳体(102)上的第一前级真空供应结构(108a)； 在室盖(104)上的第二前级真空供应结构(108b)， 其中第一前级真空供应结构(108a)和第二前级真空供应结构(108b)这样地设置，即它们在室盖(104)关闭时自动地真空密封地相互偶联。2.根据权利要求1所述的真空处理设备，还包括: 在室盖(104)上的至少一个高真空泵(106)，其中所述至少一个高真空泵(106)与第二前级真空供应结构(108b)偶联。3.根据权利要求1所述的真空处理设备， 其中第一前级真空供应结构(108a)具有第一密封法兰(210a)和其中第二前级真空供应结构(108b)具有第二密封法兰(210b)，并且其中两个密封法兰(210a，210b)这样地设置，即它们在室盖(104)关闭时自动地真空密封地相互偶联。4.根据权利要求3所述的真空处理设备， 其中第一密封法兰(210a)和/或第二密封法兰(210b)具有至少一个密封件(212)，用于在室盖(104)关闭时密封两个密封法兰(210a，210b)之间的间隙。5.根据权利要求4所述的真空处理设备， 其中所述至少一个密封件(212)具有至少一个唇密封部。6.根据权利要求4所述的真空处理设备， 其中所述至少一个唇密封部(212)含有硅胶或由硅胶构成。7.根据权利要求1所述的真空处理设备， 其中室盖(104)可旋转地被支承并这样地设置，即其可以借助于旋转移动(320)被打开和/或被关闭。8.根据权利要求1所述的真空处理设备， 其中室盖(104)这样地设置，即其在关闭状态下松散地置于室壳体(102)中。9.根据权利要求1所述的真空处理设备，还包括: 至少一个前级真空泵组件，其与第一前级真空供应结构(108a)连接，用于借助于第一前级真空供应结构为室壳体(102)提供前级真空。
【专利摘要】真空处理设备(100),可以包括：室壳体(102)，具有在室壳体(102)上侧中的开口(111)，用于容纳室盖(104)；室盖(104)，用于盖住室壳体(102)的开口(111)；在室壳体(102)上的第一前级真空供应结构(108a)；在室盖(104)上的第二前级真空供应结构(108b)，其中第一前级真空供应结构(108a)和第二前级真空供应结构(108b)这样地设置，即它们在室盖(104)关闭时自动地真空密封地相互偶联。
【IPC分类】C23C16/54, C23C14/56
【公开号】CN204644463
【申请号】CN201520295524
【发明人】约亨·克劳瑟
【申请人】冯·阿登纳有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年5月8日
【公告号】DE102014106466A1