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[0041 ]依次与所述第一传输管路10连接的喷嘴14、气体混合槽15、气体喷头16、工艺腔体17和真空及废气处理系统18，所述真空及废气处理系统18与所述第二传输管路20连接；
[0042]并且，所述化学气相沉积工艺设备还包括:
[0043]设置于所述第一驱动气管111上第一驱动开关121，第一驱动气管111提供驱动气体驱动气动阀；
[0044]第一引出气管112以及设置于所述第一引出气管112上第一引出开关122，第一引出气管112为总是有驱动气体的气管；
[0045]与所述第一驱动气管111、第一引出气管112和第一气动阀100连接的第一三通管120。
[0046]其中，所述第一驱动开关121和第一引出开关122均为手动开关，通过手动开关控制所处管路内气体的进出。
[0047]如图4所示，本实施例中，所述第一三通管110与所述第一气动阀100的距离小于等于10cm;所述第一三通管110与所述第一驱动开关121和第一引出开关122的距离均小于等于20cm。距离越小则气动阀反应的时间就越快，使气动阀响应时间越短。
[0048]其中，所述第一三通管110为一即插式的三通管，即插式的三通管拆装方便快捷。
[0049]优选的，本实施例还包括:
[0050]设置于所述第二驱动气管211上第二驱动开关221，第二驱动气管211提供驱动气体驱动气动阀；
[0051]第二引出气管212以及设置于所述第二引出气管212上第二引出开关222，第二引出气管212内总是有能够驱动气动阀的引出气体；
[0052]与所述第二驱动气管211、第二引出气管212和第二气动阀200连接的第二三通管210。
[0053]其中，所述第二驱动开关221和第二引出开关222均为手动开关，通过手动开关控制所处管路内气体的进出。
[0054]如图5所示，在本实施例中，所述第二三通管210与所述第二气动阀200的距离小于等于10cm;所述第二三通管210与所第二驱动开关221以及第二引出开关222的距离小于等于20cm;所第二驱动开关221以及第二引出开关222均为手动开关;所述第二三通管210为一即插式的三通管。距离越小则气动阀反应的时间就越快，使气动阀响应时间越短。即插式的三通管拆装方便快捷。
[0055]在本实施例中，所述吹扫气体管路2为氦气管路，氦气化学性质不活泼，通常状态下不与其它元素或化合物结合，具有较好的工业特性。但是，本实用新型并不限定吹扫气体管路，实施例中最佳为氦气管路。
[0056]优选的，本实施例还包括设置于所述总管路1上的液体流量控制器12，通过液体流量控制器12控制反应源11的流量。
[0057]继续参考图3，当工艺腔体17维护或进行其它操作需要开启时，关闭设置于第一驱动气管111上的第一驱动开关121，打开设置于第一引出气管112上的第一引出开关122，从而第一引出气管112内的引出气体打开第一气动阀100，然后吹扫气体管路2提供正压的氦气经第一传输管路10过喷嘴1进入气体混合槽2然后从气体喷头3吹出；同时，关闭设置于第二驱动气管211上的第二驱动开关221，打开设置于第二引出气管212上的第二引出开关222，从而第二引出气管212内的引出气体打开第二气动阀200，然后吹扫气体管路2提供正压的氦气经第二传输管路20进入真空及废气处理系统18。因此，即使工艺腔体17在大气环境下，空气也不会进入气体喷头16、气体混合槽15以及喷嘴14中，同时空气也从第二传输管路20排出。
[0058]当完成相关操作关闭工艺腔体17之后，通过真空及废气处理系统18抽真空时，打开第一驱动开关121和第二驱动开关221，关闭第一引出开关122和第二引出开关222，然后建立真空环境。
[0059]本实用新型通过与驱动气管、引出气管和气动阀连接的三通管以及设置于驱动气管和引出气管上的开关控制气动阀，使吹扫气体管路提供正压的吹扫气体吹扫喷嘴、气体混合槽，然后通过气体喷头吹出，避免空气进入管路及设备，从而防止管路及设备污染，避免由于内部污染引起的缺陷颗粒问题，降低生产产品缺陷数量，减少设备恢复时间，延长备件使用时间。
【主权项】
1.一种化学气相沉积工艺设备，包括: 与一反应源连接的总管路； 与所述总管路并行连接的第一传输管路和第二传输管路； 与所述第一传输管路和第二传输管路连接的吹扫气体管路； 设置于所述第一传输管路上的第一气动阀、设置于所述第二传输管路上的第二气动阀以及设置于所述吹扫气体管路的控制阀； 与所述第一气动阀连接并能驱动所述第一气动阀的第一驱动气管，与所述第二气动阀连接并能驱动所述第二气动阀的第二驱动气管； 依次与所述第一传输管路连接的喷嘴、气体混合槽、气体喷头、工艺腔体和真空及废气处理系统，所述真空及废气处理系统与所述第二传输管路连接； 其特征在于，所述化学气相沉积工艺设备还包括: 设置于所述第一驱动气管上第一驱动开关； 第一引出气管以及设置于所述第一引出气管上第一引出开关； 与所述第一驱动气管、第一引出气管和第一气动阀连接的第一三通管。2.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述第一驱动开关和第一引出开关均为手动开关。3.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述第一三通管与所述第一气动阀的距离小于等于10cm。4.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述第一三通管与所述第一驱动开关和第一引出开关的距离均小于等于20cm。5.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述第一三通管为一即插式的三通管。6.如权利要求1所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于，还包括: 设置于所述第二驱动气管上第二驱动开关； 第二引出气管以及设置于所述第二引出气管上第二引出开关； 与所述第二驱动气管、第二引出气管和第二气动阀连接的第二三通管。7.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述第二驱动开关以及第二引出开关均为手动开关。8.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述第二三通管与所述第二气动阀的距离小于等于10cm。9.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述第二三通管与所述第二驱动开关以及第二引出开关的距离均小于等于20cm。10.如权利要求6所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述第二三通管为一即插式的三通管。11.如权利要求1至10中任意一项所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:所述吹扫气体管路为氦气管路。12.如权利要求1至10中任意一项所述的化学气相沉积工艺设备，其特征在于:还包括设置于所述总管路上的液体流量控制器。
【专利摘要】本实用新型提供了一种化学气相沉积工艺设备，主要包括依次连接的反应源、总管路、设置有气动阀的传输管路、喷嘴、气体混合槽、气体喷头、工艺腔体和真空及废气处理系统，其中，传输管路还与设置有控制阀的吹扫气体管路连接；驱动气管、引出气管和气动阀通过三通管连接；驱动气管和引出气管设置有开关。本实用新型通过与驱动气管、引出气管和气动阀连接的三通管以及设置于驱动气管和引出气管上的开关控制气动阀，使吹扫气体管路提供正压的吹扫气体吹扫喷嘴、气体混合槽，然后通过气体喷头吹出，避免空气进入管路及设备，从而防止管路及设备污染，避免由于内部污染引起的缺陷颗粒问题，降低生产产品缺陷数量，减少设备恢复时间，延长备件使用时间。
【IPC分类】C23C16/513
【公开号】CN205099750
【申请号】CN201520861935
【发明人】沈剑平, 张欣, 钟飞, 徐伯山
【申请人】上海华力微电子有限公司
【公开日】2016年3月23日
【申请日】2015年10月30日