脱硫设备的石膏脱水装置的制作方法

专利名称：脱硫设备的石膏脱水装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种在使用了石灰石膏法的脱硫设备中进行石膏块的脱水的石膏脱水装置。
背景技术：
在将废气中的SO2通过石灰石膏法进行脱硫处理的脱硫设备中，适用将在脱硫过程中生成的石膏浆液脱水而获得石膏的石膏脱水装置。石膏脱水装置的方式之一包括带式过滤器，该脱水装置将滤布配置成带状，在该轮带下部具有真空泵及减压机构，使滤布轮带在水平方向上行进的同时，从提供到轮带上的石膏浆液自轮带下部进行真空吸引，从而使水分脱水。但是，石膏浆液中含有细微的杂质，例如由二氧化硅(SO2)、氧化铝(Al2O3)、不完全燃烧碳等构成的微粒粉尘。因此，若在水分从石膏浆液抽出的同时以平均的厚度形成 的带式过滤器上的石膏块的表面的最上层形成微粒粉尘层，则会使真空吸引时的通气性恶化，造成脱水性能下降。若脱水性能下降，则石膏块的附着性增加，在运送过程中产生附着到周围的问题，因此质量无法满足标准(例如10wt%)，无法作为产品石膏出售，因此需要作为产业废弃物处理的处理费用。因此，现有技术中，例如在专利文献I所述的带式过滤器中，在带式过滤器的长度方向上设置多段锯齿状的围栏，使该围栏的下端与石膏块的上层接触，通过刮掉形成于石膏块表面的微粒层，来提高脱水性。现有技术文献专利文献专利文献I :日本特开平11 - 128670号公报

发明内容
发明要解决的问题但在上述专利文献I所述的带式过滤器中，当上述石膏浆液中的杂质、盐浓度过多时，石膏浆液流入到由围栏刮掉的部分，再次有损脱水性，可能会无法获得期待的效果。本发明用于解决上述问题，其目的在于提供一种可维持脱水性能的脱硫设备的石膏脱水装置。用于解决问题的手段为了实现上述目的，本发明的脱硫设备的石膏脱水装置设置在使废气中的硫磺氧化物在吸收塔内由吸收液中的石灰石吸收的脱硫设备上，该石膏脱水装置具有带式过滤器，将吸收上述硫磺氧化物而由上述吸收塔提供的石膏浆液进行脱水而形成石膏块；以及真空吸引机构，经由上述带式过滤器吸引上述石膏块的水分，其特征在于，具有水分测定单元，测定通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块的水分浓度；加温单元，将通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块通过温水或蒸汽进行加温；以及控制单元，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量时，控制上述加温单元的加温状态。
根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元测定带式过滤器中的脱水后的石膏块中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，该吸引压力测定单元用于测定上述真空吸引机构的吸引压力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制上述加温单元的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有杂质盐浓度测定单元，该杂质盐浓度测定单元用于测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述杂质盐浓度测定单元的输入脱离规定的设定值时，上述控制单元控制上述加温单元的加温状态。
根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自杂质盐浓度测定单元的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有过滤比阻力测定单元，该过滤比阻力测定单元用于测定上述石膏块的过滤比阻力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述过滤比阻力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制上述加温单元的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自过滤比阻力测定单元的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；以及杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制上述加温单元的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元和杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度；以及过滤比阻力测定单元，测定上述石膏块的过滤比阻力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元及上述过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，控制上述加温单元的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元和杂质盐浓度测定单元及过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。为了实现上述目的，本发明的脱硫设备的石膏脱水装置设置在使废气中的硫磺氧化物在吸收塔内由吸收液中的石灰石吸收的脱硫设备上，该石膏脱水装置具有带式过滤器，将吸收上述硫磺氧化物而由上述吸收塔提供的石膏浆液进行脱水而形成石膏块；以及真空吸引机构，经由上述带式过滤器吸引上述石膏块的水分，其特征在于，具有水分测定单元，测定通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块的水分浓度；速度可变单元，使上述带式过滤器的轮带行进速度可变；以及控制单元，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量时，控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元测定带式过滤器中的脱水后的石膏块中的水分浓度并时常进行监视，来能够尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，该吸引压力测定单元用于测定上述真空吸引机构的吸引压力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元的输入值脱离 规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有杂质盐浓度测定单元，该杂质盐浓度测定单元用于测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述杂质盐浓度测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自杂质盐浓度测定单元的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有过滤比阻力测定单元，该过滤比阻力测定单元用于测定上述石膏块的过滤比阻力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述过滤比阻力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自过滤比阻力测定单元的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；以及杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元和杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度；以及过滤比阻力测定单元，测定上述石膏块的过滤比阻力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元及上述过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元和杂质盐浓度测定单元及过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。为了实现上述目的，本发明的脱硫设备的石膏脱水装置设置在使废气中的硫磺氧化物在吸收塔内由吸收液中的石灰石吸收的脱硫设备上，该石膏脱水装置具有带式过滤器，将吸收上述硫磺氧化物而由上述吸收塔提供的石膏浆液进行脱水而形成石膏块；以及真空吸引机构，经由上述带式过滤器吸引上述石膏块的水分，其特征在于，具有水分测定单元，测定通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块的水分浓度；加温单元，将通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块通过温水或蒸汽进行加温；速度可变单元，使上述带式过滤 器的轮带行进速度可变；以及控制单元，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量时，控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元测定带式过滤器中的脱水后的石膏块中的水分浓度并时常进行监视，来能够尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，该吸引压力测定单元用于测定上述真空吸引机构的吸引压力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有杂质盐浓度测定单元，该杂质盐浓度测定单元用于测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述杂质盐浓度测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自杂质盐浓度测定单元的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有过滤比阻力测定单元，该过滤比阻力测定单元用于测定上述石膏块的过滤比阻力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述过滤比阻力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自过滤比阻力测定单元的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；以及杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元和杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度；以及过滤比阻力测定单元，测定上述石膏块的过滤比阻力，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元及上述过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定、值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且通过来自吸引压力测定单元和杂质盐浓度测定单元及过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有表面温度测定单元，该表面温度测定单元用于测定上述石膏块的表面温度，当从上述表面温度测定单元输入的表面温度不是规定值以下时，上述控制单元进行减少上述加温单元的加温的控制。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，石膏块的表面温度维持规定值以下。这样一来，能够防止因蒸汽凝缩而造成的水分过多，抑制石膏块中水分增加的情况。并且，在本发明的脱硫设备的石膏脱水装置中，其特征在于，还具有脱硫量测定单元，测定上述吸收塔中的上述硫磺氧化物的吸收量；传送量可变单元，使通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块的传送量可变；以及速度可变单元，使上述带式过滤器的轮带行进速度可变，上述控制单元在即使从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量但上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元及上述过滤比阻力测定单元的各输入值不脱离规定的设定值的情况下，当从上述脱硫量测定单元输入的吸收量超过规定量时，同时控制基于上述传送量可变单元的传送量的增加和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能，并且即使在通过来自吸引压力测定单元和杂质盐浓度测定单元及过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值来难以掌握脱水性能下降的初期征兆的情况下，也能够通过来自脱硫量测定单元的输入值来掌握脱水性能下降的初期征兆。发明效果根据本发明，能够将降低脱水性能的因素防患于未然，从而能够维持脱水性能。


图I是适用了脱硫设备的废气处理系统的概要图。图2是本发明的实施方式I涉及的脱硫设备的石膏脱水装置的概要图。图3是本发明的实施方式I涉及的脱硫设备的石膏脱水装置中的控制的流程图。图4是本发明的实施方式2涉及的脱硫设备的石膏脱水装置的概要图。图5是本发明的实施方式2涉及的脱硫设备的石膏脱水装置中的控制的流程图。图6是本发明的实施方式3涉及的脱硫设备的石膏脱水装置的概要图。图7是本发明的实施方式3涉及的脱硫设备的石膏脱水装置中的控制的流程图。图8是本发明的实施方式4涉及的脱硫设备的石膏脱水装置的概要图。
图9是本发明的实施方式4涉及的脱硫设备的石膏脱水装置中的控制的流程图。附图标记I吸收塔；2石膏脱水装置；21抽出部；21c阀(传送量可变单元)；22带式过滤器；22c驱动部(速度可变单元)；23真空吸引机构；24 漏斗；25加温单元；25e流量调节阀；25f 开关阀；26控制单元；105脱硫设备；G 废气；A吸收液SS石膏浆液；SC石膏块；S 石膏；Hl水分测定单元；Pl吸引压力测定单元；Cl杂质盐浓度测定单元；α过滤比阻力测定单元；Τ2表面温度测定单元；Δ SO2脱硫量测定单元。
具体实施例方式以下基于附图详细说明本发明涉及的实施方式。此外，本发明不受该实施方式的限定。并且，下述实施方式中的构成要素包括本领域技术人员可置换且容易的要素，或者实质上相同的要素。
(实施方式I)参照

本实施方式。图I是适用了实施方式涉及的脱硫设备的废气处理系统的概要图。如图I所示，废气处理系统100是，在从发电站、工厂等的锅炉101排出的废气G从烟囱108排放的过程中，去除该废气G中含有的氮氧化物(NOx)、煤尘、硫磺氧化物(SOx)及二氧化碳(CO2)。从锅炉101排出的废气G导入到填充有催化剂的脱硝设备102。在脱硝设备102中，通过作为还原剂注入的氨(NH3),废气G中含有的氮氧化物被还原为水和氮而被无害化。经过了脱硝设备102的废气G导入到作为燃气加热器的热交换器的热回收设备103中，通过与热介质(水等)进行热交换，被热回收。经过了热回收设备103的废气G的温度例如变为9(Tl00°C，电子集尘器104中的集尘能力提高。
经过了热回收设备103的废气G导入到电子集尘器104而煤尘被去除。经过了电子集尘器104的废气G导入到脱硫设备105。在脱硫设备105中，通过石灰石(CaCO3)吸收去除废气G中的硫磺氧化物，作为副生成物生成石膏(CaSO4. 2H20)。并且，经过了脱硫设备105的废气G的温度一般下降到50°C左右。经过了脱硫设备105的废气G导入到作为气体加热器的热交换器的再加热设备106中。再加热设备106在热介质循环于与上述热回收设备103之间的过程中，通过由热回收设备103回收的回收热量加热废气G。废气G在经过了脱硫设备105的50°C左右的温度下，因低温而难以扩散，可能变为白烟，但通过再加热设备106再次加热为90°C，从而不产生白烟而从烟囱108排放到大气中。经过了再加热设备106的废气G导入到脱碳设备107。在脱碳设备107中，通过使废气G中的二氧化碳(CO2)由含有石灰石的吸收液(CaCO3)吸收，来从废气G中去除二氧化碳。参照

上述的脱硫设备105。图2是表示本实施方式的脱硫设备的石膏脱水装置的概要图。如图2所示，脱硫设备105在吸收塔I上附加设置有石膏脱水装置2。吸收塔I在本实施方式中构成为如下，并列设置从上部导入废气G的入侧液柱塔la、和从上部排出完成脱硫处理的废气G的出侧液柱塔lb，并通过底部的存储箱Ic连通它们。吸收塔I在存储箱Ic中存储有包括石灰石的吸收液(以下称为吸收液)A。该吸收液A通过吸收液循环泵Id压送的同时，经由液柱塔la、Ib的外部的吸收液头Ie而提供到各液柱塔la、Ib内的喷嘴If。提供到喷嘴If的吸收液A朝向上方喷射成液柱状后流下，再次存储到存储箱Ic中。此外，存储箱Ic中设有搅拌机lg，通过该搅拌机Ig搅拌吸收液A，来防止吸收液A中的石膏粒子及石灰石粒子沉淀。另一方面，废气G从入侧液柱塔Ia的上部导入而朝向下方流动，通过存储箱Ic上方的空间部而向该出侧液柱塔Ib移动。之后，使该出侧液柱塔Ib朝向上方流动。此时，从喷嘴If喷射的同时流下的吸收液A与在各液柱塔la、lb内流动的废气G逆流接触。因此，废气G中的硫磺氧化物被吸收液A吸收而从废气G去除。去除了硫磺氧化物的废气G从出侧液柱塔Ib的上部排出而传送到下一设备。此外，吸收塔不限于并列设置2个液柱塔la、lb的构成，例如，虽未图示，但也可以由在将从下部导入的废气G从上部排出的期间与吸收液接触的一个液柱塔构成。并且，吸收液A和废气G的接触除了上述逆流接触外，还包括废气G相对于流下的吸收液A并行流动的并流接触；组合了逆流接触和并流接触的逆/并流接触。石膏脱水装置2具有抽出部21，从吸收塔I的存储箱Ic抽出吸收液A吸收了硫磺氧化物的石膏浆液SS ;带式过滤器22，从抽出部21提供的石膏浆液SS脱水而形成平均厚度的石膏块SC ;真空吸引机构23，从通过带式过滤器22脱水的石膏块SC吸引水分。
抽出部21在抽出管21a的中途设置有抽出泵21b，该抽出管21a的一端连接到存储箱lc，另一端到达至带式过滤器22。S卩，存储箱Ic内的石膏浆液SS通过抽出泵21b压送，经过抽出管21a而提供到带式过滤器22。并且，抽出管21a在抽出泵21b的下游侧设置有阀21c。阀21c增减通过抽出管21a的石膏浆液SS的流量，调节提供到带式过滤器22的石膏浆液SS的供给量。并且，抽出管21a在阀21c的下游侧设置有回管21d，该回管21d到达至存储箱Ic并分支连接。回管21d将从存储箱Ic经过抽出管21a抽出的石膏浆液SS的一部分回送到存储箱lc。再者，回管21d设有阀21e。阀21e增减经过回管21d回送到存储箱Ic的石膏浆液SS的流量，调节回送到存储箱Ic的石膏浆液SS的回送量。带式过滤器22由以下构成由滤布构成的环形的轮带22a ;架设该轮带22a的至少一对辊22b ;通过旋转驱动辊22b使轮带22a循环的电机等驱动部22c。石膏浆液SS通过抽出部21提供到轮带22a上。因此，石膏浆液SS向轮带22a的循环方向传送。并且，虽未图示，但带式过滤器22如下构成在提供石膏浆液SS的轮带22a的上游侧，使该石膏浆液SS脱水而形成平均厚度的石膏块SC。此外，在下述实施方式2、3、4中，驱动部22c构成为使带式过滤器22的轮带行进速度可变的速度可变单元。真空吸引机构23具有吸引口部23a，设置在石膏浆液SS通过带式过滤器22被脱水成石膏块SC的范围内的、带式过滤器22的轮带22a通过辊22b架设的内部；气液分离部23b，用管子连接到吸引口部23a ;吸气泵23c及吸水泵23d，用管子连接到气液分离部23bο即，通过吸气泵23c，经由气液分离部23b向吸引口部23a施加负压，从而从通过带式过滤器22脱水的石膏块SC吸引水分。吸引的水分从吸引口部23a存储到气液分离部23b的箱子下部。吸气泵23c连接到气液分离部23b的箱子上部，不会吸引存储在箱子下部的水分。另一方面，存储在气液分离部23b的箱子下部的水分通过与该箱子下部连接的吸水泵23d被吸引并被排出。因此，石膏脱水装置2通过抽出部21从吸收塔I的存储箱Ic抽出石膏浆液SS，通过带式过滤器22使石膏浆液SS脱水而形成石膏块SC，通过真空吸引机构23吸引石膏浆液SC的水分，从而获得脱水的石膏S。并且，带式过滤器22的下游设置有接收脱水的石膏S的漏斗24,从该漏斗24排出石骨S。并且，本实施方式的石膏脱水装置2具有加温单元25，其对通过带式过滤器22脱水的石膏块SC进行加温。加温单元25包括以下方式对石膏块SC喷雾温水的温水加温方式；对石膏块SC喷雾蒸汽的蒸汽加温方式。温水加温方式的加温单元25具有水箱25a，存储从上水道经由流量调节阀提供的水；供给管25b，一端与水箱25a连接，在到达至带式过滤器22的另一端上设置有喷嘴；设置在供给管25b中途的供水泵25c ;加温部25d，设置在供给管25b中途，通过蒸汽热量加温供给管25b的水。供给管25b的另一端分支成多个(在本实施方式中是2个)而形成。并且，供给管25b的被分支的各另一端设置为喷嘴沿着通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的传送方向而配置成多段(在本实施方式中是2段)。并且，虽未明示于图中，但供给管25b的喷嘴，在与通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的传送方向正交配置的喷嘴管上，与石膏块SC的宽度方向对应而设置有多个喷射口。并且，在供给管25b的被分支的各另一端上设置有流量调节阀25e、开关阀25f。流量调节阀25e设置在供给管25b的被分支的各另一端的至少一个上。开关阀25f设置在其他另一端上。该温水加温式的加温单元25在水箱25a中存储的水通过供水泵25c经由供给管25b到达至带式过滤器22的过程中，变成通过加温部25d加温的温水，通过从喷嘴对带式过滤器22的石膏块SC喷雾，来加温石膏块SC。并且，加温单元25通过供给管25b的另一端被分支为多个且喷嘴沿着石膏块SC的传送方向设置有多段，来从多段喷嘴喷射温水而提高加温石膏块SC的加温温度(Q2)。并且，通过流量调节阀25e增加调节从喷嘴喷射的温水的流量，提高加温石膏块SC的加温温度(Q1)。再者，从多段喷嘴喷射温水且通过流量调节阀25e增加调节从喷嘴喷射的温水的流量，由此提高石膏块SC的温度(Q1+Q2)。蒸汽加温式的加温单元25将上述加温部25d的蒸汽直接提供到供给管25b。该蒸 汽加温式的加温单元25通过加温部25d的蒸汽从喷嘴喷雾到带式过滤器22的石膏块SC，从而加温石膏块SC。并且，加温单元25通过供给管25b的另一端分支为多个且喷嘴沿着石膏块SC的传送方向设置有多段，来从多段喷嘴喷射蒸汽而提高加温石膏块SC的加温温度(Q2)。并且，通过流量调节阀25e增加调节从喷嘴喷射的蒸汽的流量而提高加温石膏块SC的加温温度(Q1)。再者，从多段喷嘴喷射蒸汽且通过流量调节阀25e增加调节从喷嘴喷射的蒸汽的流量而提高石膏块SC的温度(Q1+Q2)。并且，石膏脱水装置2具有水分测定单元Hl，其测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度。水分测定单元Hl例如包括以非接触方式测量水分的红外线方式。该水分测定单元Hl配置在将在带式过滤器22中被脱水的石膏S提供到漏斗24之前。并且，石膏脱水装置2具有吸引压力测定单元Pl，其测定带式过滤器22的真空压力、即真空吸引机构23中的吸气泵23c的吸引压力。并且，石膏脱水装置2具有杂质盐浓度测定单元Cl，其测定作为吸收塔I的吸收液A中的杂质的盐浓度。作为杂质，例如是Cl、Mg等，测定其盐浓度。杂质盐浓度测定单元Cl提前取得吸收塔I内的吸收液A的电导率和盐浓度的相关，通过测定电导率推测盐浓度。并且，石膏脱水装置2具有过滤比阻力测定单元α，其测定石膏块SC的过滤比阻力。过滤比阻力测定单元α设置在抽出部21的抽出管21a的中途，部分取出在抽出管21a中流通的石膏浆液SS，根据公知的公式测定过滤比阻力、即过滤难易的程度。并且，石膏脱水装置2具有表面温度测定单元T2，其测定石膏块SC的表面温度。表面温度测定单元T2例如包括以非接触方式测量表面温度的红外线方式。该表面温度测定单元T2配置在漏斗24上，该漏斗24接收刚在带式过滤器22中脱水之后的石膏S。上述水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及表面温度测定单元Τ2的测定数据输入到控制单元26。控制单元26由计算机等构成。控制单元26设有由RAM、R0M等构成而存储程序、数据的存储部(未图示)。存储部中存储的数据是与通过水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及表面温度测定单元T2测定的值对应的设定值。水分测定单元Hl的测定值例如是10wt%,表示石膏S的质量标准。吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、及过滤比阻力测定单元α的设定值是为满足石膏S的质量标准而在运转石膏脱水装置2时设定的值。并且，控制单元26上连接有加温单元25的流量调节阀25e及开关阀25f。该控制单元26根据来自水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及表面温度测定单元Τ2的输入值，按照存储部中存储的程序、数据，控制加温单元25的流量调节阀25e、开关阀25f。参照图3的流程图说明控制单元26的控制。如图3所示，首先，控制单元26从水分测定单元Hl输入石膏块SC的水分浓度(步骤ST1)。接着，当输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上时(步骤ST2 是)，控制单元26从吸引压力测定单元Pl输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST3)，从杂 质盐浓度测定单元C I输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST4)，从过滤比阻力测定单元α输入石膏块SC的过滤比阻力(步骤ST5)。接着，在真空压力比设定值增加(步骤ST6 :是)、盐浓度比设定值增加(步骤ST7 :是)、过滤比阻力比设定值增加(步骤ST8 :是)中的至少一个情况下，控制单元26进行控制，增加加温单元25的加温(步骤ST9)。S卩，控制单元26将流量调节阀25e、开关阀25f向打开方向控制，从多段喷嘴喷射温水或蒸汽(Q2)，或者增加调节从喷嘴喷射的温水或蒸汽的流量(Q1)，或者从多段喷嘴喷射温水或蒸汽且增加调节从喷嘴喷射的温水或蒸汽的流量(Q1+Q2)，从而提高加温石膏块SC的加温温度。通过提高加温石膏块SC的加温温度，来盐被溶解，因此水粘度下降，来自石膏块SC的水分的吸引性提高而恢复脱水性能。接着，控制单元26从水分测定单元Hl输入石膏块SC的水分浓度(步骤ST10)。接着，输入的石膏块SC的水分浓度小于作为设定值的10wt%时(步骤STll :是)，控制单元26从表面温度测定单元T2输入石膏块SC的表面温度(步骤ST12)。接着，在石膏块SC的表面温度为规定值以下情况下(步骤ST13 :是)，控制单元26使加温单元25恢复到控制初始状态(步骤ST14)而结束该控制。另一方面，在步骤ST13中，在石膏块SC的表面温度不是规定值以下情况下(步骤ST13 :否)，控制单元26进行减少加温单元25的加温的控制(步骤ST15)。S卩，控制单元26使流量调节阀25e、开关阀25f向关闭方向控制，减少喷嘴的段数，或者减少调节从喷嘴喷射的温水或蒸汽的流量，或者减少喷嘴段数且减少调节从喷嘴喷射的温水或蒸汽的流量，从而降低加温石膏块SC的加温温度。接着，控制单元26返回到步骤ST10，从水分测定单元Hl输入石骨块SC的水分浓度。通过将石膏块SC的表面温度维持在规定值以下，尤其能够防止因蒸汽凝缩而造成的水分过多，能够抑制石膏块SC中水分增加的情况。此外，在步骤STll中，在输入的石膏块SC的水分浓度小于作为设定值的10wt%的情况下(步骤STll :否)，返回到步骤ST9。并且，在步骤ST6中真空压力与设定值相比未增加时(步骤ST6 :否)、在步骤ST7中盐浓度与设定值相比未增加时(步骤ST7 :否)、在步骤ST8中过滤比阻力与设定值相比未增加时(步骤ST8 :否)，转移到下述实施方式4的控制。如上所述，实施方式I的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在将废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元H1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元P1，测定真空吸引机构23的吸引压力；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；过滤比阻力测定单元α，测定石膏块SC的过滤比阻力；加温单元，将通过带式过滤器22被脱水的上述石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α中的至少一个的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制加温单元25的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α中的至少一个的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。

此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST2中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST2 :是)，控制单元26从吸引压力测定单元Pl仅输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST3)，也可不进行来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入(步骤ST4)、及来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST5)。即，通过来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入，来进行控制。S卩，本实施方式I的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在将废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Η1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元Ρ1，测定真空吸引机构23的吸引压力；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元Pl的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制加温单元25的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pl的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST2中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST2 :是)，控制单元26从杂质盐浓度测定单元Cl仅输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST4)，也可不进行来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入(步骤ST3)、及来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST5)。即，通过来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入，来进行控制。如上所述，实施方式I的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在将废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Hl，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自杂质盐浓度测定单元Cl的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制加温单元25的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自杂质盐浓度测定单元Cl的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST2中，在输入的石膏块SC的水分浓 度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST2 :是)，控制单元26从过滤比阻力测定单元α仅输入石膏块SC的过滤比阻力(步骤ST5)，也可不进行来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入(步骤ST3)、及来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入(步骤ST4)。即，通过来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入，来进行控制。如上所述，实施方式I的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在将废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Η1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；过滤比阻力测定单元α，测定石膏块SC的过滤比阻力；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自过滤比阻力测定单元α的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制加温单元25的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自过滤比阻力测定单元α的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST2中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST2 :是)，控制单元26可从吸引压力测定单元Pl输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST3)，从杂质盐浓度测定单元Cl输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST4)，不进行来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST5)。即，通过来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入及来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入，来进行控制。因此，实施方式I的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ；以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元H1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元P1，测定真空吸引机构23的吸引压力；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl的至少一个的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制加温单元25的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此可维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pi和杂质盐浓度测定单元Cl中的至少一个的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。
此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST2中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST2 :是)，控制单元26可转移到步骤ST9而进行增加加温单元25的加温的控制。即，可不进行步骤ST3 ST8的控制。因此，实施方式I的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元H1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量的情况下，控制加温单元25的加温状态。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。(实施方式2)参照

本实施方式。图4是表示本实施方式的脱硫设备的石膏脱水装置的概要图。此外，在以下说明的实施方式2中，对和上述实施方式I相同的构成附加同样的附图标记，省略其说明。如图4所示，本实施方式的石膏脱水装置2不具有上述实施方式I的石膏脱水装置中的加温单元25。该石膏脱水装置2通过在带式过滤器22中驱动部22c使辊22b的旋转速度可变，来构成为使轮带22a的轮带行进速度可变的速度可变单元。速度可变单元通过使辊22b的旋转速度加速，来加快轮带行进速度(VI)，由此减少石膏块SC的厚度(Dl )。相反，速度可变单元通过使辊22b的旋转速度减速，来减慢轮带行进速度(VI)，由此增加石膏块SC的厚度(Dl)。并且，石膏脱水装置2具有水分测定单元Hl，该水分测定单元Hl测定通过带式过滤器22脱水的石膏块SC的水分浓度。水分测定单元Hl例如包括以非接触方式测量水分的红外线方式。该水分测定单元Hl配置在将在带式过滤器22中被脱水的石膏S提供到漏斗24之前。
并且，石膏脱水装置2具有吸引压力测定单元P1，该吸引压力测定单元Pl测定带式过滤器22的真空压力、即真空吸引机构23中的吸气泵23c的吸引压力。并且，石膏脱水装置2具有杂质盐浓度测定单元Cl，该杂质盐浓度测定单元Cl测定作为吸收塔I的吸收液A中的杂质的、盐浓度。作为杂质，例如是Cl、Mg等，测定其盐浓度。杂质盐浓度测定单元Cl提前取得吸收塔I内的吸收液A的电导率和盐浓度的相关，通过测定电导率推测盐浓度。并且，石膏脱水装置2具有过滤比阻力测定单元α，该过滤比阻力测定单元α测定石膏块SC的过滤比阻力。过滤比阻力测定单元α设置在抽出部21的抽出管21a的中途，部分取出在抽出管21a中流通的石膏浆液SS，根据公知的公式测定过滤比阻力、即过滤难易的程度。上述的水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α的测定数据输入到控制单元26。控制单元26由计算机等构成。控制单元26设有由RAM、ROM等构成而存储程序、数据的存储部(未图示)。存储部中存储的数据是与 通过水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、及过滤比阻力测定单元α测定的值对应的设定值。水分测定单元Hl的测定值例如是10wt%，表示石膏S的质量标准。吸引压力测定单元PU杂质盐浓度测定单元Cl、及过滤比阻力测定单元α的设定值是为满足石膏S的质量标准而在运转石膏脱水装置2时设定的值。并且，控制单元26上连接有带式过滤器22的驱动部(速度可变单元)22c。该控制单元26根据来自水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、及过滤比阻力测定单元α的输入值，按照存储部中存储的程序、数据，控制带式过滤器22的驱动部22c。参照图5的流程图说明控制单元26的控制。如图5所示，首先，控制单元26从水分测定单元Hl输入石膏块SC的水分浓度(步骤ST21)。接着，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST22 :是)，控制单元26从吸引压力测定单元Pl输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST23),从杂质盐浓度测定单元Cl输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST24)，从过滤比阻力测定单元α输入石膏块SC的过滤比阻力(步骤ST25)。接着，在真空压力比设定值增加(步骤ST26 :是)、盐浓度比设定值增加(步骤ST27 :是)、过滤比阻力比设定值增加(步骤ST28 :是)中的至少一个情况下，控制单元26进行速度可变单元的轮带行进速度的控制(步骤ST29)。即，控制单元26通过控制带式过滤器22的驱动部22c使辊22b的旋转速度加速，来加快轮带行进速度(Vl)而减少石膏块SC的厚度(Dl )。若减少石膏块SC的厚度(D1)，则过滤比阻力下降，因此脱水性能被恢复。接着，控制单元26从水分测定单元Hl输入石膏块SC的水分浓度(步骤ST30)。接着，在输入的石膏块SC的水分浓度小于作为设定值的10wt%的情况下(步骤ST31 :是)，控制单元26将速度可变单元恢复到控制初期的状态(步骤ST32)而结束该控制。另一方面，在步骤ST31中，在输入的石膏块SC的水分浓度不小于作为设定值的10界七％的情况下(步骤ST31 :否)，返回到步骤ST29。并且，在步骤ST26中真空压力与设定值相比未增加的情况(步骤ST26 :否)、在步骤ST27中盐浓度和设定值相比未增加的情况(步骤ST27 :否)、在步骤ST28中过滤比阻力和设定值相比未增加的情况下(步骤ST28 :否)，转移到下述的实施方式4的控制。
因此，实施方式2的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元H1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元P1，测定真空吸引机构23的吸引压力；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；过滤比阻力测定单元α，测定石膏块SC的过滤比阻力；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α中的至少一个的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱、水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Ρ1、杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α中的至少一个的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST22中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST22 :是)，控制单元26从吸引压力测定单元Pl仅输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST23)，也可不进行来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入(步骤ST24)、及来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST25)。即，通过来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入进行控制。S卩，本实施方式2的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Η1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元Ρ1，测定真空吸引机构23的吸引压力；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元Pl的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块SC进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pi的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST22中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST22 :是)，控制单元26从杂质盐浓度测定单元Cl仅输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST24)，也可不进行来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入(步骤ST23)、及来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST25)。即，通过来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入，来进行控制。因此，实施方式2的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元H1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自杂质盐浓度测定单元C I的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱 水不足，因此能够维持将石膏块SC进行脱水的脱水性能。并且，通过来自杂质盐浓度测定单元Cl的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST22中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST22 :是)，控制单元26从过滤比阻力测定单元α仅输入石膏块SC的过滤比阻力(步骤ST25)，也可不进行来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入(步骤ST23)、及来杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入(步骤ST24)。即，通过来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入，来进行控制。因此，实施方式2的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ；以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Η1，测定通过带式过滤器22脱水的石膏块SC的水分浓度；过滤比阻力测定单元α，测定石膏块SC的过滤比阻力；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自过滤比阻力测定单元α的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自过滤比阻力测定单元α的输入值，能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST22中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST22 :是)，控制单元26从吸引压力测定单元Pl输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST23)，从杂质盐浓度测定单元Cl输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST24)，不进行来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST25)。即，通过来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入、及来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入，来进行控制。如上所述，实施方式2的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ；以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元H1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元P1，测定真空吸引机构23的吸引压力；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl中的至少一个的输入值脱离规定的设定值的情况下，控制基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pl 和杂质盐浓度测定单元Cl中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST22中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST22 :是)，控制单元26可转移到步骤ST9而进行基于速度可变单元的轮带行进速度的控制。即，可不进行步骤ST23飞T28的控制。因此，实施方式2的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元H1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量的情况下，控制基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。(实施方式3)参照

本实施方式。图6是表示本实施方式的脱硫设备的石膏脱水装置的概要图。此外，在以下说明的实施方式3中，对与上述实施方式I相同的构成附加相同的附图标记，省略其说明。如图6所示，本实施方式的石膏脱水装置2具有上述实施方式I的石膏脱水装置中的加温单元25 ;以及上述实施方式2的速度可变单元(驱动部22c)。并且，石膏脱水装置2具有水分测定单元Hl，该水分测定单元Hl测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度。水分测定单元Hl例如包括以非接触方式测量水分的红外线方式。该水分测定单元Hl配置在将在带式过滤器22中被脱水的石膏S提供到漏斗24之前。并且，石膏脱水装置2具有吸引压力测定单元P1，该吸引压力测定单元Pl测定带式过滤器22的真空压力、即真空吸引机构23中的吸气泵23c的吸引压力。并且，石膏脱水装置2具有杂质盐浓度测定单元Cl，该杂质盐浓度测定单元Cl测定吸收塔I的吸收液A中的作为杂质的盐浓度。作为杂质，例如是Cl、Mg等，测定其盐浓度。杂质盐浓度测定单元Cl提前获得吸收塔I内的吸收液A的电导率和盐浓度的相关，通过测定电导率来推测盐浓度。并且，石膏脱水装置2具有过 滤比阻力测定单元α，该过滤比阻力测定单元α测定石膏块SC的过滤比阻力。过滤比阻力测定单元α设置在抽出部21的抽出管21a的中途，部分取出在抽出管21a中流通的石膏浆液SS，根据公知的公式测定过滤比阻力、即过滤难易的程度。另外，石膏脱水装置2具有表面温度测定单元T2，该表面温度测定单元T2测定石膏块SC的表面温度。表面温度测定单元T2例如包括以非接触方式测量表面温度的红外线方式。该表面温度测定单元T2配置在漏斗24上，该漏斗24接收刚在带式过滤器22中被脱水之后的石骨S。上述水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及表面温度测定单元Τ2的测定数据输入到控制单元26。控制单元26由计算机等构成。控制单元26设有由RAM、R0M等构成而存储程序、数据的存储部(未图示)。存储部中存储的数据是与通过水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及表面温度测定单元T2测定的值对应的设定值。水分测定单元Hl的测定值例如是10wt%,表示石膏S的质量标准。吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、及过滤比阻力测定单元α的设定值是为满足石膏S的质量标准而在运转石膏脱水装置2时设定的值。并且，控制单元26上连接有加温单元25的流量调节阀25e及开关阀25f、和带式过滤器22的驱动部(速度可变单元)22c。该控制单元26根据来自水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及表面温度测定单元Τ2的输入值，按照存储部中存储的程序、数据，控制加温单元25的流量调节阀25e、开关阀25f、及带式过滤器22的驱动部22c。参照图7的流程图说明控制单元26的控制。如图7所示，首先，控制单元26从水分测定单元Hl输入石膏块SC的水分浓度(步骤ST41)。接着，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST42 :是)，控制单元26从吸引压力测定单元Pl输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST43)，从杂质盐浓度测定单元Cl输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST44)，从过滤比阻力测定单元α输入石膏块SC的过滤比阻力(步骤ST45)。接着，在真空压力比设定值增加(步骤ST46 :是)、盐浓度比设定值增加(步骤ST47 :是)、过滤比阻力比设定值增加(步骤ST48 :是)中的至少一个情况下，控制单元26进行增加加温单元25的加温的控制(步骤ST49)。BP,控制单元26将流量调节阀25e、开关阀25f向打开方向控制，从多段喷嘴喷射温水或蒸汽(Q2)，或者增加调节从喷嘴喷射的温水或蒸汽的流量(Q1)，或者从多段喷嘴喷射温水或蒸汽且增加调节从喷嘴喷射的温水或蒸汽的流量(Q1+Q2)，由此提高加温石膏块SC的加温温度。进而，控制单元26控制基于速度可变单元的轮带行进速度的控制(步骤ST50)。S卩，控制单元26控制带式过滤器22的驱动部22c，使辊22b的旋转速度加速，从而加快轮带行进速度(VI )，从而减少石膏块SC的厚度(Dl )。
通过提高加温石膏块SC的加温温度，来盐被溶解，因此水粘度下降，来自石膏块SC的水分的吸引性提高而恢复脱水性。并且，若减少石膏块SC的厚度(D1)，则过滤比阻力降低，因此恢复脱水性能。接着，控制单元26从水分测定单元Hl输入石膏块SC的水分浓度(步骤ST51)。接着，在输入的石膏块SC的水分浓度小于作为设定值的10wt%的情况下(步骤ST52 :是)，控制单元26从表面温度测定单元T2输入石膏块SC的表面温度(步骤ST53)。接着，在石膏块SC的表面温度为规定值以下的情况下(步骤ST54 :是)，控制单元26将加温单元25及速度可变单元恢复到控制初期的状态(步骤ST55)而结束该控制。另一方面，在步骤ST54中，在石膏块SC的表面温度不是规定值以下的情况下(步骤ST54 :否)，控制单元26进行减少加温单元25的加温的控制(步骤ST56)。S卩，控制单元26将流量调节阀25e、开关阀25f向关闭方向控制而减少喷嘴的段数或减少调节从喷嘴喷射的温水或蒸汽的流量，或减少喷嘴段数且减少调节从喷嘴喷射的温水或蒸汽的流量，从而降低加温石膏块SC的加温温度。接着，控制单元26返回到步骤ST51，从水分测定单元 Hl输入石骨块SC的水分浓度。通过将石膏块SC的表面温度维持在规定值以下，尤其能够防止因蒸汽凝缩而造成的水分过多，能够抑制石膏块SC中水分增加的情况。此外，在步骤ST52中，在输入的石膏块SC的水分浓度小于作为设定值的10wt%的情况下(步骤ST52 :否)，返回到步骤ST49。并且，在步骤ST46中真空压力与设定值相比未增加的情况(步骤ST46 :否)、在步骤ST47中盐浓度与设定值相比未增加的情况(步骤ST47 否)、在步骤ST48中过滤比阻力与设定值相比未增加的情况下(步骤ST48 :否)，转移到下述实施方式4的控制。如上所述，实施方式3的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ；以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Hl，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元Pl，测定真空吸引机构23的吸引压力；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；过滤比阻力测定单元α，测定石膏块SC的过滤比阻力；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α中的至少一个的输入值脱离规定的设定值的情况下，同时控制加温单元25的加温状态和基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述的控制单元26的控制中，在步骤ST42中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST42 :是)，控制单元26从吸引压力测定单元Pl仅输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST43)，也可不进行来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入(步骤ST44)、及来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST45)。即，通过来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入，来进行控制。S卩，本实施方式3的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Η1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元Ρ1，测定真空吸引机构23的吸引压力；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以 及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元Pl的输入值脱离规定的设定值的情况下，同时控制加温单元25的加温状态和基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块SC进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pi的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST42中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST42 :是)，控制单元26从杂质盐浓度测定单元Cl仅输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST44)，也可不进行来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入(步骤ST43)、及来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST45)。即，通过来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入，来进行控制。因此，实施方式3的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Η1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自杂质盐浓度测定单元Cl的输入值脱离规定的设定值的情况下，同时控制加温单元25的加温状态和基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块SC进行脱水的脱水性能。并且，通过来自杂质盐浓度测定单元Cl的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。
此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST42中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST42 :是)，控制单元26从过滤比阻力测定单元α仅输入石膏块SC的过滤比阻力(步骤ST45)，也可不进行来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入(步骤ST43)、及来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入(步骤ST44)。即，通过来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入，来进行控制。如上所示，实施方式3的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ；以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Η1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；过滤比阻力测定单元α，测定石膏块SC的过滤比阻力；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自过滤比阻力测定单元α的输入值脱离规定的设定值的情况下，同时控制加温单元25的加温 状态和基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自过滤比阻力测定单元α的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。并且，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST42中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST42 :是)，控制单元26从吸引压力测定单元Pl输入带式过滤器22的真空压力(步骤ST43)，从杂质盐浓度测定单元Cl输入吸收塔I内的盐浓度(步骤ST44)，而不进行来自过滤比阻力测定单元α的石膏块SC的过滤比阻力的输入(步骤ST45)。即，通过来自吸引压力测定单元Pl的带式过滤器22的真空压力的输入、及来自杂质盐浓度测定单元Cl的吸收塔I内的盐浓度的输入，来进行控制。因此，实施方式3的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ;以及真空吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Η1，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；吸引压力测定单元Ρ1，测定真空吸引机构23的吸引压力；杂质盐浓度测定单元Cl，测定吸收塔I内的作为杂质的盐浓度；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或蒸汽进行加温；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量且来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl中的至少一个的输入值脱离规定的设定值的情况下，同时控制加温单元25的加温状态和基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl中的至少一个的输入值，来能够掌握脱水性能下降的初期征兆。此外，在上述控制单元26的控制中，在步骤ST42中，在输入的石膏块SC的水分浓度是作为设定值的10wt%以上的情况下(步骤ST42 :是)，控制单元26可转移到步骤ST49而同时进行加温单元25的加温状态的控制和基于速度可变单元的轮带行进速度的控制。即，能够不进行步骤ST43 ST48的控制。如上所述，实施方式3的脱硫设备的石膏脱水装置2设置在使废气G中的硫磺氧化物在吸收塔I内由吸收液A中的石灰石吸收的脱硫设备105上，并具有带式过滤器22，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔I提供的石膏浆液SS进行脱水而形成石膏块SC ；以及真空 吸引机构23，经由带式过滤器22吸引石膏块SC的水分，该石膏脱水装置2具有水分测定单元Hl，测定通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的水分浓度；加温单元25，将通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC通过温水或热水进行加温；速度可变单元(驱动部22c)，使带式过滤器22的轮带行进速度可变；以及控制单元26，在从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量的情况下，同时控制加温单元25的加温状态和基于速度可变单元的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。(实施方式4)参照

本实施方式。图8是表示本实施方式的脱硫设备的石膏脱水装置的概要图。此外，在以下说明的实施方式4中，对和上述实施方式f 3相同的构成附加同样的附图标记，省略其说明。如图8所示，本实施方式的石膏脱水装置2在上述实施方式1、2、3中具有脱硫量测定单元Λ SO2，该脱硫量测定单元Λ SO2测定吸收塔I中的硫磺氧化物的吸收量。脱硫量测定单元Λ SO2通过测量在吸收塔I中作为废气G的入口的入侧液柱塔Ia的上部入口、和在吸收塔I中作为废气G的出口的出侧液柱塔Ib的上部出口中的气体浓度(SO2浓度)，来计算出脱硫量。并且，本实施方式的石膏脱水装置2在上述实施方式1、2、3中具有传送量可变单元，该传送量可变单元使通过带式过滤器22被脱水的石膏块SC的传送量可变。传送量可变单元是上述抽出部21，具体由阀21c构成。S卩，通过阀21c增减通过抽出管21a的石膏浆液SS的流量，调节对带式过滤器22的石膏浆液SS的供给量，调节带式过滤器22中的石膏块SC的传送量。上述水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及脱硫量测定单元Λ SO2的测定数据输入到控制单元26。控制单元26由计算机等构成。控制单元26设有由RAM、ROM等构成而存储程序、数据的存储部(未图示)。存储部中存储的数据是与通过水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元C I、过滤比阻力测定单元α、及脱硫量测定单元Λ SO2测定的值对应的设定值。水分测定单元Hl的测定值例如是10wt%,表示石膏S的质量标准。吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及脱硫量测定单元Λ SO2的设定值是为满足石膏S的质量标准而在运转石膏脱水装置2时设定的值。并且，控制单元26上连接有带式过滤器22的驱动部(速度可变单元)22c、和抽出部21的阀(传送量可变单元)21c。该控制单元26根据来自水分测定单元H1、吸引压力测定单元P1、杂质盐浓度测定单元Cl、过滤比阻力测定单元α、及脱硫量测定单元ASO2的输入值，按照存储部中存储的程序、数据，控制带式过滤器22的驱动部22c、及抽出部21的阀21c。参照图9的流程图说明控制单元26的控制。首先，该控制在图3、图5及图7所示的控制中，在以下情况下开始即使从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量，但吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α的各输入值未脱离规定的设定值的情况。即，在图3中是步骤ST6、步骤ST7、及步骤ST8是“否”的情况，在图5中是步骤ST26、步骤ST27、及步骤ST28是“否”的情况，在图7中是步骤ST46、步骤ST47、及步骤ST48是“否”的情况。
此时，如图9所示，控制单元26从脱硫量测定单元Λ SO2输入吸收塔I的脱硫量(步骤ST61)。接着，在脱硫量比规定值增加的情况下(步骤ST62 :是)，控制单元26控制传送量可变单元的传送量的增加(步骤ST63)。即，控制单元62将抽出部21的阀21c向打开方向控制，通过增加提供到带式过滤器22的石膏浆液SS的供给量，来增加在带式过滤器22中被脱水的石膏块SC的传送量。再者，控制单元26进行基于速度可变单元的轮带行进速度的控制(步骤ST64)。S卩，控制单元26控制带式过滤器22的驱动部22c而使辊22b的旋转速度加速，从而加快轮带行进速度(VI)，这样一来，抑制石膏块SC的厚度(D I)的增加的同时，增加石膏块SC的供给量(CVl)。在脱硫量比规定值增加时，即，预见生成的石膏浆液SS增加，因此增加在带式过滤器22中被脱水的石膏块SC的传送量，并且为使过滤比阻力不降低而通过减小石膏块SC的厚度(Dl)来恢复脱水性能。接着，控制单元26从水分测定单元Hl输入石膏块SC的水分浓度(步骤ST65)。接着，在输入的石膏块SC的水分浓度小于作为设定值的10wt%的情况下(步骤ST66 :是)，控制单元26使传送量可变单元及速度可变单元恢复到控制初期的状态(步骤ST67)而结束该控制。此外，在步骤ST66中，在输入的石膏块SC的水分浓度小于作为设定值的10wt%的情况下(步骤ST66 :否)，返回到步骤ST63。并且，在步骤ST62中，在脱硫量和设定值相比未增加的情况下(步骤ST62 :否)，催促管理人员进行石膏脱水装置2的各设备及各测定单元的检查及修理(步骤ST68)。如上所述，实施方式4的脱硫设备的石膏脱水装置在上述实施方式f 3中，具有控制单元26，该控制单元26在即使从水分测定单元Hl输入的石膏块SC的水分浓度超过规定量、但吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α的各输入值不脱离规定的设定值的情况下，当从脱硫量测定单元Λ SO2输入的吸收量超过规定量时，同时控制传送量可变单元(阀21c)的传送量的增加和基于速度可变单元(驱动部22c)的轮带行进速度。根据该脱硫设备的石膏脱水装置，通过使用水分测定单元Hl测定带式过滤器22中的脱水后的石膏块SC中的水分浓度并时常进行监视，来尽早掌握脱水不足，尽快恢复脱水不足，因此能够维持将石膏块进行脱水的脱水性能。并且，通过来自吸引压力测定单元Pl和杂质盐浓度测定单元Cl及过滤比阻力测定单元α中的至少一个的输入值难以掌握脱水性能下降的初期征兆的情况下，也能够通过来自脱硫量测定单元Λ SO2的输入值来掌握脱水性能下降的初期征兆。产业可利用性 如上所述，本发明涉及的脱硫设备的石膏脱水装置适于维持脱水性能。
权利要求
1.一种脱硫设备的石膏脱水装置，设置在使废气中的硫磺氧化物在吸收塔内由吸收液中的石灰石吸收的脱硫设备上，该石膏脱水装置具有带式过滤器，将吸收上述硫磺氧化物而由上述吸收塔提供的石膏浆液进行脱水而形成石膏块；以及真空吸引机构，经由上述带式过滤器吸引上述石膏块的水分，其特征在于， 具有: 水分测定单元，测定通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块的水分浓度； 加温单元，将通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块通过温水或蒸汽进行加温；以及 控制单元，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量时，控制上述加温单元的加温状态。
2.根据权利要求I所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有吸引压力测定单元，该吸引压力测定单元用于测定上述真空吸引机构的吸引压力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制上述加温单元的加温状态。
3.根据权利要求I所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有杂质盐浓度测定单元，该杂质盐浓度测定单元用于测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述杂质盐浓度测定单元的输入脱离规定的设定值时，上述控制单元控制上述加温单元的加温状态。
4.根据权利要求I所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有过滤比阻力测定单元，该过滤比阻力测定单元用于测定上述石膏块的过滤比阻力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述过滤比阻力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制上述加温单元的加温状态。
5.根据权利要求I所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有 吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；以及 杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制上述加温单元的加温状态。
6.根据权利要求I所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有 吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力； 杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度；以及 过滤比阻力测定单元，测定上述石膏块的过滤比阻力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元及上述过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，控制上述加温单元的加温状态。
7.根据权利要求1飞中的任一项所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有表面温度测定单元，该表面温度测定单元用于测定上述石膏块的表面温度， 当从上述表面温度测定单元输入的表面温度不是规定值以下时，上述控制单元进行减少上述加温单元的加温的控制。
8.—种脱硫设备的石膏脱水装置，设 置在使废气中的硫磺氧化物在吸收塔内由吸收液中的石灰石吸收的脱硫设备上，该石膏脱水装置具有带式过滤器，将吸收上述硫磺氧化物而由上述吸收塔提供的石膏浆液进行脱水而形成石膏块；以及真空吸引机构，经由上述带式过滤器吸引上述石膏块的水分，其特征在于， 具有 水分测定单元，测定通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块的水分浓度； 速度可变单元，使上述带式过滤器的轮带行进速度可变；以及控制单元，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量时，控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
9.根据权利要求8所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于，还具有吸引压力测定单元，该吸引压力测定单元用于测定上述真空吸引机构的吸引压力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
10.根据权利要求8所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有杂质盐浓度测定单元，该杂质盐浓度测定单元用于测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述杂质盐浓度测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
11.根据权利要求8所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有过滤比阻力测定单元，该过滤比阻力测定单元用于测定上述石膏块的过滤比阻力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述过滤比阻力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
12.根据权利要求8所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有 吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；以及 杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
13.根据权利要求8所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有 吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力； 杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度；以及 过滤比阻力测定单元，测定上述石膏块的过滤比阻力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元及上述过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元控制基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
14.一种脱硫设备的石膏脱水装置，设置在使废气中的硫磺氧化物在吸收塔内由吸收 液中的石灰石吸收的脱硫设备上，该石膏脱水装置具有带式过滤器，将吸收上述硫磺氧化物而由上述吸收塔提供的石膏浆液进行脱水而形成石膏块；以及真空吸引机构，经由上述带式过滤器吸引上述石膏块的水分，其特征在于， 具有 水分测定单元，测定通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块的水分浓度； 加温单元，将通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块通过温水或蒸汽进行加温；速度可变单元，使上述带式过滤器的轮带行进速度可变；以及控制单元，当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量时，控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
15.根据权利要求14所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有吸引压力测定单元，该吸引压力测定单元用于测定上述真空吸引机构的吸引压力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
16.根据权利要求14所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有杂质盐浓度测定单元，该杂质盐浓度测定单元用于测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述杂质盐浓度测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
17.根据权利要求14所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有过滤比阻力测定单元，该过滤比阻力测定单元用于测定上述石膏块的过滤比阻力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述过滤比阻力测定单元的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
18.根据权利要求14所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力；以及 杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
19.根据权利要求14所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有 吸引压力测定单元，测定上述真空吸引机构的吸引压力； 杂质盐浓度测定单元，测定上述吸收塔内的作为杂质的盐浓度；以及 过滤比阻力测定单元，测定上述石膏块的过滤比阻力， 当从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量且来自上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元及上述过滤比阻力测定单元中的至少一个的输入值脱离规定的设定值时，上述控制单元同时控制上述加温单元的加温状态和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
20.根据权利要求1Γ19中的任一项所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有表面温度测定单元，该表面温度测定单元用于测定上述石膏块的表面温度， 当从上述表面温度测定单元输入的表面温度不是规定值以下时，上述控制单元进行减少上述加温单元的加温的控制。
21.根据权利要求6、13或19中的任意一项所述的脱硫设备的石膏脱水装置，其特征在于， 还具有 脱硫量测定单元，测定上述吸收塔中的上述硫磺氧化物的吸收量； 传送量可变单元，使通过上述带式过滤器被脱水的上述石膏块的传送量可变；以及 速度可变单元，使上述带式过滤器的轮带行进速度可变， 上述控制单元在即使从上述水分测定单元输入的上述石膏块的水分浓度超过规定量但上述吸引压力测定单元和上述杂质盐浓度测定单元及上述过滤比阻力测定单元的各输入值不脱离规定的设定值的情况下，当从上述脱硫量测定单元输入的吸收量超过规定量时，同时控制基于上述传送量可变单元的传送量的增加和基于上述速度可变单元的轮带行进速度。
全文摘要
石膏脱水装置(2)设置在使废气(G)中的硫磺氧化物在吸收塔(1)内由吸收液(A)中的石灰石吸收的脱硫设备(105)上，具有带式过滤器(22)，将吸收硫磺氧化物而由吸收塔(1)提供的石膏浆液(SS)进行脱水而形成石膏块(SC)；以及真空吸引机构(23)，经由带式过滤器(22)吸引石膏块(SC)的水分，该石膏脱水装置(2)具有水分测定单元(H1)，测定通过带式过滤器(22)被脱水的石膏块(SC)的水分浓度；加温单元(25)，将通过带式过滤器(22)被脱水的石膏块(SC)通过温水或蒸汽进行加温；控制单元(26)，当从水分测定单元(H1)输入的石膏块(SC)的水分浓度超过规定量时，控制加温单元(25)的加温状态。
文档编号C01F11/46GK102741168SQ201080062878
公开日2012年10月17日 申请日期2010年9月30日 优先权日2010年2月26日
发明者伊藤荣基, 神山直行, 稻叶纪和, 筒井诚, 长安立人, 香川晴治 申请人:三菱重工业株式会社