1.一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片(1)，自所述玻璃基片(1)的表面向外依次沉积形成第一电介质层(2)、低辐射层(4)、第二电介质层(5)及保护层(6)，其特征在于：在第一电介质层(2)与低辐射层(4)之间还设有稳定电介质层(3)，所述稳定电介质层(3)为ZnO或NiCr膜层结构，ZnO膜层厚度为7-11nm，NiCr膜层为3-9nm；所述低辐射层(4)为AgTi膜层结构，AgTi膜层厚度为12-20nm。
2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一电介质层(2)为TiO2或SnO2膜层结构，TiO2膜层厚度为2-5nm，SnO2膜层厚度为6-10nm。
3.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二电介质层(5)为ZnO膜层结构，ZnO膜层厚度为15-28nm。
4.根据权利要求3所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述保护层(6)为TiO2或SnO2膜层结构，TiO2膜层厚度为8-15nm，SnO2膜层厚度为5-12nm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片(1)为浮法玻璃，且在与低辐射层(4)相对的表面上设有一层透明隔热薄膜(7)。
6.根据权利要求1-4任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基片(1)为中空玻璃。