技术总结
本实用新型公开了一种低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片，自所述玻璃基片的表面向外依次沉积形成第一电介质层、低辐射层、第二电介质层及保护层，在第一电介质层与低辐射层之间还设有稳定电介质层，所述稳定电介质层为ZnO或NiCr膜层结构，ZnO膜层厚度为7‑11nm，NiCr膜层为3‑9nm；所述低辐射层为AgTi膜层结构，AgTi膜层厚度为12‑20nm。本实用新型通过采用的低辐射层为AgTi膜沉积而成，并在第一电介质层与低辐射层之间还设有稳定电介质层，使得制得的镀膜玻璃不仅具有很低的辐射率和较高遮蔽系数，能够最大限度地利用太阳能。此外，还使镀膜玻璃的内部具有优良、稳定的物理特性性，使用寿命大大延长。
技术研发人员：庞会军
受保护的技术使用者：钦州市中玻玻璃有限责任公司
文档号码：201621423537
技术研发日：2016.12.23
技术公布日：2017.08.18