一种石墨氧化处理的方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及石墨领域，具体涉及一种石墨氧化处理的方法。
【背景技术】
[0002]石墨烯具有很好的电学性质，以氧化石墨为原料来大规模工业化生产石墨烯，因此近来氧化石墨被聚焦了太多的注意力。目前石墨氧化处理的方法不可靠，导致制作的石墨烯质量有缺陷。
【发明内容】
[0003]本发明解决上述技术问题的技术方案如下:一种石墨氧化处理的方法，包括如下的步骤:
[0004](1)将石墨粉和无水NaN03加入置于浓Η #04中；
[0005](2)再加入氧化剂进行氧化处理；
[0006](3)加入Η202还原剩余的氧化剂；
[0007](4)最后过滤、洗涤、真空脱水即可。
[0008]进一步，所述浓H2S04置于冰浴内。
[0009]进一步，所述氧化剂为ΚΜη04。
[0010]进一步，所述H202的质量分数为30%。
[0011]本发明的有益效果是:本发明提供的一种石墨氧化处理的方法，石墨氧化可靠，提高了氧化石墨制作出来的石墨烯的质量。
【具体实施方式】
[0012]以下结合具体实例对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。
[0013]—种石墨氧化处理的方法，包括如下的步骤:
[0014](5)将石墨粉和无水NaN03加入置于冰浴内的浓Η #04中；
[0015](6)再以KMn04S氧化剂进行氧化处理；
[0016](7)用30% H202还原剩余的氧化剂；
[0017](8)最后过滤、洗涤、真空脱水即可。
[0018]以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种石墨氧化处理的方法，其特征在于，包括如下的步骤: (1)将石墨粉和无水NaN03加入置于浓H2S0#; (2)再加入氧化剂进行氧化处理； (3)加入H202还原剩余的氧化剂； (4)最后过滤、洗涤、真空脱水即可。2.根据权利要求1所述的石墨氧化处理的方法，其特征在于，所述*H2S04置于冰浴内。3.根据权利要求1所述的石墨氧化处理的方法，其特征在于，所述氧化剂为ΚΜη04。4.根据权利要求1至3任一所述的石墨氧化处理的方法，其特征在于，所述Η202的质量分数为30%。
【专利摘要】本发明涉及一种石墨氧化处理的方法，包括如下的步骤：(1)将石墨粉和无水NaNO3加入置于浓H2SO4中；(2)再加入氧化剂进行氧化处理；(3)加入H2O2还原剩余的氧化剂；(4)最后过滤、洗涤、真空脱水即可。本发明提供的一种石墨氧化处理的方法，石墨氧化可靠，提高了氧化石墨制作出来的石墨烯的质量。
【IPC分类】C01B31/00
【公开号】CN105271162
【申请号】CN201510694482
【发明人】张联君, 雷建华
【申请人】广西兴安县桂兴矿粉厂
【公开日】2016年1月27日
【申请日】2015年10月23日