一种电子陶瓷粉体的除铁装置的制造方法

文档序号:8557849阅读:270来源:国知局
一种电子陶瓷粉体的除铁装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及电子陶瓷产品加工设备技术领域,特别涉及一种电子陶瓷粉体的除铁装置。
【背景技术】
[0002]在电子工业中能够利用电、磁性质的陶瓷,称为电子陶瓷。电子陶瓷是通过对表面、晶界和尺寸结构的控制而最终获得具有新功能的陶瓷。在能源、家用电器、汽车等方面可以广泛应用。
[0003]陶瓷干压粉体中含铁物质的存在,不仅会使陶瓷产品上有斑点,有损产品的美观,同时对产品的介电性也有很大的影响,这时就需要一种既实用,又实惠的除铁装置,如果购买市场上动则几万,或者十几万的除铁装置,不仅操作复杂,且维护费用高敖,不利于降低生产成本,而传统的除铁装虽然实用又实惠,操作也简单,但劳动强度高,也不能很好的去除干压粉体的的含铁物质。
【实用新型内容】
[0004]为了解决现有技术的问题,本实用新型实施例提供了一种电子陶瓷粉体的除铁装置。所述技术方案如下:
[0005]提供了一种电子陶瓷粉体的除铁装置,包括:机身,所述机身的上端设置为漏斗形粉体入口,在所述机身的前侧面设置有与所述漏斗形粉体入口相通的粉体下降槽,所述粉体下降槽内横向设置有多根除铁棒;所述除铁棒的两端安装在所述粉体下降槽的两侧侧壁上,所述除铁棒可绕自身轴转动。
[0006]进一步地,所述除铁棒的棒面与所述粉体下降槽槽底之间具有Imm — 2mm的间距。
[0007]进一步地,所述粉体下降槽槽底为呈65° — 75°的倾斜面。
[0008]本实用新型实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
[0009]通过设置除铁棒,粉体必须由除铁棒中流过,能够很好的除去陶瓷粉体的的含铁物质。本方案结构简单,操作方便,能有效的去除陶瓷干压粉体中的含铁物质,改善了陶瓷的色泽,保证了产品的质量。
【附图说明】
[0010]为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0011]图1是本实用新型实施例提供的除铁装置结构示意图。
【具体实施方式】
[0012]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。
实施例
[0013]本实施例提供了一种电子陶瓷粉体的除铁装置,请结合参考图1,该除铁装置包括:机身1,机身I的上端设置为漏斗形粉体入口 11,在机身I的前侧面设置有与漏斗形粉体入口 11相通的粉体下降槽12,粉体下降槽12内横向设置有多根除铁棒13。除铁棒13的两端安装在粉体下降槽12的两侧侧壁上,除铁棒13可绕自身轴转动。
[0014]优选地,除铁棒13的棒面与粉体下降槽12槽底之间具有Imm — 2mm的间距。
[0015]粉体下降槽12槽底为呈65° —75。的倾斜面。
[0016]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种电子陶瓷粉体的除铁装置,其特征在于,包括:机身(I),所述机身(I)的上端设置为漏斗形粉体入口( 11 ),在所述机身(I)的前侧面设置有与所述漏斗形粉体入口( 11)相通的粉体下降槽(12),所述粉体下降槽(12)内横向设置有多根除铁棒(13); 所述除铁棒(13)的两端安装在所述粉体下降槽(12)的两侧侧壁上,所述除铁棒(13)可绕自身轴转动。
2.根据权利要求1所述的一种电子陶瓷粉体的除铁装置,其特征在于,所述除铁棒(13)的棒面与所述粉体下降槽(12)槽底之间具有Imm — 2mm的间距。
3.根据权利要求1所述的一种电子陶瓷粉体的除铁装置,其特征在于,所述粉体下降槽(12)槽底为呈65° — 75°的倾斜面。
【专利摘要】本实用新型公开了一种电子陶瓷粉体的除铁装置,包括:机身(1),所述机身(1)的上端设置为漏斗形粉体入口(11),在所述机身(1)的前侧面设置有与所述漏斗形粉体入口(11)相通的粉体下降槽(12),所述粉体下降槽(12)内横向设置有多根除铁棒(13);所述除铁棒(13)的两端安装在所述粉体下降槽(12)的两侧侧壁上,所述除铁棒(13)可绕自身轴转动。通过设置除铁棒,粉体必须由除铁棒中流过,能够很好的除去陶瓷粉体的含铁物质。本方案结构简单,操作方便,能有效的去除陶瓷干压粉体中的含铁物质,改善了陶瓷的色泽,保证了产品的质量。
【IPC分类】C04B35-626
【公开号】CN204265651
【申请号】CN201420783092
【发明人】方豪杰, 贺亦文
【申请人】湖南省美程陶瓷科技有限公司
【公开日】2015年4月15日
【申请日】2014年12月14日
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