II结构 中的y等于〇，z等于1。，
[0089] 在本发明中，通过改变R'的结构，可W调节光扩散粉的各种性能，如溶解性、玻璃 化转变、折射率等。对于R'或R的结构中，如-OH，-COOH，-N邮'，-NHN此，-CONHN出，S〇3r等亲 水性基团较多时，光扩散粉的亲水性较好;其它基团较多时，光扩散粉的亲油性强，在有机 溶剂中溶解性更好，嚷吩、化晚、化咯、咪挫、苯胺、巧喃、巧挫等杂环结构较多时，玻璃化转 变溫度较高;对于含有氣时，其含氣量将影响光学特性。
[0090] 本发明所述光扩散粉的制备过程可参见图2,图2为光扩散粉的制备过程图。
[0091] 本发明还公开了一种量子点光刻胶，包括上述技术方案所述的光扩散粉上述技术 方案所述方法制备的光扩散粉。所述量子点光刻胶可W为负性光刻胶，也可W为正性光刻 胶，优选为负性光刻胶。
[0092] 所述量子点光刻胶优选的包括0.1-50wt%的所述光扩散粉，更优选的包括3~ 25wt%的所述光扩散粉。即本发明所述的量子点光刻胶可W由市售不含颜料组分的普通量 子点光刻胶中添加本发明所述的光扩散粉得到，或者可W由市售不含颜料组分的普通光刻 胶中添加量子点和本发明所述的光扩散粉得到。优选的，所述光扩散粉均匀的分布在所述 量子点光刻胶中，从而保证量子点光刻胶的均匀性。
[0093] 优选的，所述量子点光刻胶还包括0.05wt % -50wt %量子点、5wt % -45wt %粘合 剂、0.5wt%-18wt%可聚合单体、0 . lwt%-3wt%光引发剂、0 . lwt%-7wt%硅烷偶联剂、 0.1 wt % -Iwt % 其他助剂和40wt % -85wt % 溶剂。
[0094] 其中，所述量子点可W由硫化儒（CdS)、砸化儒（CdSe)、蹄化儒（CdTe)、硫化锋 (ZnS)、砸化锋(ZnSe)、蹄化锋(ZnTe)、硫化隶化gS)、蹄化隶化gTe)、氮化嫁(GaN)、神化嫁 (GaAs)、憐化铜（InP)、神化铜（InAs)中的一种或多种组成，且组成该量子点各个元素的混 合类型可W为均一混合类型、梯度混合类型、核壳类型或联合类型。
[0095] 所述粘合剂可W为丙締酸树脂，不饱和酸酢或不饱和簇酸与苯乙締的共聚物及其 衍生化合物，不饱和聚醋、环氧丙締酸醋、聚氨醋丙締酸醋、聚醋丙締酸醋、聚酸丙締酸醋， W及单官能团单体、多官能团单体，例如二季戊四醇五丙締酸醋(DPHA)、双季戊四醇六丙締 酸醋、二缩丙二醇双丙締酸醋、S缩丙二醇双丙締酸醋、S径甲基丙烷S丙締酸醋(TMPTA)、 二缩=径甲基丙烷四丙締酸醋、脂肪族的聚氨醋丙締酸醋、环氧树脂;优选为丙締酸树脂。
[0096] 所述可聚合单体可W为丙締酸类单体，如1,6-己二醇双丙締酸醋、二缩丙二醇双 丙締酸醋、=缩丙二醇双丙締酸醋、=径甲基丙烷=丙締酸醋、乙氧基化=径甲基丙烷=丙 締酸醋、季戊四醇四丙締酸醋、二缩=径甲基丙烷四丙締酸醋和双季戊四醇五丙締酸醋中 的至少一种。
[0097] 所述光引发剂可W为二咪挫类化合物、安息香类化合物、多核酿类化合物、二苯甲 酬类化合物、苯乙酬类化合物、=嗦类化合物、重氮类化合物、蔥酬类化合物、咕吨酬类化合 物、目亏醋类化合物、舰鐵盐和硫鐵盐中的至少一种。
[0098] 所述助剂可W为润湿流平剂、消泡剂、紫外吸收剂、固着促进剂中的至少一种。
[0099] 所述溶剂可W为脂肪醇、乙二醇单甲酸、乙二醇单乙酸、乙二醇单丙酸、乙二醇单 下酸、二乙二醇二乙酸乙酸乙醋、甲乙酬、甲基异下基酬、单甲基酸乙二醇醋、丫-下内醋、丙 酸一3-乙酸乙醋、下基卡必醇、下基卡必醇醋酸醋、丙二醇单甲基酸、丙二醇单甲基酸醋酸 醋、环己烧、二甲苯、异丙醇中的至少一种。优选为丙二醇单甲基酸、丙二醇单甲基酸醋酸 醋、环己烧、下基卡必醇、下基卡必醇醋酸醋、丫-下内醋中的至少一种。
[0100] 图3为本发明的量子点彩膜的结构示意图。图3中，1表示量子点，2表示光扩散粉。 所述量子点彩膜由加入本发明所述的光扩散粉之后的量子点光刻胶制成。当入射的蓝色光 线照射在光扩散粉上时，光扩散粉能够对光线进行折射或透射，将光线折射或透射至量子 点彩膜中的红色量子点或者绿色量子点上;相对于不添加光扩散粉的量子点光刻胶制成的 量子点彩膜，照射在红色量子点和绿色量子点上的光线增多，因此该红色量子点或绿色量 子点受到激发而发出的光线强度增加，提高了发光和转换效率。
[0101] 本发明另外还公开了一种量子点彩膜，由上述技术方案所述的量子点光刻胶制 成。即：将上述技术方案所述的量子点光刻胶在衬底基板上涂膜、光刻形成图案，得到量子 点彩膜。
[0102] 为了进一步理解本发明，下面结合实施例对本发明提供的光扩散粉、光扩散粉的 制备方法、量子点光刻胶及量子点彩膜进行详细说明，本发明的保护范围不受W下实施例 的限制。
[0103] 实施例1
[0104] 将正辛基立乙氧基硅烷（13.8mg，0.05mmol)溶于20ml乙腊中，然后再加入IOml 0.OlmoVL的盐酸溶液，揽拌，油浴加热90°C下反应12h，停止揽拌，继续在减压下加热固化 5h，得到的固体物依次经Imol/L的盐酸溶液，蒸馈水，乙腊溶液洗涂，最后用丙酬洗涂，60°C 真空干燥，得到光扩散粉。所述光扩散粉具有式II结构，其中R'=CH3(CH2)6CH2-。
[0105] 将红色CdSe/ZnS核壳型量子点分散到量产光刻胶母液(无颜料成分）中，再加入上 述光扩散粉，进行Ih超声分散，混合后的配比为：量子点含量为lOwt%，光扩散粉含量为 20wt %，20wt %丙締酸树脂，IOwt % 1，6-己二醇双丙締酸醋、1.5wt %二苯甲酬类化合物， 3wt%硅烷偶联剂，0.5wt%消泡剂，35wt%乙二醇单甲酸。然后进行涂膜，光刻工艺，形成图 案，得到量子点彩膜。
[0106] 正辛基S乙氧基硅烷的结构式为： ，
[0107] 实施例2
[010引正十八烷基S乙氧基硅烷(20.9mg，0.0 Smmol)溶于20ml乙腊中，然后再加入IOml 0.OlmoVL的盐酸溶液，揽拌，油浴加热90°C下反应12h，停止揽拌，继续在减压下加热固化 3h，得到的固体物依次经Imo 1/L的盐酸溶液，蒸馈水，乙腊溶液洗涂，最后用丙酬洗涂，60°C 真空干燥，得到光扩散粉。所述光扩散粉具有式II结构，其中R'=C出(C出)i6C出-。
[0109] 将红色CdSe/ZnS核壳型量子点分散到市售量产光刻胶母液(无颜料成分）中，再加 入上述光扩散粉，进行化超声分散，混合后的配比为:量子点含量为lOwt%，光扩散粉含量 为20wt %，20wt %丙締酸树脂，IOwt % 1，6-己二醇双丙締酸醋、1.5wt %二苯甲酬类化合物， 3wt %硅烷偶联剂，0.5wt %消泡剂，35wt %乙二醇单甲酸。然后进行涂膜，光刻工艺，形成图 案，得到量子点彩膜。
[0110] 正十八烷基=乙氧基硅烷的结构式关 [011U 实施例3
[0112] (3-环氧丙氧基丙基)S乙氧基硅烷（14. Img,0.05mmol)溶于20ml乙腊中，然后再 加入IOml O.Olmol/L的盐酸溶液，揽拌，油浴加热90°C下反应12h，停止揽拌，继续在减压下 加热固化化，得到的固体物依次经Imol/L的盐酸溶液，蒸馈水，乙腊溶液洗涂，最后用丙酬 洗涂，6(TC真空干燥，得到光扩散粉。
[0113] 将红色CdSe/ZnS核壳型量子点分散到量产彩膜光刻胶母液(无颜料成分）中，量子 点含量为lOwt%，再加入新型光扩散粉，光扩散粉含量为lOwt%，进行化超声分散，混合后 的配比为:量子点含量为lOwt%，光扩散粉含量为lOwt%，30wt%环氧树脂，lOwt% 1,6-己 二醇双丙締酸醋、1.5wt %二苯甲酬类化合物，3wt %硅烷偶联剂，0.5wt %消泡剂，35wt %乙 二醇单甲酸。然后进行涂膜，光刻工艺，形成图案，得到量子点彩膜。所述光扩散粉具有式II 结构，
[0114] 其叫
[0115] 此种扩散粉含有环氧结构，与环氧树脂结构类似，用于环氧树脂型光刻胶中可增 加扩散粉与光刻胶的相容性。
[0116] 实施例4
[0117] 苄基S乙氧基硅烷（12. 7mg，0.0 Smmol )溶于20ml乙腊中，然后再加入 IOmlO.OlmoVL的盐酸溶液，揽拌，油浴加热90°C下反应12h，停止揽拌，继续在减压下加热 固化8h，得到的固体物依次经Imol/L的盐酸溶液，蒸馈水，乙腊溶液洗涂，最后用丙酬洗涂， 60°C真空干燥，得到并扩部粉。所述光扩散粉具有式II结构，
[011引其中 O
[0119] 将红色CdSe/ZnS核壳型量子点分散到量产光刻胶母液(无颜料成分）中，再加入上 述光扩散粉，进行Ih超声分散，混合后的配比为：量子点含量为lOwt%，光扩散粉含量为 30wt %，20wt %丙締酸树脂，IOwt % 1，