专利名称：涂布装置及涂布方法
技术领域：
本发明涉及涂布装置及涂布方法，特别涉及甚至在基片高速行进的状态下，也能用杆式涂布器把涂布液稳定地涂布在基片上的涂布装置及涂布方法。
背景技术：
通常制作平版如下至少将纯铝或铝合金片的一个表面粗化，并根据需要在其上形成阳离子膜，从而制成基片；然后，在该基片粗化面上涂施光敏形成层液或热敏形成层液，并干燥形成光敏或热敏印刷面。
在类似这种基片的带状基片涂布类似光敏形成层液或热敏形成层液中的一种涂布液时，通常使用杆式涂布器。
作为杆式涂布器，常用涂布器具有一个条杆和一个涂布部，条杆与连续运行基片的底面相接触并在基片运行方向同向或反向中旋转，涂布部在相对基片运行方向上游侧(此后简称“上游侧”)释放涂布液，形成用涂液涂布基片底面的涂液池。
作为上述的杆式涂布器，一般使用的有SLB型杆式涂布器(日本实用新型申请号63-126213)和PBS型杆式涂布器(日本专利申请公开号(JP-B)58-004589)；SLB型杆式涂布器在条杆上游侧邻近条杆处设置有一个第一挡板，其结构为相对基片运行方向朝下游侧(以后简称“下游侧”)顶末端渐渐变薄，并且顶末端向条杆弯曲，在顶部有长为0.1mm-1mm的平面；PBS型杆式涂布器具有朝条杆下游侧顶末端渐渐变薄的该第一挡板和设置在该条杆下游侧的一个第二挡板。
但是，当该基片的转动速度增加时，随该基片产生空气流动，即，在该基片表面形成伴随基片的空气膜。
无论是用SLB型杆式涂布器还是用PBS型杆式涂布器，当基片表面形成伴随空气膜时，该伴随空气膜带来的问题是由基片把伴随空气膜带入涂布部的涂液池，导致基片表面由涂布液形成类似不连续涂布膜的缺陷，阻碍了涂布液的稳定涂布。
发明内容
本发明的目的是提供能稳定进行涂布的涂布装置及涂布方法，即使在类似上述基片的基片以足以在基片表面形成伴随空气膜的高速下转动也不会产生类似不连续涂布膜的缺陷。
为了达到上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种在输送路径中传送基片的同时用涂布液涂布基片的装置，该装置包括条杆、供液通路和防止空气侵入的结构，条杆沿输送道配置且在传送基片时与基片接触，该条杆可绕轴旋转；接近该条杆处的供液通路具有一个开口，在相对基片传送方向的条杆上游，通过该通路把涂布液提供给在基片与条杆之间形成的涂液池；防止空气侵入的结构使流体相对基片传送方向沿涂液池上游基片表面流动，防止了基片表面产生的空气膜侵入在条杆与基片间。
根据本发明的另一个方面，提供了一种涂布基片的方法，该方法包括以下步骤在基片与条杆接触的同时传送基片；给条杆与基片间的一个涂布部提供涂布液；通过使流体沿着要被涂布基片的表面流动防止空气膜侵入进涂布部。
图1是表示本发明涂布装置一个实施例图示结构的透视图；图2是表示对图1所示涂布装置沿基片运行方向垂直面切割的横剖面图；图3是表示图1所示装置中在基片、条杆、条杆支撑件与涂液流动形成面间光敏形成层液具体流动的横剖面图；图4是表示本发明涂布装置另一实施例沿基片运行方向垂直面切割图示结构的横剖面图；图5是表示本发明涂布装置又一实施例沿基片运行方向垂直面切割图示结构的横剖面图；图6是表示本发明涂布装置一个实施例图示结构的透视图，该实施例具有涂布液供给流动通路，其中垂直方向中形成的通孔是成一列排置的；图7是表示对图6所示涂布装置沿基片运行方向垂直面切割的横剖面图；图8是横剖面图，表示第一种实施形式涂布装置中在挡板形成涂布液流表面的上游侧末端部，在沿长度方向设置有连续突起实施例子中，沿基片运行方向垂直面切割的横剖面；图9是横剖面图，表示第一种实施形式涂布装置中在挡板6中心设置有辅助涂液供给通路实施例子中，沿基片运行方向垂直面切割的横剖面；
图10是表示比较实施例1中所用HSB型杆式涂布器图示结构的横剖面图；图11是表示比较实施例2中所用SLB型杆式涂布器图示结构的横剖面图；图12是表示比较实施例3中所用PBS型杆式涂布器图示结构的横剖面图。
具体实施形式1.第一种实施形式图1和图2表示本发明涂布装置一个实施例的图示结构。
如图1和图2所示，第一种实施形式的杆式涂布器100具有条杆2、条杆支撑件4、挡板6以及基部8，条杆2在运行方向(a)中沿运行通道与正被传送基片W的底面接触，且绕轴旋转；条杆支撑件4沿该条杆2的长度方向设置，并从底侧支撑该条杆2；挡板6设置为从该条杆支撑件4的上游侧处平行于该条杆支撑件4，并在其顶表面形成有为平板的涂布液流动形成面(液流形成面)；在基部8上固定该条杆支撑件4和挡板6。
条杆2的旋转方向与基片W运行的传送方向(a)(此后简称为“运行方向(a)”)相反，即图1和图2中的顺时针方向。条杆2旋转的旋转速度定为使周速度为基片W运行速度的1％或小于该运行速度。不过条杆2的旋转方向可以与运行方向(a)相同。
条杆2的表面可以制成光滑的，也可以在周向上按预定间隔设置凹槽，还可密集用铁丝缠绕。缠绕条杆2的铁丝直径可为0.07mm至1mm，最好为0.07mm至0.4mm。在此，对条杆2设置的凹槽或铁丝缠绕，通过减小凹槽深度或铁丝尺寸可以使光敏形成层液的涂布厚度变薄，通过增加凹槽深度或铁丝尺寸可以使光敏形成层液的涂布厚度变厚。
为了便于安装且使基片W上形成的光敏形成层液的涂布膜随后不会产生竖条，条杆2的直径可以为6mm至25mm。
通常条杆2还要比基片W的宽度长，但也可以与基片的宽度等长。
如图1和图2所示，由于通常在基片与条杆2接触的状态时施加张力，基片中心处与条杆2接触部分向下弯曲，换句话说，弯成屋顶(circumflex)形状。基片W在条杆2上游的部分与水平面之间形成的角度θ可为0°至5°，最好为0°至3°。另外，基片W在条杆2下游的部分与水平面之间形成的角度Φ可以为3°至18°，最好为5°至10°。
条杆支撑件4基本为平板状件，并带有压槽4A，压槽4A具有横剖面中形成象字母J的内壁面。条杆2可从其底侧由压槽4A转动支撑。
条杆支撑件4的顶面4B的结构为配置在压槽4A上游侧且低于基片W的运行面T(参见图2)。条杆支撑件4的上游侧壁面即与挡板6相对壁面结构为垂直面。位于条杆支撑件4压槽4A下游侧处的下游侧壁4C低于顶面4B，且形成有沿运行方向(a)向下倾斜状的顶面。
挡板6是沿垂直面延伸着的板状件，且在其底末端部处朝上游侧以锐角弯曲，形成在整个横剖面中为字母L的形状。挡板6在底末端处固定到底部8上。在挡板6的顶面形成有涂液流动形成面6A，它具有平板状末端部。如图1和图2所示，涂液流动形成面6A在杆式涂布器100中是一个水平板，但并不限定为水平板，可以是与运行方向(a)反向即朝上游侧的向上倾斜板，或者是向上凸入的圆筒面。
挡板6的结构为涂液流动形成面6A处于低于基片W运行面T的位置。因而，当给基片W施加光敏形成层液时，在基片W的底面与涂液流动形成面6A之间形成涂液流动形成的流动通路B。
在沿运行方向(a)的方向中涂液流动形成面6A的宽度(厚度)，换句话说，在沿运行方向(a)的方向中涂液流动形成的流动通路B的长度，可以大于0.1mm，最大为20mm，最好为3mm至10mm。
挡板6的结构为，涂液流动形成流动通路B的厚度即基片W与涂液流动形成面6A间的空间，是0.25mm至2mm。
如上所述，基片W在运行状态中被弯成屋顶(circumflex)形状，在这种形状的中心处有一部分与条杆2接触，所以，如上所述，涂液流动形成面6A是在该水平面形成的，但涂液流动形成的流动通路B沿运行方向(a)的反向厚度降低。
如图1和图2所示，在条杆涂布器100中，涂液流动形成面6A高于条杆支撑件4上游侧壁4B的顶端面。例如其间的高度差异可以是0.5mm，但也可大于或小于0.5mm。不过，为了防止沿基片W宽向朝外侧产生光敏形成层液流动并防止在条杆2与基片W间造成光敏形成层液不均匀，这种高度差异不要大于1mm。涂液流动形成面6A也可以与上游侧壁4B的顶端表面等高，或低于上游侧壁4B的顶端面。不过，即使涂液流动形成面6A低于上游侧壁4B的顶端面，高度差异最好也不超过1mm。
壁件6下游侧壁面即相对条杆支撑件4的壁面平行于与其相对的条杆支撑件4上游壁4B上游壁面的垂直面，但并不限定于此。
条杆支撑件4上游壁4B上游壁面和挡板6下游壁面形成缝状涂液供流通路10(本发明的供液通路)。形成涂液供流通路10的两个表面是彼此平行的垂直面，所以，涂液供流通路10也是沿着平行于条杆2的垂直面延伸的。涂液供流通路10沿着运行方向(a)的长度不大于2mm，最好为0.2mm至0.8mm。
涂液供流通路10在其底端与基部8中形成的贮存室12连通，贮存室12用于临时贮存涂液。涂液供流通路10的功能是控制光敏形成层液朝向基片W，以便在基片W运行时在基片W、条杆2和条杆支撑件4间形成涂液池A。条杆支撑件4、挡板6和涂液供流通路10形成本发明涂布装置的涂布部。挡板6还对应着本发明涂布装置中产生压力的部分。
涂液临时贮存室12连接到从光敏形成层液贮存桶(未示出)供给光敏形成层液的涂液泵P的释放侧，其功能是临时贮存从涂液泵P供给的光敏形成层液，并在涂液泵P变化释放量时减小通过涂液供流通路10供给光敏形成层液流动中的差异。
在挡板6上游及条杆支撑件4下游的基部8分别有溢流槽14和溢流槽16，溢流槽14用于接收涂液流动形成面6A与基片W底面间流动的涂液，溢流槽16接收没有附加到基片W上而是溢流到下游的涂液。
溢流槽14与16通过涂液返回管(未示出)连接到上述的贮存桶上，用于返回被接收的涂液。
如图1和图2所示，在基部8的两端侧固定侧板18和20。侧板18和20形成溢流槽14与16的侧壁，以及涂液供流通路10与涂液临时贮存室12的侧壁。
下面说明杆式涂布器100的作业。
在图3中详细示出了在基片W、条杆2、条杆支撑件4及涂液流动形成面6A处的光敏形成层液的流动。
基片W匀速连续运行经过杆式涂布器100，使形成阳离子膜的表面是底面，条杆2以5rpm的速度在图示运行面T的运行方向(a)反向中旋转，即图1至图3箭头所示顺时针方向。
当光敏形成层液从涂液泵P被释放时，先把该光敏形成层液贮存在涂液临时贮存室12中。当涂液临时贮存室12充满光敏形成层液时，如图3中的箭头(b)所示，光敏形成层液上移进涂液供流通路10中，如箭头(c)所示，最后到达涂液池A，被施加到基片W侧的表面上，在该侧形成阳离子氧化膜并随之沿着运行方向(a)移动。当基片W经过条杆2时，由条杆的刮涂作用，使施加到基片W上的光敏形成层液形成具有预定厚度的涂层。
同时，如图3中的箭头(d)所示，已上移通过涂液供流通路10的光敏形成层液剩余部分流进涂液流形成流动通路B，并在运行方向(a)的反向中形成涂液流(f)。
由于涂液流(f)在运行方向(a)的反向中产生动力学压力，如图3所示，沿基片W运行方向(a)带入的接近杆式涂布器100伴随空气膜M被推出到涂液流动形成流动通路B的入口处上游侧。
这就防止了把伴随空气膜带入涂液池A中。
在此，在涂液流动形成流动通路B产生涂液流(f)所必须的泵P释放量可以按下列方式确定。
假定没有出现涂液流(f)，涂液被认为是在涂液流动形成流动通路B中沿运行方向(a)以相应于基片W运行速度V的流速(u)流动。
例如，利用下式，根据实验数据等可以估测上述流速(u)u＝((0.6145×602×V2)-(10.681×60×V)+35.179)×(10-6/t)×Wd(1)其中，Wd表示基片W的宽度，t表示涂液流动形成流动通路B的平均厚度。
那么，具有流速(u)的流动动力学压力Pu(Kg/cm2)由下式确定Pu＝ρ×u2/2其中，ρ表示涂液比重。
在此，为了确保防止把伴随空气膜带入涂液池A中，涂液流动形成流动通路B中的涂液流(u)的流速(v)在运向方向(a)的反向中要足以产生0.5kg/cm2或更大的动力学压力。
流速可以由下式来确定Pu+0.5(kg/cm2)＝(ρ×u2+0.5)/2＝ρ×v2/2必须在涂液流动形成流动通路B中产生流速(u)的泵流F由下式确定F＝V×t×Wd因此，在杆式涂布器100中，为了产生上述涂液流(f)，要令由泵流F确定的泵P释放流要大于传统SLB型杆式涂布器中泵的释放流。
在杆式涂布器100中，即使基片W高速运行，也不会把基片W表面处的伴随空气膜带入涂液池A中，因此，能稳定地施加光敏形成层液。所以，这显著提高了平版的生产效率，明显降低了次品产生的概率。
另外，用本实施形式中的挡板替换传统的SLB型杆式涂布器就能简单地构成杆式涂布器100。因此，本实施形式的特点是无需对传统涂布器进行复杂的变化。
2.第二种实施形式在图4中示出了本发明涂布装置另一种实施形式的图示结构。除了其它说明以外，图4中与图1至图3所用部件相同部件使用与图1至图3相同的参照字符。
如图4所示，在第二种实施形式的杆式涂布器102中，涂液流动形成面6A是在朝上游侧斜向上状形成表面的。
因此，即使涂液流(f)的流动速度低，杆式涂布器102的涂液流动形成流动通路B也会产生较大的动力学压力，因为厚度降低程度比在杆式涂布器100中的大。
除了上述几点外，杆式涂布器102具有与杆式涂布器100相同的结构。
所以，除了具有与杆式涂布器100相同的特征外，杆式涂布器102还具有的特征是，即使在从泵P供给的涂液量少时，也能有效地防止把伴随空气带进涂液池A中。
3.第三种实施形式在图5中示出了本发明涂布装置又一种实施形式的图示结构。除了其它说明以外，图5中与图1至图3所用部件相同部件使用与图1至图3相同的参照字符。
如图5所示，在第三种实施形式的杆式涂布器104中，涂液流动形成面6A是在形状为圆筒形表面形成的，且向上凸出，该圆筒形表面沿着运行方向(a)反向接近基片W的运行面T。
除了上述几点外，杆式涂布器102具有与杆式涂布器100相同的结构。
在杆式涂布器104的涂液流动形成流动通路B中，因与上述杆式涂布器102相同的原因，即使涂液流(f)的流动速度低，也会产生比杆式涂布器100的涂液流动形成流动通路B中更大的动力学压力。
所以，除了具有与杆式涂布器100相同的特征外，杆式涂布器104还具有的特征是，即使在从泵P供给的涂液量少也能有效地防止把伴随空气带进涂液池A中。
4.第四种实施形式在本发明的涂布装置中，具有涂液供流通路的一种实施形式如图7和图8中所示，在垂直方向中配置有一列通孔。
除了其它说明以外，图6和图7中与图1至图3所用部件相同部件使用与图1至图3相同的参照字符。
如在图6和图7中所示，在第四种实施形式的杆式涂布器106中，沿着与基片W运行方向(a)垂直的方向在基部8上配置象长厚板块状的条杆支撑件30。
条杆支撑件30顶面扁平状，沿下游侧的侧面带有压槽30A，该压槽30A具有截面象字母J形的内壁面。由该压槽30A从底侧可旋转支撑条杆2。
涂液供给口32从条杆支撑件30的压槽30A的上游侧的垂直方向穿出。涂液供给口32与本发明涂布装置中供液通路对应。如图6所示，涂液供给口32是沿条杆支撑件30长度方向按预定间隔成一列设置的。
涂液供给口32的直径可以为1mm或更小，最好为0.2mm至0.8mm。涂液供给口32的间隔没有特殊的限定值，只要光敏形成层液的涂布的不均匀性不在宽度方向扩展就可以，但最好为0.5mm至3mm。
涂液供给口32在其底端与涂液临时贮存室12在底部连通。
在杆式涂布器106中，条杆支撑件30、涂液供给口32和条杆2形成本发明涂布装置的涂布部。
除了上述几点外，杆式涂布器106具有与第一种实施形式涂布装置相同的结构。
随着基片W运行当涂液从杆式涂布器106中的涂液供给口32释放时，大部分涂液供给涂液池A，该涂液池A是由自涂液供给口32下游的条杆支撑件30顶面、基片W底面和条杆2外周面的上游侧围成的，涂液被施加给基片W的底面。
同时，剩余的涂液从涂液供给口32和基片W底面流进由上游侧处条杆支撑件30顶面形成的涂液流动形成流动通路B，形成与运行方向(a)反向的、朝向上游侧的涂液流(f)，然后从顶面上游侧缘向下流动。
由涂液流动形成流动通路B中的涂液流(f)把基片W表面上产生的伴随空气膜推回到上游侧，因此有效防止了把伴随空气膜带进涂液池A。
所以，与杆式涂布器100的情况相同，即使在基片W运行速度高的情况下，杆式涂布器106也能进行稳定涂布。
条杆支撑件30是条杆支撑件4与第一种实施形式杆式涂布器100的挡板6组装的部件。所以，除了具有杆式涂布器100的特点外，杆式涂布器106还具有特点结构部件少，且不需对条杆支撑件4与挡板6间的间隙进行调节。
5.第五种实施形式图8所示的实施形式是在第一种实施形式杆式涂布器100中挡板6的涂液流动形成面6A上游侧端处设置一个沿长度方向连续伸展着的突起。在图8中除了其它说明外，与图1至图3相同的部件采用与图1至图3相同参照字符。
如图8所示，在第五种实施形式中的杆式涂布器108中，把突起6B设置在挡板6的涂液流动形成面6A上游侧端处。
突起6B在挡板6的长度方向中伸展，换言之，是在运行方向(a)的周向中伸展的，并具有矩形截面。不过突起6B的截面并不限定为矩形，也可以是各种形状，如半园形、梯形、三角形等。
除了上述几点外，杆式涂布器108具有与杆式涂布器100相同的结构。
下面说明杆式涂布器108的作业。
由于在突起6B处涂液流动形成流动通路B的截面区变窄，在涂液流动形成流动通路B中朝向上游侧前进的涂液流动在设置突起6B处流速增加。在此，流动的动力学压力与流速的平方成比例，因此，在这个区产生较高的动力学压力。
所以，即使在泵P的释放流降低的情况下杆式涂布器108也能高效地阻止伴随空气膜被带进涂液池，因此，即使在基片W的运行速度增加使涂布厚度降低的情况下，杆式涂布器108也能稳定地进行涂布。
6.第六种实施形式图9所示的例子是在第一种实施形式的杆式涂布器100挡板6中心处设置有一个辅助供液通道。在图9中，除了其它说明外，与图1至图3相同的部件采用与图1至图3相同参照字符。
如图9所示，在第六种实施形式的杆式涂布器110中，把与此涂液供流通路10连通的涂液临时贮存室12连到涂液泵P1上。
在挡板6中心中设置平行于涂液供流通路10的缝状辅助供流通道40。
缝状辅助供流通道40的一端在涂液流动形成面6A处开口，另一端连接到给缝状辅助供流通道40供液的供液泵P2上。液体可以是光敏形成层液或是与涂液亲和的亲和液体，如涂液的溶剂，并且是不会改变涂液质量的液体。
除了上述几点外，杆式涂布器110具有与杆式涂布器100相同的结构。所以，当从涂液供流通路10供给涂液时，与使用杆式涂布器100的情况相同，大部分涂液供给到由基片W、条杆2和条杆支撑件4围成的空间，形成涂液池A，并且施加到基片W的底面。剩余的涂液流进涂液流动形成流动通路B，并形成头向上游侧的涂液流(f)。
例如，在这种状态下把涂液从第二涂液泵P2供给缝状辅助供流通道40时，该涂液从缝状辅助供流通道40被释放到涂液流动形成流动通路B。但由于涂液流动形成流动通路B中涂液流(f)的阻挡，该涂液流不会前进到下游侧，从而，在涂液流动形成流动通路B上游侧出口附近基片W运行方向的反向中，导向上游侧并形成液流。由于在这种液流中在与涂液流(f)相同方向从缝状辅助供流通道40流动着的涂液流被加到涂液流(f)中，流速比涂液流(f)本身的要高。
所以，除了杆式涂布器100的特点外，杆式涂布器110还具有特点即使在从涂液供流通路10供给的涂液流速低的情况下，因在涂液流动形成流动通路B上游侧出口附近形成的液流速度高，杆式涂布器110也能有效地阻止伴随空气膜带进涂液池A。
杆式涂布器110还有一个特点在于通过控制从缝状辅助供流通道40供给涂液或亲和液的流速，能控制涂液流动形成流动通路B上游侧出口附近的液流速度，而不依赖于涂液供流通路10中涂液的流速。
下面举例详细说明本发明。然而，本发明并不限定在下述实例的范围。
实施例(实施例1)把宽1m铝片的一个表面粗化，再进行阳离子氧化制成基片W。
把光敏物、粘合剂、活化剂、染料和加厚剂溶解在有机溶剂中制成光敏形成层液。制备的光敏形成层液的粘度为25cp和50cp。
然后，使用图1和图2所示的杆式涂布器100，把该光敏形成层液施加到基片W上，条件如下给涂液供流通路10供液的供给速率为100,000cc/m2·sec；施加给基片W的张力为100kg/m；在基片W运行方向(a)反向中条杆2的旋转速度为5rpm。
在杆式涂布器100中，涂液供流通路10的厚度为0.5mm，挡板6的涂液流动形成面6A与基片W间的距离为0.5mm。另外，涂液流动形成面6A比条杆支撑件4上游侧壁4B的顶端面高0.5mm。
在使用这两种粘度光敏形成层液之一的两种情况下，在基片W的供给速度达到200m/min前，观察到的液体是连续的，涂覆表面是均匀的。
(实施例2)
使用图8所示的杆式涂布器108把该光敏形成层液施加给类似实施例1中基片W的基片W，在涂液供流通路10中液体供给速度为70,000 cc/m2·sec。
施加给该基片W的张力、条杆2的旋转方向和速度、涂液供流通路10的厚度、挡板6的涂液流动形成面6A与基片W间的距离以及涂液流动形成面6A与条杆支撑件4中上游侧壁4B顶端面间的高度差均与实施例1相同。另外，作为光敏形成层液，使用了实施例1所用两种之一粘度为25cp的那一类。
在基片W的供给速度达到200m/min前观察到的液体是连续的，涂覆表面是均匀的。
(比较实施例1)使用图10所示的HSB型杆式涂布器替换本发明的涂布装置，把与实施例1相同光敏形成层液施加给与实施例1相同的基片W。
如图10所示，HSB型杆式涂布器112具有一个第一挡板60的结构，该第一挡板60替换了第一种实施方式中杆式涂布器100的挡板6。第一挡板60与在第一种至第五种实施方式中杆式涂布器上设置的挡板6是不同的，第一挡板60中顶端部流动通路的厚度朝下游侧降低。
除了上述几点外，HSB型杆式涂布器112的结构与杆式涂布器100的结构是相同的。
在HSB型杆式涂布器112中，涂液供流通路10的厚度是0.8mm，第一挡板60与基片W间的距离是0.5mm。另外，第一挡板60比条杆支撑件4上游侧壁4B顶端面高0.5mm。
把与实施例1中所用同样大小的张力施加给基片W，并使用与实施例1中所用相同的光敏形成层液。
在使用粘度为25cp的光敏形成层液的情况下，在基片W的运行速度达到120m/min前观察到的液体是连续的，但在运行速度高于120m/min时，产生非连续液涂布。另外，在使用粘度为50的光敏形成层液时也产生了非连续液涂布。
(比较实施例2)替换本发明的涂布装置，使用日本实用新型申请号为63-126232所公开的SLB型杆式涂布器，并用与实施例1中所用相同的基片W及光敏形成层液。SLB型杆式涂布器的结构在图11中示出。
如图11所示，在SLB型杆式涂布器114中，把位于上游侧的第一挡板62的顶端部从条杆2和条杆支撑件4弯向条杆2，并在顶部形成长为0.1mm至1mm的平面。
在这个比较实施例中，涂液供流通路10的厚度是5.0mm。另外，第一挡板62比条杆支撑件4上游侧壁4B顶端面高0.5mm。除了上述几点外，这种杆式涂布器的结构与杆式涂布器100的结构是相同的。另外，施加给基片W的张力及基片W的运行速度都与实施例1中的是相同的。
在基片W的运行速度达到60m/min前都可以进行涂布，但当运行速度超过60m/min时产生非连续涂布。另外，当用粘度为50cp的光敏形成层液替换粘度为25cp的光敏形成层液时也会产生非连续涂布。
(比较实施例3)替换本发明的涂布装置，使用JP-B58-4589所公开的PBS型杆式涂布器，并用与实施例1中所用相同的基片W及光敏形成层液。PBS型杆式涂布器的结构在图12中示出。
如图12所示，在PBS型杆式涂布器116中，把一个第二挡板64设置在与第一位挡板60侧相对的条杆支撑件4一侧上。
第二挡板64与第一种至第五种实施方式中杆式涂布器上设置的挡板6不同，第二挡板64中底端部弯向下游侧，且顶端部朝向上游侧流动通路的厚度降低。
另外，在第二挡板64与条杆支撑件4间设置有辅助供液通路10’，用于给基片W供给涂液，如光敏形成层液等。辅助供液通路10’也是与涂液临时贮存室12连通的。
在该比较实施例中，涂液供流通路10的厚度与辅助供液通路10’的厚度均为5.0mm。第一挡板60与基片W间的距离以及第二挡板64与基片W间的距离均为3mm。另外，第一挡板60和第二挡板64均比条杆支撑件4上游侧壁4B顶端面高1mm。
把与实施例1中所用相同张力施加给基片W，并使用与实施例1中所用相同的光敏形成层液。不过从粘度来看，只使用了粘度为25cp的光敏形成层液。
当基片W以20m/min的速度运行时，在涂覆表面上产生了细纹状纹条。
如上所述，使用本发明提供的涂布装置及涂布方法能进行稳定的涂布，即使基片高速运行也不会产生非连续涂布膜。
权利要求
1.一种在基片沿运行路径被传送的同时用涂液涂覆基片的装置，其特征在于该装置包括条杆、供液通路、防止空气侵入结构；条杆沿运行路径配置，并在基片被传送时与基片接触，且可绕轴旋转；供液通路在相对基片传送方向的条杆上游临近条杆处有开口，通过供液通路在基片与条杆间形成供给涂液的涂液池；防止空气侵入结构使流体相对基片传送方向沿涂液池上游的基片表面流动，并阻止基片表面产生的空气膜侵入条杆与基片之间。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于流体流动的方向与基片传送方向相反。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于流体包括涂液。
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于防止空气侵入结构至少包括供液通路部分壁面、及配置在供液通路相对基片传送方向的上游的挡板。
5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于挡板具有顶面，该顶面包括流体流动形成面，其中在涂布期间，从供液通路供给的一些涂液在流体流动形成面与基片间流动，形成与基片传送方向反向的流体流动。
6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于流体流动形成面沿基片传送方向的长度大于0.1mm，最大为20mm。
7.根据权利要求5所述的装置，其特征在于挡片与基片间间距离为0.25mm-2mm。
8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于供液通路的开口沿基片宽度的伸展长度以及沿传送方向的宽度最大为2mm。
9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于条杆在与基片传送方向的反向中旋转。
10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于条杆在与基片传送方向的非反向中旋转。
11.根据权利要求5所述的装置，其特征在于流体流动形成面具有沿基片传送方向反向朝基片表面倾斜的表面。
12.根据权利要求11所述的装置，其特征在于流体流动形成面具有实质上扁平的表面。
13.根据权利要求11所述的装置，其特征在于流体流动形成面具有弯曲表面。
14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于弯曲表面在面对基片的方向中是凸形的。
15.根据权利要求1所述的装置，其特征在于供流通路具有多个沿基片宽度延伸的涂液供给口。
16.根据权利要求5所述的装置，其特征在于在相对基片传送方向的上游侧部，流体流动形成面具有向基片突出的突起。
17.根据权利要求3所述的装置，其特征在于防止空气侵入结构至少包括供液通路部分壁面、另一供液通路以及配置在供液通路相对基片传送方向的上游的挡板。
18.根据权利要求17所述的装置，其特征在于还包括连接到供液通路上第一压力源以及连接到另一供液通路上的第二压力源。
19.一种涂布基片的方法，其特征在于该方法包括步骤在基片与条杆接触的同时传送该基片；把涂液供到在条杆与基片间的涂布部；通过使流体沿要被涂覆基片表面流动阻止空气膜侵入到涂布部。
20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于还包括旋转条杆的步骤。
全文摘要
能稳定进行涂布的涂布装置及涂布方法,即使在基片高速运行时也不会产生类似非连续涂布膜的缺陷。该涂布装置包括:条杆、供液通路、防止空气侵入结构;条杆与基片接触,并可绕轴旋转;供液通路配置在条杆上游临近条杆处,在基片与条杆间提供要供给基片的涂液,并在基片运行时形成涂液池;防止空气侵入结构配置在涂液池的上游侧,产生沿基片表面的液流,以阻止基片运行中基片表面产生的伴随空气膜侵入涂液池。
文档编号B05C3/12GK1373012SQ0114485
公开日2002年10月9日 申请日期2001年12月26日 优先权日2000年12月26日
发明者菅家伸, 松本悟, 西野刚, 舟桥进一 申请人:富士胶片株式会社