本专利属于改善表面结构新材料领域,具体涉及一种硬化液。
背景技术:
随着高端电子产品触控技术的普及,itofilm产品和技术获得飞速的发展。itofilm基膜是一种具有防粘连功能的硬化膜,还具有硬度优良、耐刮伤性能、良好的透光率等特性。这些性能都是通过硬化液固化成膜后所提供的性能,是决定itofilm基膜良率及好坏的标准。
技术实现要素:
为了提供一种具有较好防粘连性、耐磨性,较高的硬度和透光率的itofilm基膜,满足市场需要,本专利提供一种可紫外光固化防粘连硬化液。该硬化液具备性能能够满足生产itofilm基膜的需求。
为了达到上述目的,
本技术:
采用下述技术方案:
本专利提供一种可紫外光固化防粘连硬化液,所述硬化液成分包括聚氨酯丙烯酸酯、有机无机杂化树脂、有机硅树脂,羟基酮类、酰基膦氧化物、苯偶酰类,活性稀释剂,溶剂,二氧化硅分散液及聚酯改性有机硅树脂,所述硬化液至少含有上述化学物质的一种或多种。
进一步的,上述硬化液中,所述吸收紫外光物质,主要有所述羟基酮类、酰基膦氧化物、苯偶酰类提供。进一步的,所述羟基酮类为美国汽巴1173或184,酰基膦氧化物为美国汽巴tpo(2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦),苯偶酰类为美国汽巴651(2,2-二甲基二苯乙酮)。
进一步的,上述硬化液中,所述防粘连性能、耐磨性能、硬度性能材料选自聚氨酯丙烯酸酯,有机无机杂化树脂或改性有机硅树脂。进一步的,所述聚氨酯丙烯酸酯为日本合成的1705b(脂肪族聚氨酯六丙烯酸酯低聚物),台湾长兴的6145-100(脂肪族聚氨酯六丙烯酸酯低聚物)或601a-35,所述有机无机杂化树脂为德国tego(迪高)的nanocrylc130。
进一步的,上述硬化液中,所述活性稀释剂主要调整硬化液的粘度。进一步的,所述活性稀释剂主要有单官能活性稀释剂有台湾长兴的em70(异冰片基丙烯酸酯)或em90(异冰片基甲基丙烯酸酯),双官能活性稀释剂有台湾长兴的em221(1,6-己二醇二丙烯酸酯)或em223(三丙二醇二丙烯酸酯),三官能活性稀释剂有台湾长兴的em235(季戊四醇三丙烯酸酯)或em331(三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯),多官能活性稀释剂有台湾长兴的em241(季戊四醇四丙烯酸酯)或em265(二季戊四醇六丙烯酸酯)。
进一步的,上述硬化液种,所述防粘连性能主要由纳米二氧化硅分散液提供。进一步的,所述改性纳米二氧化硅分散液有日本cik的ab-10或ab-24,常州美尼克的cih052。进一步的,所选择纳米二氧化硅分散液粒子粒径控制在10nm~100nm。ab-10/ab-24/cih052都是纳米二氧化硅分散液。
进一步的,上述pet硬化膜中,所述溶剂主要用于溶解固体类化学物质。进一步的,主要选择mibk,mek,pm,pma,bac,eac,tol中的一种或多种。
进一步的,上述pet硬化膜中,所述聚酯改性有机硅树脂主要用于降低硬化液的表面张力,提高平滑性及消泡性能。进一步的,主要选择德国byk333或者byk065。
上述中所得到的硬化液可紫外光固化,紫外光波段主要集中在uvc、uvb、uva,所述硬化液形成硬化层后具有防粘连性能、具有耐磨性能、具有表面硬度、具有较好的透光率,所述防粘连硬化层的厚度为2~3μm。所述硬化液的主要材料中选自紫外光照射可分解羟基酮类,酰基膦氧化物,苯偶酰类。
与现有的硬化液相比,本申请提供的紫外光固化防粘连硬化液具有较好的综合性能,如较好的耐磨性,较高的硬度、附着力,透光率,可针对用于itofilm基膜生产。
附图说明
图1为本申请提供的紫外光固化防粘连硬化液中的itofilm基膜的结构示意图;
其中,100为itofilm基膜,101为本申请提供的紫外光固化后形成的防粘连层。
具体实施方式
下面,结合说明书附图和具体实施例进一步说明本申请提供的技术方案。
本专利提供一种紫外光固化防粘连硬化液,所述硬化液含有聚氨酯丙烯酸酯、有机无机杂化树脂、改性有机硅树脂,羟基酮类、酰基膦氧化物、苯偶酰类,活性稀释剂,溶剂,改性二氧化硅分散液及聚酯改性有机硅树脂等物质。硬化液使用丝棒涂布,经过80℃烘烤1分钟,然后紫外光照射使其固化成膜(如图1所示),成膜性能满足防粘连性能、耐磨性能、硬度及透光率雾度要求。
结合实例进一步说明硬化液各化学成分添加比例,如表1所示:
表2本申请实施例1和2所得到的可拉伸耐磨pet硬化膜的性能测试结果
表3本申请实施例3至8所得到的可拉伸耐磨pet硬化膜的性能测试结果
由表1和表2、3可以得出,本申请提供的紫外光固化防粘连硬化液在固化成膜后具有较好的防粘连性,耐磨性,较高的硬度和透光率。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰,均涵盖在本发明的专利范围内。