带隔膜的粘合剂层及其制造方法、带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜及其制造方法、以及图 ...的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及带隔膜的粘合剂层及其制造方法、带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜及 其制造方法。进一步地，本发明设及使用了上述带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜的液晶显 示装置、有机化显示装置、PDP等图像显示装置。
【背景技术】
[0002] 图像显示装置等由于其图像形成方式而必不可少地要在液晶盒的两侧配置偏光 元件，一般是粘贴偏光膜。将上述偏光膜粘贴于液晶盒时，通常使用粘合剂。另外，由于偏光 膜和液晶盒的粘接通常会减少光损失，因此各材料使用粘合剂来进行密合。在运样的情况 下，由于具有使偏光膜粘固时不必需干燥工序等优点，因此粘合剂通常使用在偏光膜的一 侧预先设置了粘合剂层的带有粘合剂层的偏光膜。
[0003] 另外，近年来，在手机等移动用途的图像显示装置中，特别是从设计性及携带性方 面考虑，有组件整体变薄变轻的倾向。图像显示装置中所使用的偏光膜也要求更薄、更轻。 另一方面，在室外的苛刻环境下使用等使用环境也多样化，还要求比W往更高的耐久性。由 于运样的状况，需要薄型且具有优异光学特性的偏光膜，也有必要开发能够适用于运样的 薄型偏光膜的粘合剂层。
[0004] 将偏光膜粘贴到液晶盒上的方法有:首先将隔着粘合剂层贴合在偏光膜表面的隔 膜(脱模膜)剥离而使粘合剂层露出，然后将偏光膜和液晶显示面板贴合。一般是首先将偏 光膜吸附保持在台表面（ステ一ク表面），然后在隔膜(脱模膜)表面的一端粘贴剥离用胶带 并拉至隔膜的另一端侧，由此将隔膜从偏光膜上剥离。
[0005] 在用于形成上述粘合剂层的粘合剂组合物中，出于提高耐久性等目的，多数情况 下在配合例如（甲基)丙締酸类聚合物的同时配合交联剂。例如，下述专利文献1中记载了除 了含有（甲基）丙締酸类聚合物W外、还含有过氧化物及异氯酸醋类化合物的粘合剂。另 夕h下述专利文献2中记载了在包含（甲基)丙締酸类单体和含氮单体的（甲基)丙締酸类聚 合物中含有过氧化物和异氯酸醋类交联剂的粘合剂。此外，下述专利文献3中记载了带有聚 硅氧烷剥离衬的粘合剂层的制造方法，该方法包括在聚硅氧烷剥离衬的剥离处理面上设置 含有作为基础聚合物的（甲基)丙締酸类聚合物和过氧化物的粘合剂组合物的层的第一工 序、在第一工序之后进行的使一部分或全部过氧化物加热分解来调整聚硅氧烷剥离衬的剥 离力的第二工序。
[0006] 现有技术文献
[0007] 专利文献
[000引专利文献1:日本特开2006-183022号公报
[0009] 专利文献2:日本特开2007-138147号公报
[0010] 专利文献3:日本专利3822213号公报
【发明内容】
[0011] 发明要解决的课题
[0012] 如上述专利文献1~3中所记载，在形成粘合剂层的粘合剂组合物中配合作为交联 剂的过氧化物的情况下，由于在隔膜等上形成粘合剂组合物的层饼进行干燥后，在固化工 序中进行交联，因此有能够缩短熟化时间的优点。另一方面，使用过氧化物时，在将隔膜从 偏光膜上剥离时，不仅隔膜与粘合剂层的剥离力显著上升、隔膜变得难W剥离，而且存在发 生粘合剂层从偏光膜上剥离、缺失等不良情况的可能。该不良情况特别是在使用厚度薄的 偏光膜时发生的可能性增高。具体地，使用厚度薄的偏光膜时，不仅粘合剂层从偏光膜剥离 的可能性提高，而且发生偏光膜翅起、剥离的可能性也提高。另一方面，隔膜与粘合剂层的 剥离力过低时，有发生隔膜从粘合剂层上翅起的可能性。
[0013] 因此，要求在形成粘合剂层的粘合剂组合物中配合作为交联剂的过氧化物时，可 W对隔膜赋予适度的轻剥离性的带隔膜的粘合剂层的制造方法。
[0014] 本发明的目的是提供隔膜与粘合剂层具有适度的轻剥离性的同时、加工性和耐久 性优异的带隔膜的粘合剂层及其制造方法。
[0015] 另外，本发明的目的是提供具有上述带隔膜的带粘合剂层的粘合剂层的偏光膜、 和使用了上述带粘合剂层的偏光膜及其制造方法的图像显示装置。解决课题的方法
[0016] 本发明人等为了解决上述课题反复进行了深入研究，结果发现，通过在用于形成 粘合剂层的粘合剂组合物中同时配合过氧化物及作为隔膜的剥离力调整剂的酪类抗氧剂， 可W适度调整隔膜与粘合剂层的剥离力。并且判明了通过在用于形成粘合剂层的粘合剂组 合物中配合酪类抗氧剂，可得到如下效果：（1)可W防止在粘合剂层端部随着氧化劣化而产 生的（甲基)丙締酸类聚合物的主链切断；W及(2)即使在起偏镜和/或透明保护膜上收缩变 形力作用很强，粘合剂也可W在端部发挥充分的粘合力。其结果，通过在粘合剂层中含有酪 类抗氧剂，可W防止带粘合剂层的偏光膜端部产生外观异常、提高耐久性。本发明是基于上 述研究结果得到的，具有下述构成。
[0017] 目P，本发明设及带隔膜的粘合剂层的制造方法，该方法包括：
[0018] 第一工序，在进行过剥离处理的隔膜的剥离处理面上形成含有（甲基)丙締酸类聚 合物、过氧化物及酪类抗氧剂的粘合剂组合物的层，W及
[0019] 第二工序，在上述第一工序之后，对上述粘合剂组合物进行加热而使其交联，从而 形成粘合剂层。
[0020] 上述带隔膜的粘合剂层的制造方法中，优选相对于上述（甲基）丙締酸类聚合物 100重量份，含有上述酪类抗氧剂0.05~3重量份。
[0021] 在上述带隔膜的粘合剂层的制造方法中，优选相对于上述（甲基)丙締酸类聚合物 100重量份，含有上述过氧化物0.05~2重量份。
[0022] 在上述带隔膜的粘合剂层的制造方法中，优选上述（甲基）丙締酸类聚合物包含 (甲基)丙締酸烷基醋和含径基的单体作为单体单元。
[0023] 在上述带隔膜的粘合剂层的制造方法中，优选上述（甲基)丙締酸类聚合物的重均 分子量为50万~300万。
[0024] 在上述带隔膜的粘合剂层的制造方法中，优选相对于上述（甲基)丙締酸类聚合物 100重量份，还含有硅烷偶联剂0.001~5重量份。
[0025] 在上述带隔膜的粘合剂层的制造方法中，优选上述第二工序是在70~170°C的溫 度下对上述粘合剂组合物加热30~240秒钟而使其交联的工序。
[0026] 另外，本发明设及通过上述任一项所述的带隔膜的粘合剂层的制造方法制造的带 隔膜的粘合剂层。
[0027] 在上述带隔膜的粘合剂层中，优选凝胶分数为45~95重量％。
[00%]在上述带隔膜的粘合剂层中，优选上述隔膜与上述粘合剂层的剥离力为0.05~ 0.30N/50mm。
[0029] 另外，本发明设及带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜的制造方法，该方法包括:在起 偏镜的至少一面具有透明保护膜的偏光膜的至少一面，从粘合剂层侧贴合带隔膜的粘合剂 层，其中，上述带隔膜的粘合剂层是权利要求8~10中任一项所述的带隔膜的粘合剂层。
[0030] 在上述带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜的制造方法中，优选上述偏光膜的总厚度 为 lOOymW 下。
[0031] 进一步地，本发明设及通过上述记载的带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜的制造方 法制造的带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜、W及使用了至少一片该带有带隔膜的粘合剂层 的偏光膜的图像显示装置。
[0032] 发明的效果
[0033] 本发明的带隔膜的粘合剂层的制造方法中，在用于形成粘合剂层的粘合剂组合物 中配合（甲基)丙締酸类聚合物和过氧化物，同时还配合作为隔膜的剥离力调整剂的酪类抗 氧剂，将其加热使其交联而形成粘合剂层。由此可W制造隔膜与粘合剂层的剥离力得到了 适度调整的带隔膜的粘合剂层。并且，由于在用于形成粘合剂层的粘合剂组合物中配合有 (甲基)丙締酸类聚合物和过氧化物，同时还配合有酪类抗氧剂，可W从制造初期阶段起提 高粘合剂层的凝胶分数。其结果，可W制造加工性优异的带隔膜的粘合剂层。
[0034] 另外，如上所述，特别是在使用厚度薄的膜作为偏光膜时，隔膜与粘合剂层的剥离 力过高时，不仅隔膜变得难W剥离，而且发生粘合剂层从偏光膜剥离、缺失等不良情况的可 能性也提高。但是，对于本发明的带隔膜的粘合剂层的制造方法而言，由于过氧化物和酪类 抗氧剂的协同效果，隔膜与粘合剂层的剥离力得到适当调整。因此，使用通过本发明的带隔 膜的粘合剂层的制造方法制造的带隔膜的粘合剂层制造带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜、 特别是偏光膜的总厚度为lOOymW下的带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜时，可W制造隔膜 与粘合剂层具有适度的轻剥离性、加工性优异的带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜。
[0035] 另外，虽然不限于此，但从偏光膜剥离隔膜的工序一般是将偏光膜固定在吸附固 定装置上来进行。吸附固定装置是具有带有通过真空累等来抽吸空气的多个吸附口的吸附 台、将配置在台上的物品通过空气的抽吸力进行固定的装置。一般的剥离工序是如下进行 的：首先将偏光膜的与隔膜相反侧的面配置在吸附固定装置的吸附台表面，使其吸附来保 持偏光膜;然后在隔膜的一端粘贴胶带，通过牵拉胶带而将隔膜从偏光膜剥离。但是，对于 90ymW下的薄偏光膜而言，由于偏光膜的刚性低，剥离的力导致产生偏光膜从台上脱落的 不良情况。虽然通过增强对偏光膜的吸引力也可W防止偏光膜的脱落，但由于偏光膜薄，有 时留下吸附痕迹。因此，为了即使是低的吸附力，从薄型偏光膜剥离隔膜时，偏光膜也不会 从台上脱落，可W使本发明的偏光膜具有如下的粘合剂层，该粘合剂层具有使隔膜的剥离 力达到0.10N/50mm宽度W下的粘合力。由于可W降低隔膜的剥离力，因此可W不使偏光膜 变形、也不使偏光膜从台上脱落地将隔膜剥离。在剥离隔膜后，可W通过粘合剂层将光学膜 叠层体贴合到液晶盒上来制作液晶显示装置。
[0036] 但是，薄型偏光膜的用途扩大到了多方面，要求即使是在高溫和/或高湿环境下耐 久性也优异。本发明人等进行深入研究的结果，判明了将薄型化后的带粘合剂层的偏光膜 在高溫和/或高湿环境下长时间放置时，由于薄型化而导致带粘合剂层的偏光膜变得容易 变形的现象。具体设及的变形是，特别是随着薄型化，起偏镜和/或透明保护膜变得容易收 缩，推定在粘合剂层的端部发生的剥离或发泡是其原因。运样一来，由于判明了在将带粘合 剂层的偏光膜薄型化时存在薄型化导致的特有的课题，因此有解决该课题的必要性。
[0037] 本发明的带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜的制造方法中，形成由配合有（甲基)丙 締酸类聚合物和过氧化物的同时还配合了酪类抗氧剂的粘合剂组合物形成的粘合剂层。在 该粘合剂层中，（甲基)丙締酸类聚合物进行交联时，氧引起的自由基交联阻碍被抗氧剂有 效地抑制，由此W良好的效率形成粘合剂层的Ξ维交联网络。即，通过在用于形成粘合剂层 的粘合剂组合物中组合地配合抗氧剂和过氧化物，可W更有效地防止在粘合剂层端部发生 外观异常。由此，不仅仅是偏光膜的总厚度比较厚的带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜，即使 是偏光膜的总厚度为100皿W下的带有带隔膜的粘合剂层的偏光膜，也可W制造可防止端 部的外观异常、且耐久性得到提高的膜。
【附图说明】
[0038] [图1]是示出剥离力试验用夹具的示意图。
[0039] [图2]是示出进行剥离力测定的实验状况的示意图。
[0040] [图3]是示出吸附固定装置和偏振片的样品的示意图。
[0041 ] 符号说明
[0042] 100剥离力试验用夹具
[0043] 101金属板
[0044] 102 夹子
[0045] 200拉伸试验机
[0046] 201拉伸试验机的上侧部
[0047] 202拉伸试验机的下侧部 [004引 210导带
[0049] 220偏振片的样品
[0050] 221 隔膜
[0051] 222偏振片的隔膜被剥离的部分
[0化2] 300吸附固定装置
[0053] 301吸附台
[0054] 302 吸附口
[0化5] 303空气通路
[0化6] 304空气配管
[0化7] 305真空累
[0化引310偏振片的样品
【具体实施方式】
[0059] 本发明设及的带隔膜的粘合剂层的制造方法包括:在进行了剥离处理的隔膜的剥 离处理面上形成含有（甲基)丙締酸类聚合物、过氧化物和酪类抗氧剂的粘合剂组合物的层 的第一工序；W及在上述第一工序之后对上述粘合剂组合物进行加热使其交联，从而形成 粘合剂层的第二工序。
[0060] 作为进行了剥离处理的隔膜，优选使用聚硅氧烷剥离衬。在运样的剥离衬上涂布 本发明的粘合剂组合物、加热(干燥）的同时使其交联而形成粘合剂层的第二工序中，为了 提高粘合剂层的粘合特性，加热溫度优选为例如70~170°C，更优选为125~165°C，进一步 优选为140~160°C。另外，加热时间优选为30~240秒钟，更优选为60~180秒钟。
[0061 ] 如《粘着/、シK 7V夕（第2版），P174,粘着テ一ク工業会编，1995.10.12》中所示， 聚硅氧烷剥离衬包括:使用缩合反应型聚硅氧烷剥离剂(例如通常为使用两末端具有径基 的聚二甲基硅氧烷作为基础聚合物、使用聚甲基氨化硅氧烷作为交联剂、并使用锡类作为 催化剂而得到的剥离剂)的剥离衬；W及使用加成反应型聚硅氧烷剥离剂(例如通常为使用 两末端具有径基的聚二甲基硅氧烷的一部分甲基被乙締基取代的聚合物作为基础聚合物、 使用聚甲基氨化硅氧烷作为交联剂、并使用销类催化剂作为催化剂而得到的剥离剂）的剥 离衬，但在本发明中没有特别限定，可W是使用任意剥离剂的剥离衬。
[0062] 需要说明的是，在本发明的形成粘合剂组合物的层的第一工序中，作为在进行了 剥离处理的隔膜的剥离处理面上形成粘合剂组合物的层的方法，可W是通过在隔膜上直接 涂布粘合剂组合物并加热干燥来形成，也可W是将形成在其它基材上的粘合剂组合物的层 转印到隔膜上。
[0063] 粘合剂层的形成方法可W采用各种方法。具体来说，可W列举例如漉涂法、漉甜涂 布法、凹印漉涂布法、逆涂法、漉刷法、喷涂法、浸入漉涂法、棒涂法、刮涂法、气刀涂布法、幕 涂法、模唇涂布法、使用缝模涂布机等进行的挤出涂布法等方法。
[0064] 粘合剂层的厚度没有特别限制，例如为3~35WI1左右，优选为5~30μπι，更优选为8 ~25μηι。
[0065] 作为隔膜的构成材料，可W列举例如聚乙締、聚丙締、聚对苯二甲酸乙二醇醋、聚 醋膜等塑料膜、纸、布、无纺布等多孔材料、网、发泡片、金属锥W及它们的层压体等合适的 薄叶体等，从表面平滑性优异方面考虑，优选使用塑料膜。
[0066] 作为该塑料膜，只要是能保护上述粘合剂层的膜就没有特别限定，可W列举例如 聚乙締膜、聚丙締膜、聚下締膜、聚下二締膜、聚甲基戊締膜、聚氯乙締膜、氯乙締共聚物膜、 聚对苯二甲酸乙二醇醋膜、聚对苯二甲酸下二醇醋膜、聚氨醋膜、乙締-乙酸乙締醋共聚物 膜等。
[0067] 上述隔膜的厚度通常为5~200WI1左右，优选为5~lOOwii左右。对于上述隔膜而言， 还可W根据需要用聚硅氧烷类脱模剂、氣系脱模剂、长链烷基类脱模剂或脂肪酸酷胺类脱 模剂、二氧化娃粉等进行脱模及防污处理、或者进行涂布型