本实用新型涉及冶金烧结设备领域，尤其涉及一种用于烧结炉的升降装置以及烧结炉。
背景技术：
高温真空烧结炉是一种通过烧结使粉末压坯获得所需微观结构、物理和力学性能的专用设备。该设备对工作区的纯度要求很高，工作区内不允许存在除被加工材料之外的任何杂质。因此在烧结工艺进行的整个过程中，当要快冷降温时，需要打开该设备的炉内风道进行快冷。
技术实现要素：
本实用新型的目的是提供一种结构简单、占用空间小的用于烧结炉的升降装置，以快速打开炉内风道、减小快冷时对工作区纯度的影响。
为实现上述目的，本实用新型提供了一种用于烧结炉的升降装置，该装置包括由上至下依次设置的支撑单元、轨道架和升降单元；所述支撑单元包括分别用于承载内圈反射屏和外圈反射屏的内圈架和外圈架以及多个导向条，所述外圈架设于所述内圈架的外侧、且与所述内圈架同心设置，所述导向条的两端分别与所述内圈架和所述外圈架连接；所述轨道架的周向设有与所述导向条一一对应的导向槽，所述轨道架的中部设有供所述内圈架穿过的导向孔，所述导向孔与所述导向槽连通，所述轨道架的横截面尺寸与所述内圈反射屏的尺寸相适应；所述升降单元的顶端穿过所述导向孔与所述内圈架连接，所述升降单元用于驱动所述内圈架上下移动。
其中，所述外圈架包括支撑环以及多个沿所述支撑环的周向间隔设置的连接块，所述连接块的一端与所述支撑环的外壁连接、另一端向外延伸，所述连接块上设有第一安装孔。
其中，所述内圈架包括牵引座，所述牵引座的顶部设有第二安装孔、底部设有插孔，所述升降单元的顶端插设在所述插孔中。
其中，所述导向条的数量为三个。
其中，相邻的所述导向条之间的夹角为120°。
其中，所述升降单元包括牵引轴、气缸架以及设置在所述气缸架上的气缸，所述牵引轴的一端与所述气缸的活塞杆连接、另一端与所述内圈架连接。
为实现上述目的，本实用新型还提供了一种烧结炉，该烧结炉包括炉体以及上述所述的用于烧结炉的升降装置，所述升降单元设于所述炉体的下方，所述支撑单元和所述轨道架均设于所述炉体中，所述轨道架的底面与所述炉体的下封头的底面连接，所述炉体的下封头的中部设有通孔，所述升降单元的顶端依次穿过所述通孔和所述导向孔与所述内圈架连接。
其中，所述通孔与所述升降单元之间设有密封件。
其中，所述密封件包括压紧螺母、压紧块、密封圈和套管，所述套管套设在所述升降单元上、并与所述炉体的下封头固定连接，所述密封圈和所述压紧块设于所述套管与所述升降单元之间，所述压紧螺母与所述套管的底部螺纹连接、并抵设于所述压紧块。
本实用新型操作简便、占用空间小，通过利用升降单元带动放置在外圈架上的外圈反射屏下降，就可实现炉内风道的开启，使冷却气体直接通过外圈反射屏与内圈反射屏之间的间隙吹到工件上；通过利用升降单元带动放置在外圈架上的外圈反射屏上升，就可实现炉内风道的关闭。可见该装置从而不仅可大幅缩短冷却时间，而且还不会影响工作区的纯度。
附图说明
图1是本实用新型实施例1中的一种用于烧结炉的升降装置的安装示意图；
图2是本实用新型实施例1中轨道架的俯视图；
图3是本实用新型实施例1中轨道架的等轴侧视图；
图4是本实用新型实施例1中内圈反射屏和外圈反射屏的等轴侧示意图；
图5是本实用新型实施例1中内圈反射屏和外圈反射屏的正视图；
图6是本实用新型实施例1中支撑单元的等轴侧视图；
图7是本实用新型实施例1中支撑单元的俯视图；
图8是图7在A-A处的剖视图；
图9是本实用新型实施例1中升降单元的正视图。
附图标记：
1、支撑单元；1-1、牵引座；1-11、第二安装孔；1-12、插孔；
1-21、支撑环；1-22、连接块；1-3、导向条；2、轨道架；
2-1、导向槽；2-2、导向孔；3、升降单元；3-1、气缸架；
3-2、气缸；3-3、牵引轴；4、内圈反射屏；4-1、支料杆；
5、外圈反射屏；6、下封头；7-1、套管；7-2、压紧螺母；
7-3、压紧块；7-4、密封圈。
具体实施方式
为使实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合实用新型中的附图，对实用新型中的技术方案进行清楚地描述，显然，所描述的实施例是实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，除非另有说明，术语“上”、“下”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在实用新型中的具体含义。
如图1至图6所示，本实用新型提供了一种用于烧结炉的升降装置，该装置包括由上至下依次设置的支撑单元1、轨道架2和升降单元3；支撑单元1包括分别用于承载内圈反射屏4和外圈反射屏5的内圈架和外圈架以及多个导向条1-3，外圈架设于内圈架的外侧、且与内圈架同心设置，导向条1-3的两端分别与内圈架和外圈架连接；轨道架2的周向设有与导向条1-3一一对应的导向槽2-1，轨道架2的中部设有供内圈架穿过的导向孔2-2，导向孔2-2与导向槽2-1连通，轨道架2的横截面尺寸与内圈反射屏4的尺寸相适应，即轨道架2的横截面尺寸等于或稍小于内圈反射屏4的尺寸；升降单元3的顶端穿过导向孔2-2与内圈架连接，升降单元3用于驱动内圈架上下移动。
由此，当需要打开炉内风道进行快冷时，就可启动升降单元3，使其带动内圈架向下移动。由于内圈架通过导向条1-3与外圈架连接，因此内圈架、导向条1-3和外圈架为同步运动，从而当内圈架在升降单元3的驱动下伸入导向孔2-2并沿导向孔2-2的深度方向向下移动时，导向条1-3便会逐渐插入对应的导向槽2-1并沿着该导向槽2-1的深度方向向下移动，与此同时，外圈架也会随之向下移动。另外，为了保证放置在内圈反射屏4上的工件不受影响，可先将固定座4-2通过螺钉固定在轨道架2上，然后使固定座4-2的支料杆4-1穿过放置在内圈架上的内圈反射屏4。从而当内圈架沿着导向架上的导向孔2-2下移时，内圈反射屏4则不会随内圈架下移，与此同时，由于轨道架2的横截面尺寸与内圈反射屏4的尺寸相适应，因此放置在外圈架上的外圈反射屏5会继续随外圈架向下移动，进而炉内风道就被打开，冷却气体便可通过外圈反射屏5与内圈反射屏4之间的间隙直接吹到放置在内圈反射屏4上的工件，与其进行充分换热。同理，当需要关闭炉内风道时，就可启动升降单元3，使其带动内圈架向上移动，从而导向条1-3和外圈架随之向上移动，随着内圈架逐渐伸出导向孔2-2，导向条1-3逐渐伸出对应的导向槽2-1，外圈架与内圈架之间的间隙就会逐渐减小，直至炉内风道关闭。
本实用新型操作便捷、占用空间小，通过利用升降单元3带动放置在外圈架上的外圈反射屏5下降，就可实现炉内风道的开启，使冷却气体直接通过外圈反射屏5与内圈反射屏4之间的间隙吹到工件上；通过利用升降单元3带动放置在外圈架上的外圈反射屏5上升，就可实现炉内风道的关闭。可见该装置从而不仅可大幅缩短冷却时间，而且还不会影响工作区的纯度。
进一步地，再结合图7和图8所示，外圈架包括支撑环1-21以及多个沿支撑环1-21的周向间隔设置的连接块1-22，连接块1-22的一端与支撑环1-21的外壁连接、另一端向外延伸，连接块1-22上设有第一安装孔。安装时，工作人员只需将螺栓的一端穿过第一安装孔后，旋入预先开设在外圈反射屏5上的螺纹孔，就可将外圈反射屏5固定在外圈架上。
优选地，内圈架包括牵引座1-1，牵引座1-1的顶部设有第二安装孔1-11、底部设有插孔1-12，升降单元3的顶端插设在插孔1-12中。
优选地，导向条1-3的数量为三个。其中，相邻的导向条1-3之间的夹角为120°。
优选地，如图9所示，升降单元3包括牵引轴3-3、气缸架3-1以及设置在气缸架3-1上的气缸3-2，牵引轴3-3的一端与气缸3-2的活塞杆连接、另一端与内圈架连接。
实施例2
本实用新型还提供了一种烧结炉，该烧结炉包括炉体以及上述所述的用于烧结炉的升降装置，升降单元3设于炉体的下方，支撑单元1和轨道架2均设于炉体中，轨道架2的底面与炉体的下封头6的底面连接，炉体的下封头6的中部设有通孔，升降单元3的顶端依次穿过通孔和导向孔2-2与内圈架连接。
本实施例中的用于烧结炉的升降装置到的结构与原理与实施例1相同，本实施例不再赘述。
优选地，通孔与升降单元3之间设有密封件。
进一步地，密封件包括压紧螺母7-2、压紧块7-3、密封圈7-4和套管7-1，套管7-1套设在升降单元3上、并与炉体的下封头6固定连接，密封圈7-4和压紧块7-3设于套管7-1与升降单元3之间，压紧螺母7-2与套管7-1的底部螺纹连接、并抵设于压紧块7-3，即套管7-1的内壁上设有与压紧螺母7-2配合连接的内螺纹，压紧螺母7-2通过抵紧压紧块7-3来压紧密封圈7-4。由此，工作人员通过调节压紧螺母7-2旋入套管7-1的长度，就可压紧密封圈7-4，进而就可避免杂质通过炉体的下封头6与升降单元3之间的间隙进入炉体。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离实用新型各实施例技术方案的精神和范围。