具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于一种实验室用品，特别涉及一种具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置。
【背景技术】
[0002]晶片清洗是半导体晶片工艺加工中最常使用的工艺步骤。晶片清洗的主要作用包括:获得清洁的晶片表面(如去除附着在晶片表面的原子、离子、分子、有机沾污或颗粒)、晶片抛光和晶片定向腐蚀。在晶片清洗过程中，晶片表面的溶液浓度不断降低，反应速率将逐渐下降，从而严重影响清洗工艺的质量。为了确保晶片清洗的质量，需要使反应槽中的溶液处于不断流动的状态，从而带动晶片表面溶液的流动，补充反应液浓度的消耗，获得一致的反应过程。
[0003]在半导体工业生产中一般采用氮气鼓泡的方法使反应槽中反应液产生流动，即在反应槽底部连接氮气，通过气动开关开启和关闭氮气，使反应槽中反应液体产生自下而上的搅动。与工业生产时的大批量生产过程不同，在实验过程中清洗的晶片数量很少，且多数清洗过程的时间为20分钟左右，所以采用氮气鼓泡的方法清洗晶片将会使晶片清洗的成本大大增加。
[0004]一般实验过程采用的是人工转动清洗晶片篮的方式实现液体的流动。如图1所示，由于放置于晶片篮中的晶片是垂直放置于清洗反应槽中，晶片和晶片篮之间间距很小(常为2-3_)，所以最有效的晶片篮运动方式应为沿平行于硅片表面的两个垂直方向，即Y向上下运动和X向横向运动。一般实验用的清洗反应槽与晶片篮的间隙很小，所以一般采用两种方式进行晶片的清洗，即晶片篮静止放置或手动上下提拉晶片篮。静止放置晶片篮，会造成反应速率不均匀，而上下提拉晶片篮需要清洗槽具有足够的深度。
[0005]采用提拉晶片篮上下运动的方式或晶片篮静止的方式清洗晶片过程存在的缺点包括:1、运动距离很难控制。晶片篮的向上运动可导致娃片从清洗液中露出，晶片篮向下运动易使晶片篮、清洗槽和晶片之间发生机械碰撞，从而导致晶片特别是超薄晶片清洗过程的成品率降低。2、清洗液体流动的方向和速度很难控制。上下提拉晶片篮过程中，提拉晶片篮的速度、晶片篮缝隙和晶片码放方向，共同决定了清洗液的流动速度和方向。由于提拉晶片篮的过程很难做到匀速运动，且很难保持晶片表面一直处于垂直状态，所以晶片不可避免地承受很大的应力，从而易于导致晶片的破损，造成晶片清洗过程中成品率的降低。3、晶片篮静止会造成晶片表面反应不均匀，且清洗掉的沾污物质，很可能重新附着到硅片表面，产生二次污染的问题。
【实用新型内容】
[0006]本实用新型所要解决的技术问题是要提供一种具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，能够实现在晶片篮静止不动的前提下完成对晶片的清洗，清洗效果好，成品率高。
[0007]为解决上述问题，本实用新型采用如下技术方案:
[0008]一种具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，包括上端敞口的盛液反应槽；
[0009]镂空隔板，设在盛液反应槽内下部，在镂空隔板四周分别设有矩形槽口，在镂空隔板上设有多个条形通孔，所述盛液反应槽内腔通过镂空隔板分成上下连通的两个腔；
[0010]双叶片搅板，铰接在盛液反应槽内位于镂空隔板的下方，用于搅动盛液反应槽内的清洗液；在双叶片搅板两端对称连接有两个立杆，立杆下端通过Y型支架与双叶片搅板的两个叶片固接，两个立杆上端分别延伸到盛液反应槽外面。
[0011]作为进一步优选，在盛液反应槽内下部四角处分别设有凸台，所述镂空隔板支撑在所述凸台上。
[0012]作为进一步优选，所述双叶片搅板包括固接在一起的所述两个叶片，两个叶片形成一定的夹角，在两个叶片之间连接处的两端对称设有旋转轴。
[0013]作为进一步优选，所述两个叶片的夹角为120-160度。
[0014]作为进一步优选，在每个立杆的上端分别固接有传动板，在传动板中部设有方孔，用于连接外部振动机构实现机械搅拌。
[0015]作为进一步优选，在盛液反应槽内壁位于镂空隔板的上端设有四个限位方槽，在限位方槽内插入有限位块，限位块外端压在镂空隔板上表面，用于对镂空隔板进行限位。
[0016]作为进一步优选，在盛液反应槽的前后侧内壁中部沿竖直方向设有条形卡槽，条形卡槽的下端为半圆弧状，所述双叶片搅板两端的旋转轴分别插入到条形卡槽内下端。
[0017]本实用新型的有益效果是:通过在镂空隔板上放置晶片篮，通过立杆带动双叶片搅板摆动，能够使盛液反应槽内的清洗液不停流动，从而实现在晶片篮静止不动的前提下完成对晶片的清洗，可有效避免晶片篮静止清洗过程中的反应速率不均匀和提拉晶片篮清洗过程中容易产生碰撞的问题，清洗效果好，晶片篮不会产生碰撞，成品率高。
【附图说明】
[0018]图1是本实用新型的结构剖视图。
[0019]图2是图1的俯视图。
[0020]图3是图1的A-A剖视图。
[0021]图中:盛液反应槽1，搅动腔101，清洗腔102，条形卡槽103，限位方槽104，双叶片搅板2，叶片201，旋转轴202，凸台3，镂空隔板4，矩形槽口 401，条形通孔402，限位块5，传动板6，方孔601，立杆7，Y型支架8，清洗液9。
【具体实施方式】
[0022]下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
[0023]如图1-图3所示，本实用新型涉及的一种具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，包括一个上端敞口的矩形盛液反应槽1，在盛液反应槽I内下部四角处分别设有一体的凸台3，在盛液反应槽I内通过所述凸台3支撑有镂空隔板4，在镂空隔板4四周分别设有矩形槽口 401，在镂空隔板4上沿横向并列设有多个条形通孔402，所述盛液反应槽I内腔通过镂空隔板4分成上下布置的两个腔，分别为清洗腔102和搅动腔101，清洗腔102和搅动腔101通过镂空隔板4的矩形槽口 401和条形通孔402连通。
[0024]作为优选，在盛液反应槽I内壁位于镂空隔板4的上端设有四个限位方槽104，在限位方槽104内通过间隙配合插入有限位块5，限位块5外端压在镂空隔板4上表面，用于对镂空隔板4进行限位。
[0025]在盛液反应槽I内位于镂空隔板4下方的搅动腔101内铰接有双叶片搅板2，用于搅动盛液反应槽I内的清洗液9。所述双叶片搅板2包括对称固接在一起的两个叶片201，两个叶片201形成一定的夹角，在两个叶片201之间连接处的两端对称设有一体的旋转轴202。作为优选，所述两个叶片201的夹角为120-160度。在盛液反应槽I的前后侧内壁中部沿竖直方向设有条形卡槽103，条形卡槽103的下端为半圆弧状，所述双叶片搅板2两端的旋转轴202直径与条形卡槽103的宽度配合并且分别插入到条形卡槽103内下端。
[0026]在双叶片搅板2两端对称连接有两个立杆7，立杆7下端分别通过一个Y型支架8与双叶片搅板2的两个叶片201上表面固接，Y型支架8分别贯穿镂空隔板4前后边缘的矩形槽口 401，两个立杆7上端分别延伸到盛液反应槽I外面。作为优选，在每个立杆7的上端分别固接有矩形传动板6，在传动板6中部设有方孔601，用于连接外部振动机构实现机械搅拌。
[0027]使用时，将装有晶片的晶片篮放置在镂空隔板4上，通过手动扳动立杆7或通过传动板6连接外部振动机构便可带动双叶片搅板2以两端的旋转轴202为轴做往复摆动，并带动盛液反应槽I内的清洗液9通过镂空隔板4的矩形槽口 401和条形通孔402在清洗腔102和搅动腔101之间不停流动，从而实现在晶片篮静止不动的前提下完成对晶片的清洗。
[0028]尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。
【主权项】
1.一种具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，包括上端敞口的盛液反应槽；其特征是: 镂空隔板，设在盛液反应槽内下部，在镂空隔板四周分别设有矩形槽口，在镂空隔板上设有多个条形通孔，所述盛液反应槽内腔通过镂空隔板分成上下连通的两个腔； 双叶片搅板，铰接在盛液反应槽内位于镂空隔板的下方，用于搅动盛液反应槽内的清洗液；在双叶片搅板两端对称连接有两个立杆，立杆下端通过Y型支架与双叶片搅板的两个叶片固接，两个立杆上端分别延伸到盛液反应槽外面。
2.根据权利要求1所述的具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，其特征是:在盛液反应槽内下部四角处分别设有凸台，所述镂空隔板支撑在所述凸台上。
3.根据权利要求1所述的具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，其特征是:所述双叶片搅板包括固接在一起的所述两个叶片，两个叶片形成一定的夹角，在两个叶片之间连接处的两端对称设有旋转轴。
4.根据权利要求3所述的具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，其特征是:所述两个叶片的夹角为120-160度。
5.根据权利要求1所述的具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，其特征是:在每个立杆的上端分别固接有传动板，在传动板中部设有方孔，用于连接外部振动机构实现机械搅拌。
6.根据权利要求1或2所述的具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，其特征是:在盛液反应槽内壁位于镂空隔板的上端设有四个限位方槽，在限位方槽内插入有限位块，限位块外端压在镂空隔板上表面，用于对镂空隔板进行限位。
7.根据权利要求3或4所述的具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，其特征是:在盛液反应槽的前后侧内壁中部沿竖直方向设有条形卡槽，条形卡槽的下端为半圆弧状，所述双叶片搅板两端的旋转轴分别插入到条形卡槽内下端。
【专利摘要】本实用新型公开了一种具有搅拌功能的实验用半导体清洗装置，包括上端敞口的盛液反应槽；镂空隔板设在盛液反应槽内下部，在镂空隔板四周分别设有矩形槽口，在镂空隔板上设有多个条形通孔，所述盛液反应槽内腔通过镂空隔板分成上下连通的两个腔；双叶片搅板铰接在盛液反应槽内位于镂空隔板的下方，在双叶片搅板两端对称连接有两个立杆，立杆下端通过Y型支架与双叶片搅板的两个叶片固接，两个立杆上端分别延伸到盛液反应槽外面。有益效果是：能够实现在晶片篮静止不动的前提下完成对晶片的清洗，可有效避免晶片篮静止清洗过程中的反应速率不均匀和提拉晶片篮清洗过程中容易产生碰撞的问题，清洗效果好，晶片篮不会产生碰撞，成品率高。
【IPC分类】H01L21-67, B08B3-10
【公开号】CN204320728
【申请号】CN201420800821
【发明人】孙承智
【申请人】辽宁石化职业技术学院
【公开日】2015年5月13日
【申请日】2014年12月17日