一种反应釜的制作方法

本发明涉及一种反应釜。

背景技术：

反应釜是一种用来进行化学反应的容器。反应釜在食品、医药、化工等行业的应用十分广泛。传统的反应釜上没有温压控制系统表进行测量，不知道釜内压力的变化，就会造成成品质量不稳定。现在的反应釜为整体式结构，一个反应釜一般只能用于一种产品的生产，这是因为如果一个反应釜用于多个产品的生产时，由于个反应物料的化学性质各异，而且反应釜整体式结构也很难对反应釜进行干净的清洗，其内壁残留物会对后续产品的生产造成影响。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种反应釜，其可以解决现有技术中的上述缺点，方便拆卸，易于清洗。

本发明采用以下技术方案：

一种反应釜，包括上反应釜体、上隔板、下反应釜体，下隔板、搅拌棒、防爆电机、减速机和温压控制系统；所述的上反应釜体内壁设有和内壁贴合的上隔板，上反应釜体上设有进料口和观察口；所述的上隔板下部翻边，翻边设置在所述的上反应釜体和所述的下反应釜体之间，所述的翻边上下部设有密封胶垫，隔板通过翻边固定在反应釜体上；所述的下反应釜体和所述的上反应釜体通过铰接连接，下反应釜体设有出料口，下反应釜体内设置有下隔板；所述的的下隔板上部翻边，两翻边的上下部设密封胶垫；所述温压控制系统包括控温组件、控压组件、第一监控器和第二监控器，所述控温组件可感测和调整所述高压反应釜内部温度，且所述控温组件与所述下反应釜体配合连接；所述控压组件可感测和调整所述高压反应釜内部压力，且所述 控压组件与所述上反应釜配合连接；所述第一监控器，分别与所述控温组件和所述控压组件相连；所述第二监控器与所述第一监控器并联或串联地与所述控温组件和所述控压组件相连。

所述控温组件包括：

感温件，其采集温度信号，以及向所述第一监控器和第二监控器发送温度信号；

控温件，其根据所述第一监控器或第二监控器发出的指令调整所述高压反应釜内部的温度。

所述控压组件包括：

感压件，其采集压力信号，以及向所述第一监控器和第二监控器发送压力信号；

控压件，其根据所述第一监控器或第二监控器发出的指令调整压力。

所述第一监控器包括：

控制柜；

智能仪表盘，设置在所述控制柜的内部，分别与感温件及所述感压件相连，并根据所述温度信号和所述压力信号显示相应温度及压力；

可控硅功率模块，与所述智能仪表盘相对应地设置在所述控制柜内，分别与所述控温件及控压件相连，用以发出调节指令。

所述可控硅功率模块包括：

一台变压器，该变压器具有两个不同变比的第一级次级输出、第二级次级输出，变压器的初级接电网主回路，两个次级输出输出相位相同、电压不同的第一级电压和第二级电压，其中，第一级电压小于第二级电压；

两组可控硅，分别接变压器的两个次级输出；每组可控硅由一个正相可控硅和一个负相可控硅组成，正相可控硅的阳极接变压器的次级输出，负相可控硅的阴极接变压器的次级输出，正相可控硅的阴极与负相可控硅的阳极连接在一起，作为该组可控硅的输出；两组可控硅 的输出连接在一起，并接需要进行功率调节的负载；

一个控制器，控制器的相位捕获模块与变压器的次级输出连接，用于获得次级输出电压的相位信息，并根据负载需要的功率，调节导通角α，输出触发信号给两组可控硅。

本发明的优点是：操作简单，方便使用，能方便清洗反应釜内残留物；便于观察反应釜内压力情况；结构简单，使用方便；密封性能好。

附图说明

下面结合实施例和附图对本发明进行详细说明，其中：

图1是本发明的结构示意图。

图2是本发明的高压反应釜温压控制系统的结构示意图。

图3是本发明的可控硅功率模块的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图进一步阐述本发明的具体实施方式：

如图1所示，一种反应釜包括上反应釜体5、上隔板6、下反应釜体10，下隔板8、搅拌棒9、温压控制系统3、防爆电机1、减速机2。上反应釜体5内壁设有和内壁贴合的上隔板6，上反应釜体5上设有进料口4和观察口12；上隔板6下部翻边，翻边设置在上反应釜体5和下反应釜体10之间，翻边上下部设有密封胶垫7，隔板通过翻边固定在反应釜体上；下反应釜体10和上反应釜体5通过铰接连接，下反应釜体10设有出料口11，下反应釜体10内设置有下隔板8；下隔板8上部翻边，两翻边的上下部设密封胶垫7；搅拌棒9呈圆柱状，位于反应釜内部，搅拌棒9与防爆电机1相连；温压控制系统3设在搅拌棒9一旁，可以监测反应釜内压力变化；防爆电机1一端与搅拌棒9连接，一端与减速机2连接。将反应物从进料口4注入后，搅拌棒9在防爆电机1的带动下对物料进行搅拌，工作人员可以从温压控制系统3观察反应釜内的压力，反应完后，物料从从反应釜底部的出料口 11流出。本发明为了使上反应釜体和下反应釜体两者之间的拆卸更为简单，上反应釜体和下反应釜体的分界线设置在反应釜体上部，使上反应釜体打开更为顺利，方便使用。

温压控制系统3包括用于感测和调整高压反应釜内部温度的控温组件3320、用于感测和调整高压反应釜内部压力的控压组件3330、用于监控高压反应釜内部温度和压力的第一监控器3340和第一监控器3350。其中控温组件3320和控压组件330分别与反应釜配合连接。第一监控器3340和第二监控器3350并联或串联地与控温组件3320和控压组件3330分别相连。第一监控器3340设置在邻近反应釜的第一位置，第二监控器3350设置在远离反应釜的第二位置处的控制室内。

本发明的高压反应釜温压控制系统通过同时设置能够并行的两套监控器，使得操作人员在邻近高压反应釜的现场，及远离高压反应釜的控制室，同时对高压反应釜中温度和压力进行监控调节，一方面通过控制第一控制器3340便于现场直接对反应釜3340中温度和压力进行调节，提高了操作灵活性，另一方面通过控制第二控制器3350便于集中管理反应现场各反应装置，降低人力成本。进一步地，并行的两套监控器的同时使用还可提高了温度、压力控制的精度高，以及3反应釜的安全系数。

控温组件3320进一步包括：感温件321和控温件322。感温件321设置于反应釜的内部，用于采集温度信号，以及向第一监控器340和第二监控器350发送温度信号；这种感温件321采用目前常用的零部件即可，例如热电阻。控温件322设置于反应釜的内部，根据第一监控器340或第二监控器350发出的调节指令调整反应釜内部的温度。该控温件322采用采用目前常用的零部件即可，例如设置电加热管以增加温度，又例如设置换热器以降低温度。具体操作可根据实际情况进行实际组合操作。控温组件320分为感温件321和控温件322两部分，分别对反应釜中温度进行采集与调节的步骤。实际操作中，感温 件321将采集到的温度信号发送至第一、第二监控器340、350，第一、第二监控器340、350根据温度信号发出调节指示，控温件322进一步根据调节指令调节反应釜内部的温度。其中，第一、第二监控器340、350所发出的调节指令可以是操作人员根据第一、第二监控器显示的温度数值，手动操作所发出的调节指令，也可以是第一、第二监控器340、350根据预存入的温度控制信息，进行自动调节所发出的调节指令。在高压反应釜温压控制系统中控压组件330进一步包括感压件331和控压件332。感压件331设置于反应釜的内部，用于采集压力信号，以及向第一监控器340和第二监控器350发送压力信号；该感压件331采用常规部件即可，例如可以采用压力变送器。控压件332与反应釜的内部相通，并根据第一监控器340或第二监控器350发出的指令调整反应釜内部的压力。该控压件332也采用常规的部件即可，例如抽真空装置、惰性气体供应装置。具体操作可根据实际情况进行实际组合操作。控温组件330分为感压件331和控压件332两部分，分别对反应釜中压力进行采集与调节的步骤。实际操作中，感压件331将采集到的压力信号发送至第一、第二监控器340、350，第一、第二监控器340、350根据压力信号发出调节指示，控压件332进一步根据调节指令调节高温反应釜10内部的温度。其中，第一、第二监控器340、350所发出的调节指令可以是操作人员根据第一、第二监控器340、350显示的温度数值，手动操作所发出的调节指令，也可以是第一、第二监控器340、350根据预存入的温度控制信息，进行自动调节所发出的调节指令。第一监控器340进一步包括控制柜341、智能仪表盘342、以及可控硅功率模块343。控制柜341邻近反应釜设置；智能仪表盘342设置在控制柜3341的内部，分别与感温件3321及感压件331相连，并根据温度信号和压力信号显示相应温度及压力；可控硅功率模块343与智能仪表盘342相对应地设置在控制柜341内，分别与控温件322及控压件332相连，用以发出调节指令。

第二监控器350为PLC温度压力工控机，PLC温度压力工控机分别控温组件320和控压组件330相连，根据温度信号和压力信号显示并记录各时间段的温度及压力，并发出调节中温度和/或压力的调节指令。将第二监控器350设置在远离反应釜的控制室内，操作人员可直接在操作室内对反应现场各反应设备进行总体监控，减少了操作人员现场巡查的次数，降低了人员成本，提高了操作灵活性。另一方面，将第二监控器为PLC温度压力工控机，可智能的控制控温组件和控压组件的调节功能，并记录下个时间段温度和压力的变化，方便操作人员查阅历史记录及各种报表并打印。

第二监控器350通过第一监控器340联结至控温组件320和控压组件330。进一步地，第二监控器350和第一监控器340间通过总线连接。将第二监控器350通过第一监控器340与控温组件320和控压组件330相连，一方面可以简化连接线路，另一方面有利于第一监控器与第二监控器之间相互校对核实。将第二监控器350和第一监控器340间通过总线连接，在有利于信号的良好传输的同时，提高传输总线的使用寿命。在本发明的另一种实施例中，上述高压反应釜温压控制系统中进一步包括设置在反应釜上的温度计360，以及设置在反应釜上的压力表370。优选地，温度计360可以采用双金属温度计、压力表370可采用弹簧管压力表。温度计360和压力表370的设置有利于对反应釜的进一步监控。一方面，在类似于停电等特殊情况下，第一监控器340和第二监控器350都处于瘫痪状态，操作人员可以借助现场反应釜上的温度计360和压力表370进行手动操作，避免危险情况发生。另一方面，温度计360和压力表370的设置，可以用于与第一监控器340和第二监控器350中所显示的温度和压力数据互相验证，避免因一台仪表突然失灵而引发的故障。高压反应釜温压控制系统能够并行的两套监控器，使得操作人员在邻近高压反应釜的现场，及远离高压反应釜的控制室，同时对高压反应釜中温度和压力 进行监控调节，一方面通过控制第一控制器便于现场直接对高温反应釜中温度和压力进行调节，提高了操作灵活性，另一方面通过控制第二控制器便于集中管理反应现场各反应装置，降低人力成本。进一步地，并行的两套监控器的同时使用还可提高了温度、压力控制的精度高，以及高压反应釜的安全系数。

如图3所示，可控硅功率模块包括变压器T、两组可控硅SCR₁、SCR₂以及微控制器K。变压器T具有两个不同变比的第一级次级输出S₁、第二级次级输出S₂。变压器T的初级P接电网主回路，电网主回路电压为u_i，两个次级输出S₁、S₂输出相位相同、电压不同的第一级电压u₁和第二级电压u₂，其中，第一级电压u₁小于第二级电压u₂。两组可控硅SCR₁、SCR₂分别接变压器T的两个次级输出，第一级次级输出S₁、第二级次级输出S₂。可控硅组SCR₁由正相可控硅A₁和负相可控硅B₁组成，可控硅组SCR₂由正相可控硅A₂和一负相可控硅B₂组成。正相可控硅A₁、A₂的阳极分别接变压器T的次级输出S₁、S₂，负相可控硅B₁、B₂的阴极分别接变压器T的次级输出S₁、S₂，正相可控硅A₁、A₂的阴极分别与负相可控硅B₁、B₂的阳极连接在一起，作为可控硅组SCR₁、SCR₂的输出；两组可控硅SCR₁、SCR₂的输出连接在一起，并接需要进行功率调节的负载R；控制器采用微控制器K，微控制器K的相位捕获模块与变压器的次级输出S₁连接，用于获得次级输出电压u₁的相位信息，并根据负载R需要的功率，调节导通角α，输出触发信号给两组可控硅SCR₁、SCR₂。根据需要的功率，调节导通角α，使其在0-π范围内变化，即可实现输出电压在第二级电压与第一级电压范围内的连续调节。本发明基于可控硅的功率调节装置在实现负载电压值连续可调的同时还减小了系统震荡。通过Matlab仿真可以发现，该方法与移相调功相比产生的谐波失真度(THDu)要小得多。谐波失真度(THDu)小，说明谐波分量得到了抑制，功率因数得到了提高，从而减少对电网的污染。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。